JP4964805B2 - 熱可塑性フイルム及びその製造方法、熱処理方法、並びに、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、熱可塑性フイルム及びその製造方法、熱処理方法に関する。また、本発明は、光学特性を有する熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置に関する。

従来、熱可塑性フイルムを延伸し、面内のレターデーション、厚み方向のレターデーションを発現させ、液晶表示素子の位相差膜として使用し、視野角拡大を図ることが実施されている。特に近年ＴＮ液晶表示のテレビ用途への展開のために、液晶表示装置に組み入れたときに高コントラストを実現できる位相差膜が必要とされている。

位相差膜として、熱可塑性フイルムを延伸したものが知られており、例えば縦（長手）方向に延伸する方法（縦延伸）や、横（幅）方向に延伸する方法（横延伸）、或いは縦延伸と横延伸を順に行う方法（逐次２軸延伸）、縦延伸と横延伸を同時に行う方法（同時２軸延伸）が行われていた。しかしこれらの方法では、液晶表示装置に組み入れたときに高コントラストを実現できない、生産性が悪い等の問題があった。例えば特許文献１には、１軸延伸による位相差膜の製造方法が記載されているが、この方法により製造される位相差膜は、遅相軸が縦方向を向いており偏光子、偏光板との貼り合せをＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで行えず生産性が著しく低かった。このため、特許文献２には遅相軸を横方向に向け、さらにＮＺ値が０．９０〜１．２０のフイルムが提案されている。また特許文献３には横延伸と縦緩和を同時に行うことでＮＺ値０．９〜１．１を達成している。しかし、これらの方法では液晶表示装置の画面サイズが大きくなるに従って、サーモ処理後に画面の中央と端でコントラスト差（コントラストむら）が顕在化する上、光もれが発生し、改良が望まれていた。

特開２００１−３０５３４２号公報 特開２００７−１０８５２９号公報 特開２００６−１３３７２０号公報

上述の従来技術の課題を解決すべく、本発明は、大型液晶表示装置に組み入れたときに全面にわたりコントラスト差が発生せず光もれも発生しない熱可塑性フイルム、その熱処理方法及び熱可塑性フイルムの製造方法を提供することを目的とする。

さらに、本発明においては、前記熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム、及びこれらを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の前記目的は以下の構成を有する本発明により達成される。

［１］ 本発明に係る熱可塑性フイルムの熱処理方法は、熱可塑性フイルムを横方向に延伸後、２以上の搬送用ロールが、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下に配置された熱処理ゾーンを、入口側の搬送速度（Ｖ１）と出口側の搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送することを特徴とする。

［２］ ［１］において、前記ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０５〜０．９であることを特徴とする。

［３］ [１]又は[２]において、ロール上でフイルムの両端を固定することを特徴とする。

［４］ ［１］〜［３］のいずれかにおいて、ガラス転移温度（Ｔｇ−２０）℃以上（Ｔｇ＋５０）℃以下で熱処理することを特徴とする。

［５］ ［１］〜［４］のいずれかにおいて、前記横方向の延伸（横延伸）倍率が１．１倍以上３倍以下であることを特徴とする。

［６］ ［１］〜［５］のいずれかにおいて、前記熱可塑性フイルムがセルロースアシレート、シクロオレフィン、ラクトン環含有重合体、ポリカーボネイト系重合体からなることを特徴とする。

［７］ ［１］〜［６］のいずれかにおいて、前記熱可塑性フイルムが溶融製膜法によって製膜されたことを特徴とする。

［８］ ［１］〜［７］のいずれかにおいて、前記熱可塑性フイルムの表面粗さ（Ｒａ）が０．００５μｍ以上０．０４μｍ以下であること特徴とする。

［９］ ［１］〜［８］のいずれかにおいて、前記熱可塑性フイルムがタッチロール製膜法により製膜されたことを特徴とする。

［１０］ ［１］〜［９］のいずれかにおいて、前記熱処理後の熱可塑性フイルムのＲｅが５０〜１５０（より好ましくは７０〜９５ｎｍ）であることを特徴とする。

［１１］ 本発明に係る熱可塑性フイルムは、Ｒｔｈ／Ｒｅ比が０．５以上１未満、幅方向で測定したＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが０．０１以上０．１以下、８０℃２００時間での熱寸法変化が０．００１％以上０．３％以下であることを特徴とする。

［１２］ 本発明に係る熱可塑性フイルムは、［１］〜［１０］のいずれかの熱可塑性フイルムの熱処理方法によって調製されたことを特徴とする。

［１３］ 本発明に係る偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム、液晶表示装置は、上述した本発明に係る熱可塑性フイルムを用いたことを特徴とする。

［１４］ 本発明に係る熱可塑性フイルムの製造方法は、熱可塑性フイルムを横方向に延伸後、２以上の搬送用ロールが、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下に配置された熱処理ゾーンを、入口側の搬送速度（Ｖ１）と出口側の搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送することを特徴とする。

以上説明したように、本発明に係る熱可塑性フイルムによれば、大型液晶表示装置に組み入れたときに全面にわたりコントラスト差を小さくできる上、光もれも抑制できる。

また、本発明に係る熱可塑性フイルムの製造方法及び熱処理方法によれば、上述の特徴を有する熱可塑性フイルムを効率よく製造することができる。

さらに、本発明に係る偏光板、光学補償フイルム、反射防止フイルム、液晶表示装置は優れた光学特性を有する。

以下において、本発明の熱可塑性フイルムとその製造方法、及びその用途について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

先ず、本発明に係る熱可塑性フイルムを説明する前に、熱可塑性フイルムを製造するための本実施の形態に係る製造装置（以下、フイルム製造装置１０と記す）について図１〜図７を参照しながら説明する。

このフイルム製造装置１０は、図１に示すように、液晶表示装置等に使用できる熱可塑性フイルムＦを製造する装置である。熱可塑性フイルムＦの原材料であるペレット状のセルロースアシレート樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネイト樹脂又はラクトン環含有重合体樹脂を乾燥機１２に導入して乾燥させた後、このペレットを押出機１４によって押し出し、ギアポンプ１６によりフィルタ１８に供給する。次いで、フィルタ１８により異物がろ過され、ダイ２０から溶融樹脂（溶融した熱可塑性樹脂）が押し出される。溶融樹脂は、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４で挟まれて押圧成形された後、第１キャスティングロール２８にて冷却固化されて所定の表面粗さのフイルム状とされ、さらに、第２キャスティングロール２６、第３キャスティングロール２７によって搬送されることで未延伸フイルムＦａが得られる。この未延伸フイルムＦａは、この段階で巻き取られてもよいし、連続的に長スパン延伸を行う横延伸３６〜４４に供給されてもよい。また、一度巻き取られた未延伸フイルムＦａを再度横延伸３６〜４４に供給しても、同様の効果が得られる。

横延伸部４２では、図１に示すように、未延伸フイルムＦａが搬送方向と直交する幅方向に延伸され、横延伸フイルムＦｂとされる。横延伸の前に予熱部３６、後に熱固定部４４を設けてもよい。これにより、延伸中のボーイング（光学軸のズレ）を小さくできる。予熱温度は横延伸温度より高いこと、熱固定温度は横延伸温度より低いことが好ましい。すなわち、通常、ボーイングは幅方向中央部が進行方向に向かって凹となるが、予熱温度＞延伸温度、延伸温度＞後熱処理温度でボーイングを低減できる。予熱、後熱処理はどちらか一方でもよく、両方行ってもよい。

横延伸の後に熱処理を行い、ここで縦方向にフイルムを収縮させる。これを行う熱処理ゾーン４６では、図２に示すように、横延伸フイルムＦｂの側端部をチャックで把持しないでＴＤ方向（横方向）には収縮させずＭＤ方向（縦）収縮のみ起こさせるように複数のロール４８ａ〜４８ｄで横延伸フイルムＦｂを搬送する。このとき、図３に示すように、複数のロール４８ａ〜４８ｄは、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下となるように配置される。これによりフイルムとロールの摩擦により横方向の収縮が抑制される。そして、フイルムＦｂは、入口側のロール４８ａによる搬送速度（Ｖ１）と出口側のロール４８ｄによる搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送しながら熱処理される。つまり、フイルムＦｂは熱処理ゾーンにて縦収縮されることとなる。

フイルムＦｂが熱処理ゾーンにて熱処理されることで、配向角、レターデーションが調整された最終製品である熱可塑性フイルムＦが製造される。このフイルムＦは巻取部４９によって巻き取られる。

横延伸の前又は後に縦延伸を行ってもよい。縦延伸は、一対のニップロール間にフイルムを搬送させ、入口側のニップロールの搬送速度より出口側のニップロールの搬送速度を速くすることで達成できる。ニップロール間の距離（Ｌ）と縦延伸入口でのフイルム幅Ｗの比（Ｌ／Ｗ）の大きさで延伸方式が異なり、Ｌ／Ｗが小さいと特開２００５−３３０４１１号公報、特開２００６−３４８１１４号公報記載のような縦延伸方法を採用できる。この方式は、Ｒｔｈが大きくなり易いが装置をコンパクトにすることができる。一方、Ｌ／Ｗが大きい場合は特開２００５−３０１２２５号公報記載のような縦延伸方式を用いることができる。この方式はＲｔｈを小さくできるが、装置が長大になり易い。

図４は、上述のようにして製造された熱可塑性フイルムＦが適用される液晶表示装置５０の概略構成図である。

液晶表示装置５０は、偏光板５２、液晶セル５４、偏光板５６が順に積層されて構成されており、偏光板５６には、拡散板５８を介して導光板６０が装着される。導光板６０には、バックライト６２からの照明光が導入される。

偏光板５２は、偏光子６６を反射防止フイルム６４及び光学補償フイルム６８で挟み込んで構成される。液晶セル５４は、ガラス基板７０に対して、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素が形成されたカラーフィルタ７２が装着され、次いで、液晶層７４、ＴＦＴ層７６及びガラス基板７８が順に配置される。偏光板５６は、偏光子８２を光学補償フイルム８０及び保護フイルム８４で挟み込んで構成される。

この場合、図１に示すフイルム製造装置１０によって製造された熱可塑性フイルムＦは、液晶表示装置５０を構成する反射防止フイルム６４、光学補償フイルム６８、８０、保護フイルム８４として使用することができる。

＜本発明の特徴＞
次に、本発明に係る熱可塑性フイルムとその製造方法についてさらに詳細に説明する。

本発明は、サーモ処理後のコントラストの低下がＲｔｈ／Ｒｅ比及びＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジに由来することを明らかにして本発明に至った。なお、サーモ処理とは、８０℃で２００時間の乾燥処理を指す。

Ｒｔｈ／Ｒｅ比は、０．５以上１未満が好ましく、より好ましくは０．５５以上０．９以下、さらに好ましくは０．６以上０．８以下である。この範囲を超えても下回ってもサーモ処理後のコントラストが低下する。

本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は、各々、波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換することで測定することができる。

測定されるフイルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）が算出される。

Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）、フイルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフイルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲによって算出される。

なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値をあらわす。式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ −−−式（２）

測定されるフイルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフイルムの場合には、以下の方法によってＲｔｈ（λ）を算出することができる。

Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フイルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。

主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示すると、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲは、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。また、ＮＺ値はＮＺ＝０．５＋（Ｒｔｈ／Ｒｅ）から算出される。

さらに幅方向で測定したＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが０．０１以上０．１以下であることが好ましく、より好ましくは０．０１以上０．０９以下、さらに好ましくは０．０２以上０．０８以下である。Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジとは幅方向に２０等分した点の測定値の最大値と最小値の差を指す。これにより大型画面に組み込んだ際でもサーモ処理後の画面内のコントラストむらを抑制できる。

Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジがこの範囲を超えるとサーモ処理後に面内のコントラストむらが増大する。一方、この範囲を下回ると下記理由により好ましくない。すなわち、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジを小さくするには後述の縦収縮処理量を増やす必要があり、これに伴い幅方向にトタン板状にフイルムが変形し、これがサーモ処理で顕在化しコントラストむらを増加させるためである。

さらにサーモ処理後の光もれの原因がサーモ処理前後の熱可塑性フイルムの寸法変化に起因することを本発明では明らかにした。サーモ処理で寸法変化が生じると、液晶表示装置内で貼り合せているガラス板との間に寸法差に由来する応力が発生し、これが光弾性変化を発生し、この結果光もれが発生する。

サーモ処理に伴う熱寸法変化は０．００１％以上０．３％以下であり、より好ましくは０．００３％以上０．２５％以下、さらに好ましくは０．００５％以上０．２％以下である。この範囲を超えると光もれが増大し、この範囲を下回っても光もれが増大する。これはガラス板も寸法変化するため、この範囲を下回ってもガラス板との間に寸法差が発生するためである。

このような熱可塑性フイルムを調製する上でのポイントは、フイルムを横方向（ＴＤ）に延伸した後、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下に配置された熱処理ゾーンを、入口側の搬送速度（Ｖ１）と出口側の搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送しながら熱処理することを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法である。

均一性の要求される光学フイルムを横延伸により作成する場合は、テンターで行われる。延伸により伸ばされる分、物質収支を合わせるため厚み低下、直交方向（ＭＤ）のネックインが発生する。しかし、テンター延伸ではＭＤ方向にフイルムに搬送張力が掛かっておりネックインが起き難く、その分だけ厚み低下が発生する。これにより厚み方向に圧縮され面配向が進みＲｔｈが増加しＲｅより大きくなる。

このようにテンター延伸直後はＲｔｈ＞Ｒｅであり、これをＭＤにのみ収縮させることでＲｅを低下させずにＲｔｈだけを低下させることができる。すなわち、ＭＤ、ＴＤともに収縮させるとＲｅ、Ｒｔｈともに低下し、Ｒｔｈ＞Ｒｅだが、ＭＤのみを低下させると面内配向（Ｒｅ）は変化せず、厚みのみが増加しＲｔｈのみ低下させることができる。この結果Ｒｔｈ＜Ｒｅを実現できる。

このようなＲｔｈ低下のための延伸後のＭＤ収縮は、上述した特許文献２及び３では、同時２軸延伸機を用い横延伸後テンター内で（クリップに把持したまま／特許文献２、３に記載の延伸と縦収縮をテンター内であるいは同時に行うことは横延伸がクリップで把持しているため縦収縮もクリップに把持していることを示す）ＭＤ方向のクリップの搬送速度を遅くすることで縦方向に収縮させることで達成している。しかし、この方法ではＭＤ方向に収縮できるように、予め隣接するクリップ間に隙間を設けて横延伸する必要があり、この結果、クリップ部分で把持された部分と、クリップ間で把持されなかった部分に延伸むらが発生しＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが大きくなり易い。これに併せて面内の熱寸法変化むらも増加し易い。熱寸法変化むらはコントラストむらや光もれを引起しやすく好ましくない。熱寸法むらとは幅方向で５等分した点でＭＤ、ＴＤ方向で測定した１０点の熱寸法変化中の最大値と最小値を平均値で割り百分率で示した値であり、１０％以下が好ましく、より好ましくは７％以下、さらに好ましくは５％以下である。

さらに幅方向に向かい合った一対のクリップの間と、クリップで把持されていない部分で収縮処理時の収縮挙動に差が発生する。これはクリップで把持されていない部分はＭＤ方向の収縮に加えてＴＤ方向にも収縮できる。一方、一対のクリップの間はＴＤには全く収縮できない。このようにＴＤには延伸に伴う残留歪が発生し易く、これがサーモ処理によりＴＤの熱収縮を引起す。この熱収縮に伴い物質収支を合わせるためＭＤは伸張する。これらの寸法変化が光もれを引き起す。このように、テンター内で、すなわち、同時にクリップに把持して縦収縮させるとフイルム内に残留歪が発生し易く、これがサーモで開放されサーモ処理後のＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジや熱寸法変化、熱寸法変化むらが大きくなり易かった。

これに対し本発明では、横延伸が終了しテンターから出た後（チャックから外した後）縦方向に収縮させ、テンター内では収縮させない。すなわち、両端がチャックで把持されていないため、全幅に亘って均等に縦収縮させることができる。このため、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジが大きくなり難く、熱寸法変化むらも抑制できる。

このように、チャックで把持しないでＴＤ方向に収縮させずＭＤ（縦）収縮のみ起こさせることが本発明のポイントである。ＭＤのみを収縮させＴＤに収縮させないために、本発明では熱処理ゾーン中に配置した複数のロールに熱可塑性フイルムをラップさせながら通過させる。これにより、ロールとフイルムの摩擦によってＴＤ方向の収縮を抑制することができる。このとき、入口側の搬送速度（Ｖ１）を出口側の搬送速度より遅らせ、Ｖ２／Ｖ１を０．６以上０．９９９以下、より好ましくは０．６５以上０．９９以下、より好ましくは０．６５以上０．９５以下、さらに好ましくは０．７以上０．８５以下にすることでＭＤのみを収縮可能である。この範囲を上回ると縦収縮ができずＲｔｈ／Ｒｅが本発明の範囲を上回り好ましくない。この範囲を下回るとロール上で熱可塑性フイルムがスリップを起こし擦り傷が発生し好ましくない。このようなＶ２／Ｖ１は入口側のロール搬送速度を、出口側のロール搬送速度より遅らせることで達成することができる。

フイルムのＴＤ収縮を抑制するために必要な摩擦力を得るために、フイルムがロール上をラップしている長さ（Ｄ）とロール間の長さ（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）は０．０１以上３以下が好ましく、より好ましくは０．０３以上１以下、さらに好ましくは０．０５以上０．５以下である。この範囲を超えるとロール間が長くなり摩擦力が低下しＴＤ収縮が発生しＲｅが低下、Ｒｔｈ／Ｒｅが本発明の範囲を上回り好ましくない。さらにＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱収縮むらも増大し好ましくない。これはロール間が長いとフイルムの両端のほうが中央部に比べ収縮し易く（フイルムを中央、両端と３分割して考えた場合、中央は両端により拘束されているが、両端は一端を中央にしか拘束されておらず縦収縮し易い事に因る）、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱収縮むらが大きくなり易い。

一方、比（Ｇ／Ｄ）がこの範囲未満ではＴＤ方向の収縮が全く発生せずフイルム内に残留歪が発生し易く、その結果、ＴＤの熱収縮、これに伴うＭＤの伸張が発生し、熱寸法変化が本発明の範囲を超え好ましくない。すなわち、縦収縮以外にも僅かに横（ＴＤ）収縮させることで熱寸法変化の発生、熱寸法変化むらを抑制することができる。このような熱寸法変化は、上述のように光漏れの原因となる。さらにＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジも増大し好ましくない。これは縦収縮できる長さが十分でなく、全面が均一に縦収縮できないためＲｅ，Ｒｔｈにむらが発生しＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが大きくなるためである。

ロールと熱可塑性フイルムの間の摩擦力を十分に得るために熱可塑性フイルムの表面粗さ（Ｒａ）は０．００５μｍ以上０．０４μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．００７μｍ以上０．０３５μｍ以下、さらに好ましくは０．００９μｍ以上０．０３０μｍ以下である。この範囲を超えると十分な摩擦力が発生せず、Ｒｔｈ／Ｒｅが本発明の範囲を上回り、一方この範囲を下回るとロールとの軋みで擦り傷が発生する上、ＴＤ方向の緩和が殆ど発生せず熱寸法変化が増大しその結果光もれが発生し好ましくない。この表面粗さは、延伸、縦収縮後の熱可塑性フイルムを測定した値を指す。本来、縦収縮処理中の表面粗さが摩擦力に反映されるが、縦収縮処理前後で表面粗さが変化しないため縦収縮後の値を用いた。

このような表面を持つフイルムは後述のタッチロール製膜法により達成できる。これはキャストした直後のフイルムを両面から表面の平滑なロールで挟み込むことで、これを用いない場合に比べ高い平滑性を達成でき上述の表面粗さを実現できる。

このような縦収縮を行う場合のロールの数は２本以上１００本以下が好ましく、より好ましくは３本以上５０本以下、さらに好ましくは４本以上２０本以下である。好ましいロールの直径は５ｃｍ以上１００ｃｍ以下が好ましく、より好ましくは１０ｃｍ以上８０ｃｍ以下、さらに好ましくは１５ｃｍ以上６０ｃｍ以下である。

さらに、本発明では、ロール上でフイルムの両端を固定することが好ましい。「固定する」とは、幅方向の寸法変化を１０％以下にすることを指す。これには、ロールの両端、もしくは全幅に静電印加を行なってもよく、ロールの両端あるいは全面をサクションドラムとしフイルムを吸引することで行ってもよい。また、ロール上に端部もしくは全幅にわたってニップロールを設置し、フイルムを固定してもよい。ニップロールの本数は１本のロールに１本以上２０本以下設置するのが好ましく、より好ましくは２本以上１０本以下である。さらに、ロールをエキスパンダーロールとすることも好ましい。これらの方法は単独で実施してもよく、組合わせて実施してもよい。

縦収縮の温度はガラス転移温度（Ｔｇ−２０）℃以上（Ｔｇ＋５０）℃以下が好ましく、より好ましくは（Ｔｇ−１０）℃以上（Ｔｇ＋４０）℃以下、さらに好ましくは（Ｔｇ−５）℃以上（Ｔｇ＋３５）℃以下である。この範囲を超えるとＲｅが低下し易くＲｔｈ／Ｒｅが１を超え易い。一方、この範囲を下回るとＲｔｈ，Ｒｅとも低下せずＲｔｈ／Ｒｅが本発明の範囲を上回る。また延伸中の残留歪を充分に解消しきれず熱寸法変化が増大し光もれが増加し易い。

このような縦収縮は熱可塑性フイルムを通過させるロール内部に熱媒を通して加熱してもよく、熱可塑性フイルムの上部に設置した熱源（ＩＲヒーター、ハロゲンヒータ等）から加熱してもよく、温調風を導入した熱処理ゾーン内で実施してもよい。

このような収縮処理に要する時間は特に限定されないが、１秒以上１０分以下が好ましく、より好ましくは５秒以上８分以下、さらに好ましくは１０秒以上５分以下である。

このようにして得た熱可塑性フイルムのＲｅは２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下、さらに好ましくは４０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下、特に好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、最も好ましくは７０ｎｍ以上９５ｎｍ以下である。

また本発明の熱処理後に得られた熱可塑性フイルムは以下の２式で特定される領域の光学特性を満たすものでもよい。
Ｒｔｈ＝（−３／８）Ｒｅ＋８０
Ｒｔｈ＝（−３／８）Ｒｅ＋１００
（但し、Ｒｅは−１０〜１５０ｎｍであり、特に好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、最も好ましくは７０ｎｍ以上９５ｎｍ以下である。）

以下に本発明を順を追って説明を加える。

（１）熱可塑性フイルムの素材
本発明で使用する熱可塑性フイルムは特に限定されないが、好ましくはセルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイトが挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンであり、さらに好ましくは付加重合によって得られた環状オレフィンである。

（ａ）セルロースアシレート
セルロースアシレートは例えば特開２００１−１８８１２８号公報、特開２００６−１４２８００号公報、特開２００７−９８９１７号公報記載のものを使用でき、全アシル置換度は２．１以上３．０以下が好ましく、アセチル基の置換度は０．０５以上２．５以下が好ましく、より好ましくは０．０５以上０．５以下あるいは１．５以上２．５以下である。プロピオニル置換度は０．１以上２．８以下が好ましく、より好ましくは０．１以上１．２以下あるいは２．３以上２．８以下である。

（ｂ）環状オレフィン
環状オレフィンはノルボルネン系化合物から重合されるものが好ましい。この重合は開環重合、付加重合いずれの方法でも行える。付加重合としては例えば特許３５１７４７１号公報記載のものや特許３５５９３６０号公報、特許３８６７１７８号公報、特許３８７１７２１号公報、特許３９０７９０８号公報、特許３９４５５９８号公報、特表２００５−５２７６９６号公報、特開２００６−２８９９３号公報、国際公開第２００６／００４３７６号パンフレットに記載のものが挙げられる。特に好ましいのは特許３５１７４７１号公報に記載のものである。

開環重合としては国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報、特許３２２０４７８号公報、特許３２７３０４６号公報、特許３４０４０２７号公報、特許３４２８１７６号公報、特許３６８７２３１号公報、特許３８７３９３４号公報、特許３９１２１５９号公報記載のものが挙げられる。なかでも好ましいのが国際公開第９８／１４４９９号パンフレット、特許３０６０５３２号公報記載のものである。

これらの環状オレフィンの中でも付加重合のものの方がより好ましい。

（ｃ）ラクトン環含有重合体
下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有するものを指す。

一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。

一般式（１）のラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０重量％、より好ましくは１０〜７０重量％、さらに好ましくは１０〜５０重量％である。

一般式（１）で表されるラクトン環構造以外に、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２ａ）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。

一般式（２ａ）中、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ⁵基、又は−Ｃ−Ｏ−Ｒ⁶基を表し、Ａｃ基はアセチル基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。

例えば、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット、特開２００７−７０６０７号公報、特開２００７−６３５４１号公報、特開２００６−１７１４６４号公報、特開２００５−１６２８３５号公報記載のものを用いることができる。

（ｄ）ポリカーボネイト系樹脂
ジヒドロキシ成分とカーボネート前駆体とを界面重合法又は溶融重合法で反応させて得られるものであり、例えば、特開２００６−２７７９１４号公報に記載のものや特開２００６−１０６３８６号公報、特開２００６−２８４７０３号公報記載のものが好ましく用いることができる。

（ｅ）添加剤
これらの熱可塑性フイルムには、可塑剤としてアルキルフタルリルアルキルグリコレート類、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類、多価アルコール類を０〜２０質量％添加できる。安定剤としてホスファイト系安定剤（例えばトリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）フォスファイト、トリス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト）、フェノール系安定剤（たとえば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチルテトラキス［．３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、４，４−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１^,−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エポキシ化合物、チオエーテル化合物を０〜３質量％添加できる。マット剤としてシリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、炭酸カルシウム、クレイ等の無機微粒子、架橋アクリル、架橋スチレン等の有機微粒子を０〜１０００ｐｐｍ添加できる。また紫外線吸収剤（例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］）や赤外線吸収剤、レターデーション調整剤を添加することも好ましい。

（２）熱可塑性フイルムの製膜
本発明で使用するフイルムは溶融製膜、溶液製膜、いずれの方法でも使用できるが、より好ましいのは溶融製膜法によるものである。

（ａ）溶融製膜法
ｉ）ペレット化
前記熱可塑性樹脂と添加物とは溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。

ペレット化は前記熱可塑性樹脂と添加物を乾燥した後、２軸混練押出機を用い１５０℃〜３００℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを空気中あるいは水中で固化し裁断することで作製できる。また、押出機による溶融後水中に口金より直接押出ながらカットする、アンダーウオーターカット法等によりペレット化を行ってもかまわない。

押出機は単軸スクリュー押出機、非かみ合い型異方向回転二軸スクリュー押出機、かみ合い型異方向回転二軸スクリュー押出機、かみ合い型同方向回転二軸スクリュー押出機等を用いることができる。押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは２０ｒｐｍ〜７００ｒｐｍである。押出滞留時間は１０秒以上１０分以内、より好ましくは２０秒間〜５分以内である。

好ましいペレットの大きさは１０ｍｍ³〜１０００ｍｍ³がこのましく、より好ましくは３０ｍｍ³〜５００ｍｍ³である。

ｉｉ）混練溶融
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を減少させることが好ましい。好ましい乾燥温度は４０〜２００℃、さらに好ましくは６０〜１５０℃である。これにより含水率が１．０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがさらに好ましい。

乾燥したペレットは押出機の供給口を介してシリンダー内に供給され混練、溶融される。シリンダー内は供給口側から順に、供給部（領域Ａ）、圧縮部（領域Ｂ）、計量部（領域Ｃ）とで構成される。押出機のスクリュー圧縮比は１．５〜４．５が好ましく、シリンダー内径に対するシリンダー長さの比（Ｌ／Ｄ）は２０〜７０が好ましく、シリンダー内径は３０ｍｍ〜１５０ｍｍが好ましい。押出温度は１９０〜３００℃が好ましい。さらに残存酸素による溶融樹脂の酸化を防止するため、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのも好ましい。

ｉｉｉ）濾過
樹脂中の異物濾過のためブレーカープレート式の濾過やリーフ型ディスクフィルタを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は１段で行ってもよく多段濾過でもよい。濾過精度は１５μｍ〜３μｍが好ましくさらに好ましくは１０μｍ〜３μｍである。濾材はステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成は、線材を編んだもの、金属粉末を焼結したもの（焼結濾材）が使用でき、中でも焼結濾材が好ましい。

ｉｖ）ギアポンプ
吐出量の変動を減少させ厚み精度を向上させるために、押出機とダイの間にギアポンプを設けることが好ましい。これによりダイ内の樹脂圧力変動幅を±１％以内にできる。

ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。

ｖ）ダイ
前記のように構成された押出機によって溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。またダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためスタティックミキサーを入れることも好ましい。Ｔダイ出口部分のクリアランスは一般的にフイルム厚みの１．０〜１０倍がよく、好ましくは１．２〜５倍である。

ダイは５〜５０ｍｍ間隔で厚み調整可能であることが好ましい。また下流のフイルム厚み、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも有効である。単層製膜装置以外にも、多層製膜装置を用いて製造も可能である。

このようにして、樹脂が供給口から押出機に入ってからダイから出るまでの滞留時間は３分〜４０分が好ましく、さらに好ましくは４分〜３０分である。

ｖｉ）キャスト
ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂（メルト）をキャスティングドラム上で冷却固化し、フイルムを得る。

このとき、ダイとキャスティングドラムの間を遮蔽し風の影響を抑制することが好ましい。

メルトがキャスティングドラムに接触する際、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等を用い、キャスティングドラムとメルトとの密着を上げることが好ましく、中でもタッチロール法が好ましい。このような密着向上法はメルトの全面に実施してもよく、一部に実施してもよい。

タッチロール法とは、キャストドラム上にタッチロールを置いてフイルム表面を整形するものである。このとき、タッチロールは通常の剛性の高いものではなく、弾性を有するものが好ましい。これにより過剰な面圧により表面凹凸を本発明易の範囲以下にすることを抑制できる。このためには、ロールの外筒厚みを通常のロールよりも薄くすることが必要であり、外筒の肉厚Ｚは、０．０５ｍｍ〜７．０ｍｍが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜５．０ｍｍ、さらに好ましくは０．３ｍｍ〜３．５ｍｍである。タッチロールは金属シャフトの上に設置し、その間に熱媒（流体）を通してもよく、外筒と金属シャフトの上に間に弾性体層を設け、外筒の間に熱媒（流体）を満たしたものが挙げられる。タッチロールによる押付けは弱いほうがＲｔｈをより低減でき好ましいが小さすぎると本発明の表面粗さを達成できず、一方大きすぎると表面粗さは小さくなるがＲｔｈが増加し易い。このためタッチロールの面圧は０．１ＭＰａ〜５ＭＰａが好ましく、より好ましく０．２ＭＰａ〜３ＭＰａ、さらに好ましくは０．３ＭＰａ〜２ＭＰａである。ここでいう面圧とはタッチロールを押し付けている力を熱可塑性フイルムとタッチロールの接触面積で割った値である。

タッチロールの温度は６０℃〜１６０℃、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃に設定するのが好ましい。このような温度制御はこれらのロール内部に温調した液体、気体を通すことで達成できる。このように内部に温調機構を有するものがより好ましい。

タッチロールの材質は金属であることが好ましく、より好ましくはステンレスであり、表面にメッキを行うことも好ましい。一方、ゴムロールやゴムでライニングした金属ロールではゴム表面の凹凸が大きすぎ、上記の表面凹凸を持つ熱可塑性フイルムを製膜できず好ましくない。

タッチロール、キャスティングロールの表面は、算術平均高さＲａが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。

タッチロールは例えば特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開第９７／２８９５０号パンフレット、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報記載のものを利用できる。

キャスティングドラム（ロール）は複数本用いて徐冷することがより好ましい（このうち前記タッチロールを用いるのは最上流側（ダイに近い方）の最初のキャスティングロールにタッチさせるように配置する）。一般的には３本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は１００ｍｍ〜１５００ｍｍが好ましく、より好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１ｍｍ〜１００ｍｍ、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。

この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分〜１００ｍ／分が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分〜８０ｍ／分、さらに好ましくは２０ｍ／分〜７０ｍ／分である。

製膜幅は０．７ｍ〜３ｍが好ましく、１ｍ〜２ｍがさらに好ましい。製膜後（未延伸）の厚みは４０μｍ〜３００μｍが好ましく、より好ましくは６０μｍ〜２５０μｍ、さらに好ましくは８０μｍ〜２００μｍである。

ｖｉｉ）トリミング、厚みだし加工、巻取り
このようにして製膜した後、両端をトリミングすることも好ましい。トリミングで切り落とした部分は破砕し、再度原料として使用してもよい。

また、片端あるいは両端に厚みだし加工（ナーリング処理）を行うことも好ましい。厚みだし加工による凹凸の高さは１μｍ〜５０μｍが好ましく、より好ましくは３μｍ〜２０μｍである。厚みだし加工は両面に凸になるようにしても、片面に凸になるようにしても構わない。厚みだし加工の幅は１ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。押出し加工は室温〜３００℃で実施できる。

巻き取る前に片面或いは両面にラミフイルムを付けることも好ましい。ラミフイルムの厚みは５μｍ〜１００μｍが好ましく、１０μｍ〜５０μｍがより好ましい。材質はポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン等、特に限定されない。

好ましい巻き取り張力は２ｋｇ／ｍ幅〜５０ｋｇ／幅、より好ましくは５ｋｇ／ｍ幅〜３０ｋｇ／幅である。

（溶液製膜）
ｉ）溶解
溶液製膜では使用する熱可塑性樹脂に応じて溶剤を選択し、樹脂の高濃度溶液（ドープ）を調製する。セルロースアシレート、ポリカーボネートにはジクロロメタン系溶剤が好ましく使用され、例えば特開２００１−１８８１２８号公報の段落［００４４］に記載の溶剤が使用できる。またシクロオレフィンの場合、ジクロロメタン、炭化水素系溶剤（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン等）が使用でき、例えば特開２００７−１０８５２９号公報の段落［０１８０］に記載のものを使用することができる。

これらのドープ中の熱可塑性樹脂の濃度は５質量％以上４０質量％以下が好ましく、より好ましくは１０質量％以上３０質量％以下である。このとき、上述の添加剤を一緒に溶解するのが好ましい。

溶解のために冷却・昇温法を用いてもよい。冷却・昇温法は、特開平１１−３２３０１７号公報、特開平１０−６７８６０号公報、特開平１０−９５８５４号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平１１−３０２３８８号公報の方法を用いることができる。

ｉｉ）溶液製膜
調製されたドープを一旦貯蔵し脱泡した後、高精度ポンプ（例えば加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧型ダイに送り口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の支持体（バンド、ドラム）上に均一に流延する。このとき単層で流延してもよく２種以上で多層流延してもよい。支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を剥離する。支持体（バンド、ドラム）は−３０℃から３０℃にしておくのが好ましい。剥離したウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥した後、トリミングした後ナーリング（型押し）加工を行った後巻き取り機で所定の長さに巻き取る。

製膜幅は０．７ｍ〜３ｍが好ましく、１ｍ〜２ｍがさらに好ましい。製膜後（未延伸）の厚みは４０μｍ〜３００μｍが好ましく、より好ましくは６０μｍ〜２５０μｍ、さらに好ましくは８０μｍ〜２００μｍである。

このような溶液製膜は公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載の方法も用いることができる。

［延伸工程］
このようにして溶融製膜、溶液製膜した熱可塑性フイルムを横延伸する。好ましい延伸倍率は１．１倍以上３倍以下、より好ましくは１．２倍以上２．５倍以下、さらに好ましくは１．３倍以上２．３倍以下である。なお、延伸倍率とは延伸後の長さを延伸前の長さで割った値を指す。

延伸温度は（Ｔｇ−１０）℃以上（Ｔｇ＋５０）℃以下が好ましく、より好ましくは（Ｔｇ−５）℃以上（Ｔｇ＋４０）℃以下、さらに好ましくはＴｇ以上（Ｔｇ＋３０）℃以下である。

このような横延伸の前後の一方あるいは両方に縦延伸を組合わせることも好ましい。好ましい縦延伸の温度は（Ｔｇ−１０）℃以上（Ｔｇ＋４０）℃以下、より好ましくはＴｇ以上（Ｔｇ＋２０）℃以下である。好ましい延伸倍率は１．０５倍以上２．５倍以下、より好ましくは１．１倍以上１．８倍以下であるが、横延伸倍率より小さいことが好ましく、より好ましくは横延伸倍率の０．８倍以下である。

これらの延伸は残留溶剤を含まないで（０．１質量％以下）実施することが必要である。残留溶剤を含むとフイルム面内からの揮散むらが発生しＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ（ばらつき）が大きくなるためである。

延伸後のフイルムの厚みは２０μｍ〜１５０μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１２０μｍ、さらに好ましくは４０μｍ〜１００μｍである。

［縦収縮］
延伸後のフイルムを上述のように縦収縮する。これは延伸に続いてオンラインで行ってもよく、延伸後一度巻き取ってから行ってもよい。

［フイルムの加工］
このようにして得た本発明の熱可塑性フイルム単独で使用してもよく、これらと偏光板と組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。これらは以下の工程により達成できる。

（表面処理）
（１）セルロースアシレートフイルム
表面処理を行うことによって、各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上させることができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ鹸化処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。

これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理である。

アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく（浸漬法）、鹸化液を塗布してもよい（塗布法）。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分間から１０分間通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。

塗布法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、濡れ性向上のためアルコール系溶媒を用いるのが好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、ＫＯＨ、ＮａＯＨ等を用いることができる。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。鹸化条件は、室温で５秒〜５分が好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。鹸化反応後、水洗することが好ましい。塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を連続して行うことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、例えば特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに記載の内容が挙げられる。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は前記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。

これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

（２）セルロースアシレート以外の本発明の熱可塑性フイルム
セルロースアシレート以外の本発明の熱可塑性フイルムは、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。

これらの中でも好ましいのがグロー放電処理、コロナ処理、火炎処理であり、さらに好ましいのがコロナ処理である。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は前記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。

これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

（機能層の付与）
本発明の熱可塑性フイルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学異方性層（光学補償層）の付与、反射防止層の付与（反射防止フイルム）である。

＜光学異方性層＞
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ´００、ＦＭＣ７−２のＰ４１１〜４１４等に記載されている。

光学異方性層は、支持体上に直接液晶性化合物から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性化合物から形成する。配向膜は、１０μｍ以下の膜厚を有することが好ましい。

光学異方性層に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。光学異方性層は、液晶性化合物及び必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。本発明の配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。

（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。

なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。すなわち、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。

棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。

棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。

（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃ．Ｓ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（５）で表わされる化合物であることが好ましい。

一般式（５）
Ｄ（−ＬＱ）_r
一般式（５）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、ｒは４〜１２の整数である。

円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（又はＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。

一般式（５）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。

二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。

Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−、
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−。

一般式（５）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）の例を以下に示す。

重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ７、Ｑ８、Ｑ１５、Ｑ１６、Ｑ１７）又はエポキシ基（Ｑ６、Ｑ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１、Ｑ７、Ｑ８、Ｑ１５、Ｑ１６、Ｑ１７）であることが最も好ましい。具体的なｒの値は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）と支持体の面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（すなわち、透明支持体に垂直な）方向で、且つ、偏光膜の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。

ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。

ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー等を挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

ディスコティック液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。

前記光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物とともにポリマーを含有していてもよい。該ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。

照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

前記光学異方性層は、前記液晶性化合物の少なくとも一種と、所望により重合性開始剤、フッ素系ポリマー等の添加剤を含有する塗布液を調製し、該塗布液を配向膜表面に塗布・乾燥することで形成することができる。

フッ素系化合物としては、従来公知の化合物が挙げられるが、具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載のフッ素系化合物等が挙げられる。

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

均一性の高い光学補償フイルムを作製する場合には、前記塗布液の表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

［偏光板］
（偏光膜）
本発明の偏光板に使用可能な偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、又はバインダとヨウ素もしくは二色性色素とからなる偏光膜が好ましい。

偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダ中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダ分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。

汎用の偏光子は、例えば、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダ中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダ中に浸透させることで作製することができる。

汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。

上記のように、バインダ厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置では、観察されなくなる。

偏光膜のバインダは架橋していてもよい。架橋しているバインダは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダ間で反応させて偏光膜を形成することができる。

また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてバインダ間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダ間を架橋することにより形成することができる。

架橋は一般に、ポリマー又はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。

偏光膜のバインダは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びそれらのコポリマー（例、アクリル酸／メタクリル酸重合体、スチレン／マレインイミド重合体、スチレン／ビニルトルエン重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル重合体、エチレン／酢酸ビニル重合体）が含まれる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。

ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、９５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。

変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。共重合変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−Ｓｉ（ＯＨ）₃、Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯ−、−ＳＯ₃Ｎａ、−Ｃ₁₂Ｈ₂₅を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−ＳＨ、−ＳＣ₁₂Ｈ₂₅を導入することができる。変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。

ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコール及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。

ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。

バインダの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、もしくは二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。

バインダは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダ中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダ層中に１．０質量％を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。すなわち、架橋剤の残留量が多い偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。

架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号公報に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。

二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。

二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。二色性色素は、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩又はアミン塩として用いられる。２種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、あるいは黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜又は偏光板が、単板透過率及び偏光率とも優れており好ましい。

液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。

偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜を、接着剤を介して配置することも可能である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。

（偏光板の製造）
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。

通常の傾斜角度は４５度である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５度でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。

延伸法の場合、延伸率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。なお。ここでいう延伸率とは、延伸前にフイルムに標点を付けておき、その延伸前の長さ（Ｌ）と延伸後の長さ（Ｌ‘）の比（Ｌ’／Ｌ）で表される。

延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフイルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダフイルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダ溶液の流量に左右の差をつけることができる。

以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダフイルムが製造される。

ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフイルムのラップ角度は、０．１〜９０度が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０度以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。

長尺フイルムをラビング処理する場合は、フイルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフイルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０度の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０度が好ましい。４５度が特に好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の光学補償フイルム及び偏光板は、種々のモードの液晶表示装置に用いることができる。以下、各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について説明する。

（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。

セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホメオトロピック配向（円盤面が寝ている水平配向）のディスコティック液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向（長軸の傾きが偏光膜との距離に伴って変化している配向）のディスコティック液晶性化合物で補償することができる。

また、セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホモジニアス配向（長軸が寝ている水平配向）のディスコティック液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向のディスコティック液晶性化合物で補償することもできる。

ホメオトロピック配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が８５〜９５度の状態で配向している。

ホモジニアス配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が５度未満の状態で配向している。

ハイブリット配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が１５度以上であることが好ましく、１５度〜８５度であることがさらに好ましい。

（透明）支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層、さらにはホメオトロピック配向したディスコティック液晶性化合物とホモジニアス配向した棒状液晶性化合物の混合体からなる光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が４０ｎｍ〜２００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が０〜７０ｎｍであることが好ましい。

ホメオトロピック配向（水平配向）しているディスコティック液晶性化合物層及びホモジニアス配向（水平配向）している棒状液晶性化合物層に関しては、特開平１２−３０４９３１号及び同１２−３０４９３２号の各公報に記載されている。ハイブリット配向しているディスコティック液晶性化合物層に関しては、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性化合物を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各公報に開示されている。棒状液晶性化合物が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。

ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性化合物が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。

黒表示にＴＮモードと液晶の配向は同じ状態であるため、好ましい態様もＴＮモード対応を同じである。ただし、ＴＮモードに比べ、ＯＣＢモードの方がセル中央部で液晶性化合物が立ち上がった範囲が大きいために、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層について、若干のレターデーション値の調整が必要である。具体的には、（透明）支持体上のディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。

（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性化合物が実質的に垂直に配向している。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性化合物を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性化合物を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示において、液晶セル中の棒状液晶性化合物は、そのほとんどが、立ち上がった状態であるため、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層で液晶性化合物を補償し、別に、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向し、棒状液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の透過軸方向との角度が５度未満である光学異方性層で偏光板の視角依存性を補償することが好ましい。

ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。

（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。

（ａ）反射防止層の付与（反射防止フイルム）
本発明の熱可塑性フイルムの上に反射防止層を付与してもよい。反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けてなる。

屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。

上述したような塗布による反射防止フイルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フイルムも挙げられる。

本発明の熱可塑性フイルムは前記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

（ａ−１）塗布型反射防止フイルムの層構成
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有するように設計される。

高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層との間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。

例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。

また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（ａ−２）高屈折率層及び中屈折率層
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダを少なくとも含有する硬化性膜から成る。

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

さらに、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

また、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

（ａ−３）低屈折率層
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。

例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等）が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、前記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（ａ−４）ハードコート層
ハードコート層は、反射防止フイルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。

ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。

前記硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また、加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、１Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

（ａ−５）前方散乱層
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。前記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。

例えば、前方散乱係数を特定化した特開平１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。

（ａ−６）その他の層
前記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

（ａ−７）塗布方法
反射防止フイルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。

（ａ−８）アンチグレア機能
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を、塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

［測定法］
以下に本発明で使用した測定法について記載する。

（１）Ｒｔｈ／Ｒｅ比、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ
（ａ）製膜フイルムの両端５ｃｍずつスリットした後、全幅に亘り等間隔で２０点サンプリング（３ｃｍ×３ｃｍの正方形）した。この時正方形の各辺をＭＤ（製膜方向）、ＴＤ（幅方向）に平行に切り出した。

（ｂ）サンプルフイルムを２５℃・相対湿度６０％に５時間以上調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、上述のようにサンプルフイルム表面に対し垂直方向および、フイルム面法線から±５０°まで１０°ずつ傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した。

（ｃ）垂直（法線）方向から面内のレターデーション（Ｒｅ）、垂直方向、±１０〜５０°方向の測定値から厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を算出した。

（ｄ）これらの各測定点のＲｔｈ／Ｒｅ比の平均値を「Ｒｅ／Ｒｔｈ比」とした。また、２０点のＲｔｈ／Ｒｅ比の中で最大値と最小値の差を「Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ」とした。

（２）熱寸法変化、熱寸法変化むら
（ａ）下記サンプルを全幅を５等分した点でサンプリングする。
ｉ）ＭＤサンプル：ＭＤ１５ｃｍ×ＴＤ５ｃｍ
ｉｉ）ＴＤサンプル：ＴＤ１５ｃｍ×ＭＤ５ｃｍ

（ｂ）各サンプルを２５℃６０％ｒｈで３時間以上調湿し、この環境中で１０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する。これをＬ１とする。

（ｃ）各サンプルを８０℃ｄｒｙ２００時間放置後、２５℃６０％ｒｈで３時間以上調湿し、この環境中で１０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する。これをＬ２とする。

（ｄ）下記式からＭＤ，ＴＤの各点（１０点）の熱寸法変化を測定し、この平均値を熱寸法変化とする。
熱寸法変化（％）＝１００×｜Ｌ２−Ｌ１｜／Ｌ１

（ｅ）上記１０点中の熱寸法変化（絶対値）の最大値と最小値の差を、１０点の熱寸法変化の平均値で割り百分率でしめしたものを熱寸法変化むらした。

（３）表面粗さ
コンパクトレーザー干渉計（フジノン（株）製 Ｆ６０１）を用いてＲａを測定した。

（４）ガラス転移温度（Ｔｇ）
走査型示差熱量計（ＤＳＣ）の測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れた。これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温した（２ｎｄ−ｒｕｎ）。２ｎｄ−ｒｕｎでベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

１．未延伸フイルムの調製
（１）セルロースアシレート系フイルム
（ａ）溶融製膜フイルム
特開２００７−９８９１７の実施例１のセルロースアセテートプロピオネートフイルム（厚み１００μｍ）を調製した。これをフイルム＃ＣＭとした。このＴｇは１４６℃であった。

特開２００７−１６９５８８号公報の実施例Ｂの実施例１０１に従いセルロースアシレートフイルム（厚み＝１００μｍ、Ｔｇ＝１３１℃）を調製した。これをフイルム＃ＣＮとした。

（ｂ）溶液製膜フイルム
特開２００１−１８８１２８の実施例１に記載のフイルムＮｏ．１（セルロースアセテートプロピオネート：厚み１００μｍ）を調製した。これをフイルム＃ＣＳとした。このＴｇは１５０℃であった。

（２）シクロオレフィン系フイルム
（ａ）溶融製膜フイルム
下記樹脂を用い溶融製膜を実施した。

樹脂Ａ：ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳ６０１３（Ｔｇ＝１３０℃）
樹脂Ｂ：三井化学（株）製ＡＰＥＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ＝１４５℃）
樹脂Ｃ：ＷＯ９８／１４４９９の実施例１の化合物（Ｔｇ＝１３６℃）
樹脂Ｄ：特開２００７−１０８５２９実施例中の合成例１に記載の「樹脂Ａ−１」（Ｔｇ＝１６５℃）
樹脂Ｅ：三井化学（株）製ＡＰＥＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ＝１２５℃）

これらを１１０℃の真空乾燥機で乾燥し含水率を０．１％以下とした後、１軸混練押出し機を用い２６０℃で溶融しギアポンプから送り出した後、濾過精度５μｍのリーフディスクフィルタにて濾過し、スタティックミキサーを経由してスリット間隔０．８ｍｍ、２７０℃のハンガーコートダイから、（Ｔｇ−５）℃、Ｔｇ℃、（Ｔｇ−１０）℃に設定した３連のキャストロール上にメルト（溶融樹脂）を押出した。この時、最上流側のキャストロールに下記面圧でタッチロールを接触させ、厚み１００μｍの未延伸フイルムを製膜した。タッチロールは特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、Ｔｇ−５℃に調温した（但し薄肉金属外筒厚みは２ｍｍとした）。

この後、巻き取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ２０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、幅は１．５ｍで３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。

樹脂 タッチロール圧
フイルム＃ＯＭ１ 樹脂Ａ（付加重合系） ０ＭＰａ（タッチロール使用せず）
フイルム＃ＯＭ２ 樹脂Ａ（付加重合系） ０．１ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ３ 樹脂Ａ（付加重合系） １ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ４ 樹脂Ａ（付加重合系） ４．５ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ５ 樹脂Ａ（付加重合系） ６ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ６ 樹脂Ｂ（付加重合系） １ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ７ 樹脂Ｃ（開環重合系） １ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ８ 樹脂Ｄ（開環重合系） １ＭＰａ
フイルム＃ＯＭ９ 樹脂Ｅ（付加重合系） １ＭＰａ

（ｂ）溶液製膜フイルム
特開２００７−１０８５２９号公報記載の製造例に従い厚み１００μｍのフイルム＃ＯＳを調製した。これは上記フイルム＃ＯＭ８と同一樹脂を使用しており、Ｔｇは１６５℃である。

２．横延伸・縦収縮
上記未延伸フイルムを表１、２の倍率でＴｇ＋５℃で横方向にテンター延伸した。この後、表１記載の方法で縦収縮を行った。縦収縮には表１、２に記載のＧ／Ｄとなるように直径４０ｃｍのロールを１０本配置した熱処理ゾーン内で行った。また一部の水準は横延伸前にＴｇ＋１０℃で表１、２記載の延伸倍率で縦延伸を行った。なお表中、縦延伸倍率＝１は縦延伸を行っていないことを意味する。

このようにして横延伸、縦収縮した熱可塑性フイルムを上記の方法でＲｅ（幅２０点の平均値），Ｒｔｈ／Ｒｅ比、Ｒｅ／Ｒｔｈ比のレンジ、表面粗さ、熱寸法変化、熱寸法変化むら、擦り傷を測定し表１、表２に記載した。なお、擦り傷は１００ｍを目視検査し強弱を評価した。

また、本発明を実施したものは、特開２００７−１０８５２９号公報の実施例１と同様にして測定した配向角はいずれも９０±１°であり遅相軸はＴＤ配向していた。

表１には、熱寸法変化率として上述のように８０℃２００ｈｒでの測定値を記載したが、５００ｈｒまで時間を延ばし熱処理したが殆ど同じ値となった。

なお、表１の実施例１−２７〜２８は、実施例１−２と同条件で縦収縮処理の際ロール上でフイルムを固定したものである。実施例１−２７は両端部（各全幅の５％）を静電印加（エッジピニング）しフイルムを固定した。これには春日電機製静電エッジピニング装置（直流安定化電源ＰＳＥー２００５Ｎと電極ＨＤＥ−２０Ｒ−５４）を用い、ピニングの電圧は−１０ｋＶで実施した。実施例１−２８はロールをサクションドラムにすることでフイルム全幅を固定した。実施例１−２９はロール上にロール径の１／１０のニップロール（ロール径＝Ｘ）をロール上に接触している長さ（ラップ長＝Ｙ）に対しＹ／Ｘ本設置した。なお、ニップロールは全幅の５％の長さのものを用い、両端に設置した。

３．表面処理
（１）セルロースアシレートフイルム
２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、いずれも６０〜６５ｍＮ／ｍであった。

（２）セルロースアシレートフイルム以外のフイルム
下記条件でコロナ放電処理を行った。
電極：ＶＥＴＡＰＯＮＥ社製 Ｃｏｒｏｎ−Ｐｌｕｓ
ジェネレーター：ＣＰ１Ｃ
出力：９００Ｗ
フイルム搬送速度：６ｍ／分

４．光学異方性層用の配向膜の作製
これらの熱可塑性フイルム上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコータで２８ｍＬ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。

（１）配向膜塗布液組成
下記の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部

（２）光学異方性層の作製
配向膜上に、下記塗布液を、＃３．２のワイヤーバーを１１７１回転でフイルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、３０ｍ／分で搬送されている上記ロールフイルムの配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶化合物層にあたる膜面風速がフイルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フイルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。光学異方性層の厚みは１．３μｍであった。

また、得られた光学補償シートの弾性率を測定したところ２．４ＭＰａであった。

（光学異方性層の塗布液組成）
下記の組成物を、９７質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。

下記化学式のディスコティック液晶性化合物（１） ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．３４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．１１質量部
下記化学式のフルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．５６質量部
下記化学式のフルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．０６質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５質量部
ディスコティック液晶性化合物（１）

偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、及び法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出されなかった。

（３）偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フイルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。

光学補償シートを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

前記のように鹸化処理を行った光学補償シートを、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアシレートフイルムと組合せて前記の偏光膜を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアシレートフイルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。このとき、偏光膜及び偏光膜両側の保護膜はロール形態で作製されているため各ロールフイルムの長手方向が平行となっており連続的に貼り合わされる。従って光学補償シートロール長手方向（セルロースアシレートフイルムの流延方向）と偏光子吸収軸とは平行な方向となった。

５．ＴＮ液晶パネルでの評価
ＴＮ型液晶パネルを使用した液晶表示装置（ＭＤＴ−１９１Ｓ、三菱電機（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の作製した偏光板を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。このようにして作成したＴＮ液晶パネルを８０℃ｄｒｙ２００時間サーモ処理した。サーモ後、２５℃６０％ｒｈに８時間調温、調湿後、液晶表示装置に対し下記評価を実施した。

（ａ）コントラスト、コントラストむら
通常の室内蛍光灯照明下で、分光放射輝度計を用いて、液晶表示装置の下側からの透過輝度の測定を行った。このときの観察角度は液晶表示装置を水平に置いたまま、法線から０〜８０°の方向に極角を１０°毎で固定し、それぞれの角度で液晶表示装置の方位角を１０°毎に変えながら輝度を液晶表示装置のＯＮ時とＯＦＦ時のそれぞれ測定し、ＯＮ時とＯＦＦ時の輝度の比であるコントラスト比を算出した。全ての極角、方位角でのコントラスト比を全方位について足し合わせた値を点数評価して、表１，２にコントラストとして記載した。また、この測定を画面全域を１００等分した点で測定し、コントラストの最大値と最小値の差を平均値で割り百分率で示したコントラストむらを評価した。

（ｂ）光もれ
液晶表示装置を黒表示させ、目視で光漏れが視認できる範囲を求め、この面積を表示画面全面積に対する百分率で表した。

（ｃ）評価結果
表１には、縦収縮処理等の工程条件の検討結果を示した。

本発明１−１〜１−７、比較例１−１〜１−２に縦収縮でのＧ／Ｄ比の効果を示したが、本発明の範囲を下回る比較例１−１はＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが増大しコントラストむらが増大した。また、熱寸法変化増大し、光もれも増大した。また、Ｇ／Ｄ比が本発明の範囲を超えると比較例１−２のようにＲｔｈ／Ｒｅ比が増大しコントラストが低下した。一方、Ｇ／Ｄ比が本発明の範囲内のものは良好な特性を示した。

本発明１−８〜１−１０、本発明１−２３，１−２４、比較例１−３、１−４はＶ２／Ｖ１の効果を示した。Ｖ２／Ｖ１が本発明の範囲を上回ると比較例１−３に示すようにＲｔｈ／Ｒｅ比が増加し、コントラストが低下した。Ｖ２／Ｖ１が本発明の範囲を下回ると熱寸法変化が小さくなりすぎ、光もれが増加し、縦収縮処理中の擦り傷も増加した。一方、Ｖ２／Ｖ１が本発明の範囲内のものは良好な特性を示した。

本発明１−１１〜１−１４は縦収縮温度の効果を示した。（Ｔｇ−２０）℃から（Ｔｇ＋５０）℃が好ましく、この範囲を超えるとＲｔｈ／Ｒｅ比が大きくなり易くコントラストが低下傾向を示した。上記温度範囲を下回るとＲｔｈ／Ｒｅを低下させることができない上、熱寸法変化も大きくなりやすく、コントラストが低下傾向、光漏れが増加傾向を示した。一方縦収縮処理温度が本発明の範囲内のものは良好な特性を示した。

本発明１−１５〜１−１９は、タッチロール条件を変え表面粗さを変えた結果を示した。表面粗さが小さすぎるとロールとのきしみが強すぎ、本発明１−１９に示すように擦り傷が発生した。表面粗さが大きいと本発明１−１５に示すようにＲｔｈ／Ｒｅ比、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジが増加し、コントラストがやや低下、コントラストむらがやや増加した。一方表面粗さが０．０００５−０．００４のものは良好な特性を示した。

本発明１−２０〜１−２２に延伸倍率の効果を示した。本発明の好ましい範囲（１．１倍以上３．０倍以下）では良好な性能を示したが、３．１倍延伸の本発明１−２２ではＲｔｈ／Ｒｅ比、熱寸法変化が増加し、コントラストむら、光もれがやや増加した。

本発明１−２、１−２７、１−２８、１−２９は縦収縮時に両端を固定した効果を示した。両端を固定しなかった本発明１−２に比べ、両端を固定した本発明１−２７、１−２８、１−２９（それぞれエッジピニング法、サクションドラム法、ニップロール法）は液晶表示特性（コントラストむら、光漏れ）が改善された。

表２にフイルムの種類の効果を示した。

溶融製膜法間でのフイルム素材間の比較する。本発明２−３、２−４、２−１３の付加重合系シクロオレフィンがＲｅ発現性が高く、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジが低く、コントラストむら、光もれが少なく特に優れていた。

次に優れていたのが、本発明２−５、２−６で示した開環重合系のシクロオレフィンであった。これらは付加重合系（本発明２−３、２−４）に比べＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱寸法変化が増加しコントラストむら、光もれがやや増加した。

本発明２−１、２−２、２−１２のセルロースアシレートは、付加、開環重合のシクロオレフィンに比べＲｅが発現し難い上、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱寸法変化が増加し、コントラストがやや低下、コントラストむら、光もれがやや増加した。

ラクトン環含有重合体、ポリカーボネイト系重合体を用い本発明を実施した場合の例を本発明２−８〜２−１０に示した。ポリカーボネイトは、特開２００６−２７７９１４の実施例１、特開２００６−２８４７０３の実施例１に従い調製した（但し、後者は縦延伸を行わず未延伸フイルムを調製した）。ラクトン環含有重合体は、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット記載の実施例１に従い製膜した。但し、フイルム幅は１．５ｍで製膜した。これらの原反（未延伸フイルム）の厚みは全て１００μｍで調製した。これらも良好な特性が得られたが、本発明２−１０、２−８、２−９の順に良好な結果が得られた。

製膜法を比較したものが本発明２−１と２−２（セルロースアシレート）、本発明２−６、２−７（シクロオレフィン）であり、いずれも溶融製膜法に比べ溶液製膜法のほうがＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱寸法変化をやや低くでき、コントラストむら、光もれがやや低くできた。

本発明２−７と比較例２−１は、同じフイルム同士で本発明の縦収縮を行ったものと、特開２００７−１０８５２９号公報記載の実施例１の方法（同時２軸延伸機を用い横延伸と同時にテンター内で縦収縮）を比較したものである。本発明２−７はＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱寸法変化を小さくでき、その結果、コントラストむら、光もれを顕著に小さくできる。

比較例２−２は特開２００６−１３３７２０号公報記載の実施例１に従いゼオノア（Ｔｇ＝１３６℃）を横延伸と同時に縦収縮したものである。一方、本発明２−１１は比較例２−２と同様の横延伸倍率、縦収縮を本発明のように横延伸後、本発明の条件（Ｇ／Ｄ）に従ってロール上で縦収縮したものである。本発明２−８はＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジ、熱寸法変化を小さくでき、その結果コントラストむら、光もれを顕著に小さくできる。

６．その他液晶表示素子の作製
本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１号公報の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フイルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、良好な液晶表示素子を得た。

７．低反射フイルムの作製
本発明の延伸熱可塑性フイルムを発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い低反射フイルムを作製したところ、良好な光学性能が得られた。

本実施の形態に係る熱可塑性フイルムを製造するフイルム製造装置を示す概略構成図である。 熱処理ゾーンにおける複数のロールの配置状態を示す斜視図である。 熱処理ゾーンにおける複数のロールのロールラップ長（Ｄ）及びロール間長（Ｇ）を示す説明図である。 本実施の形態に係る熱可塑性フイルムが適用される液晶表示装置の一例を示す概略構成図である。

符号の説明

１０…フイルム製造装置 ２０…ダイ
２４…タッチロール ２８…第１キャスティングロール
４６…熱処理ゾーン ４８ａ〜４８ｄ…ロール
５０…液晶表示装置 ５２、５６…偏光板
６８、８０…光学補償フイルム ８４…保護フイルム
Ｆ…熱可塑性フイルム Ｆａ…未延伸フイルム
Ｆｂ…横延伸フイルム

Claims (13)

1. 熱可塑性フイルムを横方向に延伸後、前記熱可塑性フイルムの側端部を把持しない状態で、２以上の搬送用ロールが、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下に配置された熱処理ゾーンを、入口側の搬送速度（Ｖ１）と出口側の搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送し、前記熱可塑性フイルムを縦方向にのみ収縮させることを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
2. 請求項１記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０５〜０．９であることを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
3. 請求項１又は２に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、ロール上でフイルムの両端を固定することを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   ガラス転移温度（Ｔｇ−２０）℃以上（Ｔｇ＋５０）℃以下で熱処理することを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記横方向の延伸（横延伸）倍率が１．１倍以上３倍以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記熱可塑性フイルムがセルロースアシレート、シクロオレフィン、ラクトン環含有重合体、ポリカーボネイト系重合体からなることを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記熱可塑性フイルムが溶融製膜法によって製膜されたことを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記熱可塑性フイルムの表面粗さ（Ｒａ）が０．００５μｍ以上０．０４μｍ以下であること特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
   前記熱可塑性フイルムがタッチロール製膜法により製膜されたことを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法において、
    前記熱処理後の熱可塑性フイルムのＲｅが５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする熱可塑性フイルムの熱処理方法。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの熱処理方法によって調製され、Ｒｔｈ／Ｒｅ比が０．５以上１未満、幅方向で測定したＲｔｈ／Ｒｅ比のレンジが０．０１以上０．１以下、８０℃２００時間での熱寸法変化が０．００１％以上０．３％以下であることを特徴とする熱可塑性フイルム。
12. 請求項１１記載の熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム、液晶表示装置。
13. 熱可塑性フイルムを横方向に延伸後、前記熱可塑性フイルムの側端部を把持しない状態で、２以上の搬送用ロールが、ロールラップ長（Ｄ）とロール間長（Ｇ）の比（Ｇ／Ｄ）が０．０１以上３以下に配置された熱処理ゾーンを、入口側の搬送速度（Ｖ１）と出口側の搬送速度（Ｖ２）の比（Ｖ２／Ｖ１）が０．６以上０．９９９以下で搬送し、前記熱可塑性フイルムを縦方向にのみ収縮させることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。

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