JP4963515B1 - 可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、このブランクから加工された可変焦点レンズおよびこのレンズを用いた可変焦点メガネ - Google Patents

Abstract

【課題】上下の透明導電膜同士の短絡を防止することが可能な可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、このブランクから加工された可変焦点レンズおよびこのレンズを用いた可変焦点メガネを提供する。
【解決手段】本可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、第１基板１３と、これに対向する第２基板１５と、第１基板１３の表面に製膜された第１透明導電膜２７と、第２基板１５の裏面に製膜された第２透明導電膜３３と、第１基板１３の表面と第２基板１５の裏面との間に配置される可変焦点部５と、第１透明導電膜２７の第１内部電極１７と、第２透明導電膜３３の第２内部電極１９と、第２内部電極１９と対向し第１透明導電膜２７の一部領域をレーザによって分離された第１レーザ分離膜２９と、第１内部電極１９と対向し第２透明導電膜３３の一部領域をレーザによって分離された第２レーザ分離膜３５と、を備えている。
【選択図】図７

Description

本発明は、可変焦点部へ電圧を印加することで焦点を可変とする光学部材に関するものである。

可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、上面が凸湾曲である下基板と、この上面と対向して接合される凹湾曲の下面を有する上基板などを備えている。上下基板の間には、液晶材料からなる可変焦点部が配置されている。

可変焦点メガネは、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクから所定の工程を経て得られる。可変焦点メガネは、可変焦点部へ電圧を印加することで屈折率を変えることができ、例えば、遠近両用メガネとして用いることができる（特許文献１参照）。

米国特許出願公開第２００９／２５６９７７号明細書

上記従来の構成では、以下に示すような問題がある。
すなわち、この可変焦点メガネでは、可変焦点部と上下基板との間に、それぞれ透明導電膜などの薄膜が製膜されている。また、上下基板には、透明導電膜と電気的に接するように、それぞれ内部電極が形成されている。このような構成において、可変焦点部への電圧の印加は、レンズの側面から透明導電膜の内部電極端部に銀ペーストを塗布し、この銀ペーストを外部電極として用いて行われる。しかしながら、上下の透明導電膜間は極めて近接しているため、銀ペーストの塗布によって上下の透明導電膜同士が短絡してしまうおそれがある。

本発明は、上下の透明導電膜同士の短絡を効果的に防止することが可能な商品価値の高い可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、このブランクから加工された可変焦点レンズおよびこのレンズを用いた可変焦点メガネを提供することを目的とするものである。

そして、その目的を達成するために本発明の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、第１基板と、第２基板と、第１透明導電膜と、第２透明導電膜と、可変焦点部と、第１内部電極と、第２内部電極と、第１分離膜と、第２分離膜と、を備えている。第２基板は、第１基板に対向する。第１透明導電膜は、第１基板の表面に製膜されている。第２透明導電膜は、第２基板の裏面に製膜されている。可変焦点部は、第１基板の表面と第２基板の裏面との間に配置されている。第１内部電極は、第１透明導電膜に接続されている。第２内部電極は、第２透明導電膜に接続されている。第１分離膜は、第２内部電極と対向する位置に設けられており、第１透明導電膜の一部領域を分離している。第２分離膜は、第１内部電極と対向する位置に設けられており、第２透明導電膜の一部領域を分離している。

また、本発明の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、第１分離膜および第２分離膜の少なくともいずれか一方は、略コの字形状の切り欠きによって、それぞれその外周の第１透明導電膜および第２透明導電膜と分離されていることが好ましい。

また、本発明の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、第１・第２分離膜の少なくとも一方は、多重のレーザ線によって第１・第２透明導電膜から分離されていることが好ましい。

また、本発明の可変焦点レンズは、第１基板と、第２基板と、第１透明導電膜と、第２透明導電膜と、可変焦点部と、第１内部電極と、第２内部電極と、第１端子および第２端子と、第１分離膜と、第２分離膜と、を備えている。第２基板は、第１基板に対向する。第１透明導電膜は、第１基板の表面に製膜されている。第２透明導電膜は、第２基板の裏面に製膜されている。可変焦点部は、第１基板の表面と第２基板の裏面との間に配置されている。第１内部電極は、第１透明導電膜に接続されている。第２内部電極は、第２透明導電膜に接続されている。第１端子および第２端子は、第１内部電極および第２内部電極に接続されており、可変焦点レンズの側面にそれぞれ設けられている。第１分離膜は、第２内部電極と対向する位置に設けられており、第１透明導電膜の一部領域を分離している。第２分離膜は、第１内部電極と対向する位置に設けられており、第２透明導電膜の一部領域を分離している。

また、本発明の可変焦点レンズは、第１端子と第２分離膜とを接続する第１外部電極と、第２端子と第１分離膜とを接続する第２外部電極と、をさらに備えていることが好ましい。

さらに、本発明の可変焦点レンズは、第１外部電極および前記第２外部電極は、銀ペーストから構成されることが好ましい。

本発明の可変焦点レンズは、所定の回路部とともに可変焦点メガネを構成することもできる。

本発明は、レーザによって透明導電膜の一部領域を分離したことで、上下の透明導電膜同士の短絡を防止することができる。

本発明の実施の形態１に係る可変焦点メガネの斜視図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係るレーザ分離膜形成前の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、その側面図。 本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの斜視図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する第１基板の正面図。（ｂ）は、その側面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する第２基板の正面図。（ｂ）は、その側面図。 （ａ）は、図４の第１基板と図５の第２基板とを組み合わせた可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、その側面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、そのＡ−Ａ線の拡大断面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１における可変焦点レンズの正面図。（ｂ）は、その斜視図。（ｃ）は、（ａ）のレンズに外部電極を塗布した可変焦点レンズの正面図。（ｄ）は、その斜視図。 本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを製造するためのフローチャート。 （ａ）は、本発明の実施の形態２に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する第１基板の正面図。（ｂ）は、その側面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態２に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する第２基板の正面図。（ｂ）は、その側面図。 （ａ）は、図１０の第１基板と図１１の第２基板とを組み合わせた可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、その側面図。

（実施の形態１）
以下に、本発明の一実施形態に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを図面とともに詳細に説明する。図１は、本実施形態の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１（図２（ａ）等参照）からサーフェーシング加工、エッジング加工などの所定の工程を経て得られる可変焦点レンズ１を、可変焦点メガネ３として構成した概略構成図である。

可変焦点レンズ１は、その中心から少し下にずれた下方領域に、液晶保持部２５（図４（ａ）および図４（ｂ）参照）上にコレステリック液晶材料を塗布して構成される可変焦点部５を有している。メガネフレーム７には、図示しない電池およびセンサ回路などを有する回路部９が設けられている。例えば、加速度センサを用いたセンサ回路は、可変焦点メガネ３を装着した人の頭部の上下角度によってオンオフ信号を出力する機能を備えており、可変焦点部５へ印加する電圧を制御する。

このような構成を備えた可変焦点メガネ３は、センサ回路からの信号に基づいて可変焦点部５への電圧の印加が切り換えられる。これにより、可変焦点部５の見かけ上の屈折率が変化することで、可変焦点メガネ３を遠近両用メガネとして機能させることができる。

次に、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の構成について説明する。図２（ａ）は、可変焦点メガネ３のレンズを加工する前の段階である可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の概略正面図、図２（ｂ）は、これに対応する概略側面図である。

可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１は、凸湾曲面の表面と凹湾曲面の裏面とを有している。可変焦点部５は、第１基板１３と第２基板１５とに挟まれるように構成されている。また、第１基板１３の凸湾曲面上および第２基板１５の凹湾曲面上のほぼ全体に渡ってそれぞれ透明導電膜（第１・第２透明導電膜２７，３３（図４（ｂ）および図５（ｂ）参照））などを含む薄膜層２１が製膜されている。第１基板１３および第２基板１５には、これらの透明導電膜と電気的に接し、かつ互いに対向しないように、それぞれ第１内部電極１７および第２内部電極１９が配置されている。第１内部電極１７および第２内部電極１９は、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の外周から内部へ延びるように形成されている。

薄膜層２１は、第１基板１３の凸湾曲面と第２基板１５の凹湾曲面にそれぞれ製膜された透明導電膜を含んでおり、図３に示すように、厚みｔが約１０〜３０μｍである。よって、薄膜層２１は、約５〜２０ｍｍである可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の厚みTに比べて極めて薄い。このため、銀ペーストを内部電極１７，１９の一方へ塗布すれば、これと対向する透明導電膜２７，３３へも銀ペーストが塗布されてしまいやすい。すなわち、例えば、第２基板１５の第２内部電極１９へ銀ペーストを塗布し第２外部電極４７（図８（ａ）等参照）を形成すれば、銀ペーストがこの第２内部電極１９だけでなく、この第２内部電極１９と対向する第１基板１３上の第１透明導電膜２７へも塗布されやすい。

本実施形態の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１では、銀ペーストを塗布してもレンズ用ブランクとしての機能を損なうことなく両透明導電膜２７，３３間の短絡を防止している。以下、この点について詳細に説明する。

図４（ａ）および図４（ｂ）は、第１基板１３の表面概略図およびその側面概略図を示している。第１基板１３は、表面が凸湾曲し裏面が凹湾曲しているプラスチック（チオウレタン）から構成されている。第１基板１３の一部であって凸湾曲面上のほぼ中央には、液晶保持部２５が形成されている。第１基板１３の凸湾曲面上には、第１透明導電膜２７が製膜されている。

第１透明導電膜２７は、その一部領域に、第１レーザ分離膜（第１分離膜）２９と第１内部電極１７とを有している。

第１レーザ分離膜２９は、第１基板１３上に第２基板１５を貼り合わせた時第２内部電極１９と対向する第１基板１３上の位置に、第１基板１３の凸湾曲面上のほぼ全体に製膜された第１透明導電膜２７の一部領域をレーザによって分離して形成されている。すなわち、第１レーザ分離膜２９とその外周領域である第１透明導電膜２７との境界は、レーザによって形成された線によって区画されている。これにより、第１レーザ分離膜２９とその外周の第１透明導電膜２７とが、電気的に非接触な状態にすることができる。

第１内部電極１７は、第１レーザ分離膜２９が形成された部分以外の第１透明導電膜２７と電気的に接触し、第１レーザ分離膜２９とは電気的に非接触となる位置に形成される。

ここで、第１レーザ分離膜２９および第１内部電極１７は、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、左右のレンズ用のセミフィニッシュトブランクの中心を通る直線に対して左右対称に別個独立してそれぞれ形成されている。これは、同じ種類のセミフィニッシュトブランクから左右のレンズをエッジング加工して取り出せるように考慮したものである。例えば、図７（ａ）に示すように、左目用のレンズを加工する場合には、図中の右側のレーザ分離膜２９および内部電極１７を含むようにエッジング加工することができる。

次に、第１基板１３の凸湾曲面と対向する第２基板１５とについて、図５を用いて詳細に説明する。

第２基板１５は、表面が凸湾曲し裏面が凹湾曲しているプラスチック（チオウレタン）から構成されている。そして、第２基板１５の凹湾曲面には、第２透明導電膜３３が製膜されている。

第２透明導電膜３３は、その一部領域に、第２レーザ分離膜（第２分離膜）３５と第２内部電極１９とを有している。

第２レーザ分離膜３５は、第１基板１３の凸湾曲面上に第２基板１５の凹湾曲面を貼り合わせた状態で、第１内部電極１７と対向する位置に形成されている。また、第２レーザ分離膜３５は、レーザによって第２透明導電膜３３と分離されており、その外周の第２透明導電膜３３とは電気的に非接触となっている。

第２内部電極１９は、第２レーザ分離膜３５の外周の第２透明導電膜３３と電気的に接触し、第２レーザ分離膜３５と電気的に非接触となる位置に形成される。

図６（ａ）および図６（ｂ）は、第１基板１３の液晶保持部２５（図４（ａ）および図４（ｂ）参照）上にコレステリック液晶材料を塗布するとともに、液晶保持部２５を除く第１基板１３の凸湾曲面上に接着剤を塗布した後、第１基板１３と第２基板１５とを貼り合わせて構成される可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１を示している。

図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、可変焦点部５は、第１レーザ分離膜２９の外周の第１透明導電膜２７と第２レーザ分離膜３５の外周の第２透明導電膜３３との間に挟まれるように配置されている。換言すれば、セミフィニッシュトブランク１１を表面から見たときに、可変焦点部５の第１透明導電膜２７および第２透明導電膜３３への投射領域は、それぞれ第１レーザ分離膜２９および第２レーザ分離膜３５と重ならないように構成されている。

次に、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の構成について、図７（ａ）および図７（ｂ）を用いてより詳細に説明する。

図７（ａ）は、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の表面概略図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）のＡ−Ａ線の拡大断面図である。第１基板１３と第２基板１５との間には、図７（ｂ）に示すように、第１基板１３側から順に、第１透明導電膜２７、第１絶縁層３７、接着剤層３９、第２絶縁層４１および第２透明導電膜３３が製膜されている。そして、第１内部電極１７は、第１基板１３と第１透明導電膜２７との間に、第２内部電極１９は、第２基板１５と第２透明導電膜３３との間に形成されている。

第１レーザ分離膜２９は、接着剤層３９を介して第２内部電極１９全体に対向する第１透明導電膜２７の一部領域を含むように、レーザによって第１透明導電膜２７から分離されて形成されている。同様に、第２レーザ分離膜３５は、接着剤層３９を介して第１内部電極１７全体と対向する第２透明導電膜３３の一部領域を含むように、レーザによって第２透明導電膜３３から分離されて形成されている。

すなわち、第１レーザ分離膜２９の製膜領域の第２基板１５への投影領域には、第２内部電極１９全体が含まれるように構成されている。そして、第２レーザ分離膜３５の製膜領域の第１基板１３への投影領域には、第１内部電極１７全体が含まれるように構成されている。

本実施形態では、第１レーザ分離膜２９（第２レーザ分離膜３５）は、接着剤層３９を介して第２内部電極１９（第１内部電極１７）全体に対向するように配置されている。しかし、第１レーザ分離膜２９（第２レーザ分離膜３５）は、接着剤層３９を介して第２内部電極１９（第１内部電極１７）の一部と対向するような構成であってもよい。

また、第１レーザ分離膜２９および第２レーザ分離膜３５を形成したレーザによる加工跡は、略コの字形状となっている。これにより、レーザによって、第１・第２レーザ分離膜２９・３５を、第１・第２透明導電膜２７，３３から容易に分離することができる。レーザによる略コの字形状の加工跡は、第１レーザ分離膜２９および第２レーザ分離膜３５のいずれか一方の形成時にのみ適用してもよい。

このように、第１レーザ分離膜２９および第２レーザ分離膜３５は、略コの字形状の加工跡と可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の外周の一部とによって、それぞれ第１透明導電膜２７および第２透明導電膜３３に対して電気的に独立した構成となっている。

次に、上述した可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１から所定の加工を経て得られるメガネ用の可変焦点レンズ４３について述べる。

図８（ａ）および図８（ｂ）は、エッジング加工されたレンズをメガネフレーム７へ組み込むための処置を施した状態を示している。

図８（ａ）および図８（ｂ）は、側面の外周に加工を施した左目用の可変焦点レンズ４３を示している。より具体的には、可変焦点レンズ４３は、エッジング面の全域に渡って可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の厚み方向のほぼ中央部を加工除去して構成される。

可変焦点レンズ４３は、図７（ａ）に示すように、第１内部電極１７、第２内部電極１９、第１レーザ分離膜２９および第２レーザ分離膜３５を、それぞれ長手方向において２分するようにエッジング加工されている。そして、上述した可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の側面中央部の加工除去処理を通じて、第１内部電極１７および第２内部電極１９の電極端子（それぞれ第１端子５１および第２端子４９）が、図８（ａ）および図８（ｂ）に示すように、可変焦点レンズ４３の側面の外周上に位置するように加工される。

図８（ｃ）および図８（ｄ）は、幅ｔ（図８（ｂ）参照）の範囲内に存在する第１内部電極１７および第２内部電極１９の端子に、銀ペーストが塗布された状態を示している。これにより、第１・第２内部電極１７，１９に対して、それぞれ第１外部電極４５および第２外部電極４７が形成される。

なお、右目用のレンズについても同様に、上述した加工を施してメガネフレーム７にはめ込むとともに、レンズの外部電極を電池およびセンサ回路などを有する回路部へ接続すればよい。これにより、可変焦点メガネ３を構成することができる。

次に、図９を用いて、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の製造方法について説明する。

ステップ１から６は、第１基板１３の製造工程を示し、ステップ７から１１は、第２基板１５の製造工程を示している。そして、ステップ１２は、第１基板１３と第２基板１５との貼り合わせの工程を示している。

ステップ１では、第１内部電極１７を形成する。より具体的には、第１基板１３に対して、第１内部電極１７を形取ったマスキングシートを被せ、スピンコートにより第１内部電極１７を製膜した後、マスキングシートを除去する。ここで、第１内部電極１７は、第１基板１３の端部（外周）から所定の距離だけ内部に入った位置へ延びるように形成することが好ましい。これにより、レンズの加工に際して、レンズの多くの領域を無駄なく利用できる。

ステップ２では、第１基板１３の凸湾曲面上に、スパッタリングによって第１透明導電膜２７を製膜する。本実施形態では、第１透明導電膜２７の厚みは１０〜３０ｎｍであることが好ましい。ここで、本実施形態では、第１透明導電膜２７の製膜よりも先に第１内部電極１７の形成を行ったが、これらの順序は逆であってもよい。

ステップ３では、レーザのパターニングを実施して、第１レーザ分離膜２９を形成する工程である。ここでは、レーザによって、第１・第２基板１３，１５を組み合わせた状態で、第２基板１５に形成される第２内部電極１９と対向する第１基板１３上の位置に、第１レーザ分離膜２９を形成する。なお、ここで用いられるレーザは、第１透明導電膜２７だけを除去できるものが好ましい。すなわち、第１基板１３の一部まで除去してしまうものや、第１透明導電膜２７とこの一部領域である第１レーザ分離膜２９との電気的非接触が不十分となるようなレーザを用いることは好ましくない。本実施形態では、波長が１０６４ｎｍのＹＶＯ４レーザを用いて、１８ｗ、６０ｋHZとして第１レーザ分離膜２９を形成した。

ステップ４では、第１基板１３上に第１絶縁層３７を製膜する工程として、スパッタリングによって第１絶縁層３７を製膜する。ここで、この第１絶縁層３７は、二酸化珪素膜から構成されている。

ステップ５では、第１基板１３の液晶保持部２５の上表面上に第１配向膜（図示せず）を製膜して配向処理を行う。

ステップ６では、第１配向膜上に液晶材料を塗布し、液晶材料が塗布された領域を除いた第１絶縁層３７の領域上に接着剤を塗布する。

第２基板１５は、液晶および接着剤の塗布工程（ステップ６）を除き、第１基板１３の製造工程（ステップ１から５）と同様の工程であるため、ステップ７からステップ１１の説明を省略する。

なお、第２基板１５には液晶保持部２５が存在していないが、第１・第２基板１３，１５を組み合わせた状態において液晶保持部２５と対向する第２基板１５の凹湾曲面の領域には、図示しない第２配向膜が製膜され、配向処理を施される（ステップ１１）。

以上の工程にて、第１基板１３および第２基板１５側に各処理を施した後、第１・第２基板１３，１５を密閉容器へ格納して減圧条件下において接合させる（ステップ１２）。

ここで、第１基板１３と第２基板１５との間に製膜された複数の薄膜層２１は、図３に示すように、厚みｔが約１０〜３０μｍであり、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の厚みT（約５〜２０ｍｍ）に比べて極めて薄い。そのため、第１・第２内部電極１７，１９へ銀ペーストを塗布した場合には、第１・第２基板１３，１５の間の接着剤層３９を介して対向する第２・第１透明導電膜３３，２７へも銀ペーストを塗布してしまうおそれがある。

すなわち、例えば、第２基板１５の第２内部電極１９へ銀ペーストを塗布し外部電極を形成した場合には、銀ペーストが第２内部電極１９だけでなく、接着剤層３９を介して第２内部電極１９と対向する第１基板１３上の第１透明導電膜２７へ塗布されてしまうおそれがある。

本実施の形態では、可変焦点部５に電圧を印加する第１透明導電膜２７と第２透明導電膜３３との短絡防止手段として、第１透明導電膜２７（第２透明導電膜３３）の一部領域を第１レーザ分離膜２９（第２レーザ分離膜３５）としてレーザを用いて分離し、かつ第１レーザ分離膜２９（第２レーザ分離膜３５）が第２内部電極１９（第１内部電極１７）と対向する位置に設けられている。

これにより、第１レーザ分離膜２９（第２レーザ分離膜３５）とそれ以外の第１透明導電膜２７（第２透明導電膜３３）の領域とが電気的に非接触となり、レンズとしての機能をほとんど損なうことなく、可変焦点部５を挟む第１・第２透明導電膜２７，３３同士の短絡を防止することができる。すなわち、第１・第２レーザ分離膜２９，３５と第１・第２透明導電膜２７，３３との境界線をレーザによって形成しているため、可変焦点部５を除く領域全体において、屈折率および透過性が領域によってほとんど変化することのない良好な可変焦点レンズ４３を提供できる。また、第１・第２レーザ分離膜２９，３５と第１・第２透明導電膜２７，３３との境界は、レーザによって第１・第２透明導電膜２７，３３の除去により形成されるため、可変焦点レンズ４３にマスキング面などが目視できる状態で残されることがない。

また、上記構成によれば、メガネ使用やレンズ製造工程などにおいて、薄膜層２１に含まれる膜間の剥離の発生を防止することができる。すなわち、第１・第２透明導電膜２７，３３と第１・第２基板１３，１５との接合力の方が、第１・第２絶縁層（二酸化珪素層）３７，４１と第１・第２基板１３，１５との接合力よりも強い。このため、従来技術のようにマスキングによって透明導電膜のない領域を形成した場合には、膜間において剥離が発生しやすくなってしまう。本実施形態では、レーザによって第１・第２透明導電膜２７，３３を除去しているため、膜間における剥離の発生を極めて少なくすることができる。

さらに、マスク処理によって第１・第２透明導電膜２７，３３を形成しない領域を第１・第２基板１３，１５上に設ける場合と比べて、製造工程における工数を少なくすることができる。

（実施の形態２）
図１０（ａ）から図１２（ｂ）は、本発明の第２実施形態に係る説明図である。ここで、上記実施の形態１と同一の部材、構成には、同一の符号を付してその説明を省略する。

なお、上述した実施の形態１では、第１レーザ分離膜２９とこれ以外の第１透明導電膜２７との境界は略コの字形状であり、レーザによる単線で分離されている。これに対して、本実施の形態では、図１０（ａ）に示すように、第１基板１１３において、レーザによる２重（多重の一例）の境界線によって第１レーザ分離膜（第１分離膜）１２９が形成されている点で異なっている。同様に、図１１（ａ）は、第２基板１１５において、レーザによる２重の境界線により第２レーザ分離膜（第２分離膜）１３５が形成されていることを示している。図１２（ａ）および図１２（ｂ）は、第１基板１１３と第２基板１１５とを貼り合わせた状態を示している。

本実施形態においても、このように構成することで、レーザによる第１・第２透明導電膜２７，３３の一部除去が不完全な場合や、銀ペーストの塗布量が予定された量よりも多い場合でも、第１・第２透明導電膜２７，３３間における短絡をより確実に防止することができる。

なお、上記境界線は二重でなくてもよく、確実性をより期すために二重以上のレーザ線によって構成してもよい。このように境界線を構成した場合でも、第１・第２透明導電膜２７，３３が除去される量は少ないので、メガネレンズとしての使用にあたりマスキング面が視認されることがなく、実用上問題になることはない。

また、本実施形態では、レーザによって第１レーザ分離膜１２９とそれ以外の第１透明導電膜２７との境界線および第２レーザ分離膜１３５と第２透明導電膜３３との境界線を二重としたが、工程の簡略化を考慮し、いずれか片方の境界線だけを二重（多重）としてもよい。

なお、上述した実施の形態１，２では、ともにレーザを用いて第１・第２透明導電膜２７，３３の一部領域を分離する例を挙げて説明した。しかし、本発明はこれに限定されるものではない。

例えば、フォトエッチングやマスキング等の他の手段を用いて、第１透明導電膜の領域を、第１領域と第２領域とに分離し、同様に、第２透明導電膜の領域を、第３領域と第４領域とに分離してもよい。

本発明に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、上下の透明導電膜同士の短絡を効果的に防止できるという効果を奏することから、メガネのレンズやカメラなどの光学部品に含まれるレンズとしてなどに対して広く適用可能である。

１ 可変焦点レンズ
３ 可変焦点メガネ
５ 可変焦点部
７ メガネフレーム
９ 回路部
１１ 可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク
１３ 第１基板
１５ 第２基板
１７ 第１内部電極
１９ 第２内部電極
２１ 薄膜層
２５ 液晶保持部
２７ 第１透明導電膜
２９ 第１レーザ分離膜（第1分離膜）
３３ 第２透明導電膜
３５ 第２レーザ分離膜（第２分離膜）
３７ 第１絶縁層
３９ 接着剤層
４１ 第２絶縁層
４３ 可変焦点レンズ
４５ 第１外部電極
４７ 第２外部電極
４９ 第２端子
５１ 第１端子
１１３ 第１基板
１１５ 第２基板
１２９ 第１レーザ分離膜（第１分離膜）
１３５ 第２レーザ分離膜（第２分離膜）

Claims (7)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に対向する第２基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置される可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   前記第２内部電極と対向する位置に設けられており、前記第１透明導電膜の一部領域を分離した第１分離膜と、
   前記第１内部電極と対向する位置に設けられており、前記第２透明導電膜の一部領域を分離した第２分離膜と、
   を備えている可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
2. 前記第１分離膜および前記第２分離膜の少なくともいずれか一方は、略コの字形状の切り欠きによって、それぞれその外周の前記第１透明導電膜および前記第２透明導電膜と分離されている、
   請求項１に記載の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
3. 前記第１・第２分離膜の少なくとも一方は、多重のレーザ線によって前記第１・第２透明導電膜から分離されている、
   請求項１または２に記載の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
4. 第１基板と、
   前記第１基板に対向する第２基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置される可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   前記第１内部電極および前記第２内部電極に接続されており、レンズの側面にそれぞれ設けられた第１端子および第２端子と、
   前記第２内部電極と対向する位置に設けられており、前記第１透明導電膜の一部領域を分離した第１分離膜と、
   前記第１内部電極と対向する位置に設けられており、前記第２透明導電膜の一部領域を分離した第２分離膜と、
   を備えている可変焦点レンズ。
5. 前記第１端子と前記第２分離膜とを接続する第１外部電極と、
   前記第２端子と前記第１分離膜とを接続する第２外部電極と、
   をさらに備えている、
   請求項４に記載の可変焦点レンズ。
6. 前記第１外部電極および前記第２外部電極は、銀ペーストから構成される、
   請求項５に記載の可変焦点レンズ。
7. 第１基板と、
   前記第１基板に対向する第２基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置される可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   前記第２内部電極と対向する位置に設けられており、前記第１透明導電膜の一部領域を分離した第１分離膜と、
   前記第１内部電極と対向する位置に設けられており、前記第２透明導電膜の一部領域を分離した第２分離膜と、
   を備える可変焦点レンズと、
   前記第１内部電極および前記第２内部電極を通じて前記可変焦点部へ電圧を印加するとともに、この印加電圧を制御する回路部と、
   を含む可変焦点メガネ。
   
   

Images