JP4963364B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
次いで、N−層(1)上に酸化膜(3)を形成し、
次いで、N−層(1)上の酸化膜(3)に第1開口(3a)を形成し、
次いで、酸化膜(3)の第1開口(3a)を用いることによって、P−層(5)をN−層(1)上に形成し、
P−層(5)を形成するためのボロンのドライブインが行われる時に、酸化膜(3)の第1開口(3a)のうち、N−層(1)と接する部分に新たな酸化膜(3b)が形成され、
次いで、N+チャンネルストッパー領域(10)を形成する時に用いられる第2開口(3c)を酸化膜(3)に形成し、
次いで、酸化膜(3)の表面側の部分をガラス質に変質させるためのリンデポジションを行い、
リンデポジションが行われる時に、N−層(1)のうち、酸化膜(3)の第2開口(3c)の下側の部分(1a)にリンが拡散し、
次いで、P−層(5)を形成する時に用いられた酸化膜(3)の第1開口(3a)と同じものを用いることによって、P−層(5)上にP+層(7)を形成し、
P+層(7)を形成する時の熱処理が、P−層(5)を形成する時の熱処理よりも弱くされ、
それにより、P+層(7)がP−層(5)の外縁よりも内側に配置され、
P+層(7)が形成される時に、酸化膜(3)の第2開口(3c)を用いることによって、N+チャンネルストッパー領域(10)が形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
次いで、P−層(5)を形成する時に用いられた酸化膜(3)の縦縞状の第1開口(3a)の一部を、横縞状のレジストマスクによってマスキングした状態でP+層(7)を形成することにより、P−層(5)上にP+層(7)が形成される部分と、P−層(5)上にP+層(7)が形成されない部分とを半導体装置の縦方向に交互に配列し、
それにより、P−層(5)の最表面を概略梯子形状にし、P+層(7)の深さをP−層(5)の深さよりも浅くすることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法が提供される。
2 N+層
3 酸化膜
3a 開口
3b 新たな酸化膜
3c 開口
4 レジスト膜
4a 開口
5 P−層
6 レジスト膜
6a,6b 開口
7 P+層
10 N+チャンネルストッパー領域
12 スクライブライン
20 レジスト膜
20a 開口
Claims (3)
- N+層(2)上にN−層(1)を形成し、
次いで、N−層(1)上に酸化膜(3)を形成し、
次いで、N−層(1)上の酸化膜(3)に第1開口(3a)を形成し、
次いで、酸化膜(3)の第1開口(3a)を用いることによって、P−層(5)をN−層(1)上に形成し、
P−層(5)を形成するためのボロンのドライブインが行われる時に、酸化膜(3)の第1開口(3a)のうち、N−層(1)と接する部分に新たな酸化膜(3b)が形成され、
次いで、N+チャンネルストッパー領域(10)を形成する時に用いられる第2開口(3c)を酸化膜(3)に形成し、
次いで、酸化膜(3)の表面側の部分をガラス質に変質させるためのリンデポジションを行い、
リンデポジションが行われる時に、N−層(1)のうち、酸化膜(3)の第2開口(3c)の下側の部分(1a)にリンが拡散し、
次いで、P−層(5)を形成する時に用いられた酸化膜(3)の第1開口(3a)と同じものを用いることによって、P−層(5)上にP+層(7)を形成し、
P+層(7)を形成する時の熱処理が、P−層(5)を形成する時の熱処理よりも弱くされ、
それにより、P+層(7)がP−層(5)の外縁よりも内側に配置され、
P+層(7)が形成される時に、酸化膜(3)の第2開口(3c)を用いることによって、N+チャンネルストッパー領域(10)が形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 新たな酸化膜(3b)のうち、リンデポジション時にガラス質に変質しない部分をP+層(7)形成前に厚さ1500Å〜2000Å残すことにより、P+層(7)形成時に、リンを新たな酸化膜(3b)よりも下側に拡散させることなく、ボロンのみを新たな酸化膜(3b)よりも下側に拡散させることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 一括露光方式によってレジスト膜(20)に横縞状の開口(20a)を形成することにより、P+層(7)形成用の横縞状のレジストマスクを形成し、
次いで、P−層(5)を形成する時に用いられた酸化膜(3)の縦縞状の第1開口(3a)の一部を、横縞状のレジストマスクによってマスキングした状態でP+層(7)を形成することにより、P−層(5)上にP+層(7)が形成される部分と、P−層(5)上にP+層(7)が形成されない部分とを半導体装置の縦方向に交互に配列し、
それにより、P−層(5)の最表面を概略梯子形状にし、P+層(7)の深さをP−層(5)の深さよりも浅くすることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
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