JP4944182B2 - 基板と基板テーブルとの間のギャップを低減する方法、デバイス製造方法およびリソグラフィ投影装置 - Google Patents
基板と基板テーブルとの間のギャップを低減する方法、デバイス製造方法およびリソグラフィ投影装置 Download PDFInfo
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Description
基板の物理特性を測定すること、
基板の縁部と液浸リソグラフィ装置内の基板を支持する基板テーブルの表面の縁部との間に画定されたギャップを、測定された基板の物理特性に基づいて低減すること、
を含む方法が提供される。
基板の縁部と液浸リソグラフィ装置内の基板を支持する基板テーブルの表面の縁部との間に画定されたギャップを測定すること、
測定に基づいてギャップを低減すること、
を含む方法が提供される。
基板の物理特性をプリアライナで測定すること、
プリアライナからの基板を基板テーブル上にロードすること、
測定された物理特性に基づいて基板の縁部と基板テーブルの表面の縁部との間のギャップを低減すること、
基板をパターン付放射で露光すること、
を含むデバイス製造方法が提供される。
基板を基板テーブルの表面の縁部によって画定された空間内にロードするステップであって、ギャップが基板テーブルの表面の縁部と基板の縁部との間に画定されたこと、
基板テーブル内の基板の物理特性とギャップのサイズを測定すること、
測定された基板の物理特性と測定されたギャップのサイズとに基づいてギャップ低減機構を用いて基板の縁部と基板テーブルの表面の縁部との間のギャップを低減すること、
基板をパターン付放射で露光すること、
を含むデバイス製造方法が提供される。
基板テーブルの表面の縁部によって画定された空間内に基板を支持する基板テーブルと、
測定された基板の物理特性に関する情報に基づいて基板の縁部と基板テーブルの表面の縁部との間に画定されたギャップを低減するギャップ低減機構と、
を備えるリソグラフィ投影装置が提供される。
基板の物理特性とギャップのサイズを測定する測定機構と、
測定機構による測定に基づいて基板の縁部と基板テーブルの縁部との間のギャップを低減するギャップ低減機構と、
を備えるリソグラフィ投影装置が提供される。
基板テーブルの表面の縁部と基板の縁部との間にギャップを画定するために基板テーブルの表面の縁部によって画定された空間内に基板を支持する基板テーブルと、
基板の物理特性とギャップのサイズを測定する測定機構であって、縁部の三次元プロファイルを決定するために基板の縁部の物理特性を測定する測定機構とを含む装置がさらに提供される。
[0039] − 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0040] − パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0041] − 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル又は基板テーブル)WTと、
[0042] − パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (14)
- 液浸リソグラフィ装置内の基板と基板テーブルとの間のギャップを低減する方法であって、
基板の物理特性を測定すること、
基板の縁部と液浸リソグラフィ装置内の基板を支持する基板テーブルの表面の縁部との間に画定されたギャップを、測定された基板の物理特性に基づいて低減すること、
を含み、
前記ギャップの低減が、前記ギャップ内に縁部材を位置決めすることを含む方法。 - プリアライナ上に前記基板をロードすること、
前記基板の物理特性の測定を前記プリアライナ内で実行すること、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記測定された基板の物理特性を前記基板テーブルに関連付けられたギャップ低減機構へ送信すること、
前記基板を前記基板テーブルの表面の内縁部によって画定された空間内にロードすること、
前記ギャップ低減機構を用いて前記測定された基板の物理特性に基づいて前記基板の縁部と前記基板テーブルの表面の縁部との間のギャップを低減すること、
をさらに含む、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記基板の物理特性の測定が、一定の位置に対する前記基板の外縁部の位置を検出することを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基板の物理特性の測定が、前記基板の形状を測定することを含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 液浸リソグラフィ装置内の基板と基板テーブルとの間のギャップを低減する方法であって、
前記基板の縁部と前記液浸リソグラフィ装置内の前記基板を支持する基板テーブルの表面の縁部との間に画定されたギャップを測定すること、
前記測定に基づいて前記ギャップを低減すること、
を含み、
前記ギャップの低減が、前記ギャップ内に縁部材を位置決めすることを含む方法。 - 前記基板を前記基板テーブルの表面の内縁部によって画定された空間内にロードすること、
前記測定を実行すること、
ギャップ低減機構を用いて前記測定に基づいて前記基板の縁部と前記基板テーブルの表面の縁部との間のギャップを低減すること、
を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ギャップの低減が、前記基板の縁部と前記基板テーブルの表面の縁部との間の前記ギャップが最小限になるように、前記基板テーブルの表面の縁部に対して前記基板を位置決めすることを含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記縁部材が操作されると、前記縁部材を所定位置にクランプすることをさらに含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記縁部材の位置決めが、その内部断面寸法を前記基板の断面寸法と実質的に同じサイズに低減することを含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記縁部材が圧縮可能であり、前記縁部材を位置決めすることが、前記縁部材の断面寸法が低減されるような形で前記縁部材を圧縮することを含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- プリアライナ上に基板をロードすること、
前記基板の物理特性を前記プリアライナで測定すること、
前記プリアライナからの前記基板を前記基板テーブル上にロードすること、
前記測定された物理特性に基づいて前記基板の縁部と前記基板テーブルの表面の縁部との間のギャップを低減すること、
前記基板をパターン付放射で露光すること、
を含み、
前記ギャップの低減が、前記ギャップ内に縁部材を位置決めすること
を含むデバイス製造方法。 - 基板テーブルの表面の縁部と基板の縁部との間にギャップを画定するために、前記基板テーブルの表面の縁部によって画定された空間内に前記基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の物理特性と前記ギャップのサイズを測定するように構成された測定機構と、
前記測定機構による前記測定に基づいて前記基板の縁部と前記基板テーブルの縁部との間の前記ギャップを低減するように構成されたギャップ低減機構と、
を備え、
前記ギャップの低減が、前記ギャップ内に縁部材を位置決めすることを含むリソグラフィ投影装置。 - メトロロジーツール用の装置又はリソグラフィ投影装置であって、
基板テーブルの表面の縁部と基板の縁部との間にギャップを画定するために、前記基板テーブルの表面の縁部によって画定された空間内に前記基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の物理特性と前記ギャップのサイズを測定するように構成された測定機構であって、前記縁部の三次元プロファイルを決定するために、前記基板の縁部の物理特性を測定するように構成された測定機構と、
前記測定機構による前記測定に基づいて前記基板の縁部と前記基板テーブルの縁部との間の前記ギャップを低減するように構成されたギャップ低減機構と、を備え、
前記ギャップの低減が、前記ギャップ内に縁部材を位置決めすることを含む装置。
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