JP4932886B2 - ガス処理装置 - Google Patents

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Description

本願は、ガス処理装置に関する。
従来、冷凍系コンプレッサを備えるガス処理装置のシステム構成として、冷媒ガスを循環させて運転するクローズドサイクルシステムが知られている。例えば、下記特許文献1(特に、下記特許文献1の図1参照)に開示されるクローズドサイクルシステムでは、コンプレッサの下流にエキスパンダを設置し、エキスパンダの冷媒ガスの出口から流出した冷媒ガスをコンプレッサの冷媒ガスの入口に戻すことにより、冷媒ガスを再循環させている。このため、クローズドシステムにおいては、エキスパンダの冷媒ガスの出口の圧力が常にコンプレッサの冷媒ガスの入口の圧力よりも高い状態となり、エキスパンダの冷媒ガスの出口の圧力がコンプレッサの冷媒ガスの入口の圧力よりも低くなる運転状態はない。
米国特許出願公開第2008/0148770号明細書
一方、上述した従来のクローズドサイクルシステムにおいては、窒素等の専用の冷媒ガスにより運転を行っているが、プロセスの効率化や装置構成の簡略化等を考慮した場合、冷媒ガスとしてプロセスガスを利用し、同時にプロセスガスを処理する構成が考えられる。このとき、システム構成はオープンサイクルシステムとなり、プロセスガスを上流の設備より冷媒ガスとして利用する。この場合には、プロセスガスの供給元である上流の設備の状態等によりプロセスガスの流量が変化することとなる。
このため、オープンサイクルシステムにおいて、冷媒ガスとしてプロセスガスを利用した場合、上流の設備から供給されるプロセスガスの流量が減少すると、コンプレッサに供給されるプロセスガスの流量が減少して、エキスパンダの出口から流出するプロセスガスの流量も減少してしまう。
そして、コンプレッサへのプロセスガスの流量が減少するとコンプレッサの運転点がサージングに入ってしまうため、コンプレッサ部分だけでリサイクル運転してサージングを回避することが考えられるが、エキスパンダ部分を含むプロセス部分におけるガスの流量が減少してしまうために、プロセス部分のロードが低下して、ガス処理装置の運転が行えなくなってしまう。
以上のことから、本発明は、供給されるプロセスガスの流量に関わらず運転を行うことができるガス処理装置を提供することを目的とする。
上記の課題を解決する第1の発明に係るガス処理装置は、
プロセスガスを圧縮するコンプレッサと、
前記コンプレッサの下流に配置され前記プロセスガスを処理する第1のプロセスと、
前記第1のプロセスの下流に配置され前記プロセスガスを膨張させて動力を得るエキスパンダと、
前記エキスパンダの下流に配置され前記プロセスガスを処理する第2のプロセスと、
前記コンプレッサを駆動する駆動手段と
を備えるガス処理装置において、
前記コンプレッサの前記プロセスガスの入口に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第1の圧力計と、
前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第2の圧力計と、
前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口から、前記コンプレッサの前記プロセスガスの入口に接続される前記プロセスガスを再循環させる再循環流路と、
前記再循環流路に配置され再循環させる前記プロセスガスの圧力を調節する第1の圧力調節弁と、
前記第2の圧力計の下流に配置され前記プロセスガスの圧力を調節する第2の圧力調節弁と、
前記駆動手段の回転速度を測定する回転速度計と、
前記第1の圧力計及び前記第2の圧力計により測定した圧力並びに回転速度計により測定した回転速度に基づき、前記駆動手段の回転速度、前記第1の圧力調節弁及び前記第2の圧力調節弁のうち少なくともいずれかひとつを制御する制御手段と
を備える
ことを特徴とする。
上記の課題を解決する第2の発明に係るガス処理装置は、第1の発明に係るガス処理装置において、
前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口と前記第2の圧力調節弁との間に接続されたプロセスガス出口流路と、
前記プロセスガス出口流路に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第3の圧力計と、
前記プロセスガス出口流路の前記第3の圧力計の上流に配置され前記プロセスガスの圧力を調節する第3の圧力調節弁と
を備え、
前記制御手段は、前記第3の圧力計により測定した圧力に基づき、前記第3の圧力調節弁を制御する
ことを特徴とする。
本発明によれば、供給されるプロセスガスの流量に関わらず運転を行うことができるガス処理装置を提供することができる。
本発明の第1の実施例に係るガス処理装置の構成を示した模式図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置の制御ブロック図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第1のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第2のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータの制御ブロック図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのヒステリシスの入出力特性を示した図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのスイッチの入出力特性を示した図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのレートリミッタの入出力特性を示した図である。 本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。 本発明の第2の実施例に係るガス処理装置の構成を示した模式図である。 本発明の第2の実施例に係るガス処理装置の制御ブロック図である。
以下、本発明に係るガス処理装置を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明に係るガス処理装置の第1の実施例について説明する。
はじめに、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置の構成について説明する。
なお、本実施例に係るガス処理装置の上流にはプロセスガスの供給元となる設備が設置されており、下流には処理後のプロセスガスを利用する設備が設置されているが、ここでの説明は省略する。また、プロセスガスとしては、例えば、窒素や水素や二酸化炭素を含む混合ガスを用いることができる。
図1は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置の構成を示した模式図である。
図1に示すように、本実施例に係るガス処理装置は、上流の設備より供給されたプロセスガスを圧縮するコンプレッサ1を備えている。コンプレッサ1の下流には、コンプレッサ1により圧縮されたプロセスガスに処理を施す第1のプロセス2を備えている。プロセス2の下流には、プロセスガスを膨張させて動力を得るエキスパンダ3を備えている。エキスパンダ3の下流には、エキスパンダ3により膨張させられたプロセスガスに処理を施す第2のプロセス4を備えている。また、本実施例に係るガス処理装置は、コンプレッサ1を駆動する駆動装置5を備えている。
コンプレッサ1のプロセスガスの入口には、プロセスガスの流路である第1の流路20が接続されている。第1の流路20の端部には、プロセスガスの供給元となる上流の設備との接続部であるプロセスガス入口25が設置されている。コンプレッサ1のプロセスガスの出口と第1のプロセス2のプロセスガスの入口との間には、第2の流路21が設置されている。
第1のプロセス2のプロセスガスの出口とエキスパンダ3のプロセスガスの入口との間には、第3の流路22が設置されている。エキスパンダ3のプロセスガスの出口には、第4の流路23が接続されている。第4の流路23の端部には、処理後のプロセスガスを利用する下流の設備との接続部である第1のプロセスガス出口26が設置されている。
第1の流路20上には、コンプレッサ1のプロセスガスの入口の圧力を測定する第1の圧力計(PI1)10が設置されている。第4の流路23上には、第2のプロセス4のプロセスガスの出口の圧力を測定する第2の圧力計(PI2)11が設置されている。また、第2のプロセス4のプロセスガスの出口と第2の圧力計11との間から、プロセスガス入口25と第1の圧力計10との間には、プロセスガスを再循環させる再循環流路24が設置されている。
再循環流路24上には、再循環させるプロセスガスの圧力を調節する第1の圧力調節弁(CV1)12が設置されている。第4の流路23上の第2の圧力計11と第1のプロセスガス出口26との間には、プロセスガスの圧力を調節する第2の圧力調節弁(CV2)13が設置されている。駆動装置5の回転軸には回転速度を測定する回転速度計(SI)14が設置されている。
本実施例に係るガス処理装置は、第1の圧力計10及び第2の圧力計11により測定した圧力並びに回転速度計14により測定した回転速度に基づき、駆動装置5の回転速度、第1の圧力調節弁12及び第2の圧力調節弁13のうち少なくとも1つを制御する制御装置6を備えている。なお、本実施例においては、制御装置6は駆動装置5の回転速度を制御する構成について説明したが、コンプレッサ1のインレットガイドベーンの角度を制御するようにしてもよい。
そして、本実施例に係るガス処理装置における制御装置9は、上流の設備から供給されるプロセスガスの流量が多いときには第2の圧力調節弁13の開度を大きくしてエキスパンダ3における動力の回収量を増大させることができる。また、上流の設備から供給されるプロセスガスの流量が少なくなり、再循環させるプロセスガスが得られない場合には第1のプロセスのプロセスガスの出口の圧力を下げてエキスパンダ3からの動力を得ることにより、ガス処理装置全体における動力を低減することができる。
次に、本実施例に係るガス処理装置の制御方法について詳細に説明する。
図2は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置の制御ブロック図である。
図2に示すように、本実施例に係るガス処理装置における制御装置6は、第1の圧力計10により測定した圧力に応じた信号を出力する第1の圧力制御部(PC1)33と、第1の圧力制御部33からの信号を入力して所定の入出力特性に基づき第1の圧力調節弁12を制御する信号を出力する第1のファンクションジェネレータ(FX1)30と、回転速度計14により測定した回転速度に応じた信号を出力する速度制御部(SC)34と、第1の圧力制御部33からの信号を入力して所定の入出力特性に基づき信号を出力する第2のファンクションジェネレータ(FX2)31と、第2の圧力計11により測定した圧力に応じた信号を出力する第2の圧力制御部(PC2)35と、第1の圧力制御部33からの信号を入力して所定の入出力特性に基づき信号を出力する第3のファンクションジェネレータ(FX3)32を備えている。
図3は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第1のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。
図3に示すように、本実施例に係る制御装置6における第1のファンクションジェネレータ30の入出力特性は、第1の圧力計10からの信号に応じて入力を0%〜100%として設定し、入力が0%のときには出力を100%とし、入力が50%のときには出力を0%とし、入力が0%〜50%の間は直線的に出力を減少させ、入力が50%〜100%の間は出力を0%とする入出力特性を有している。
そして、第1のファンクションジェネレータ30からの信号により第1の圧力調節弁12を制御する。これにより、本実施例に係る制御装置6は、第1の圧力計10により測定した圧力に応じて第1の圧力調節弁12の開度を適宜調節することができる。
図4は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第2のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。
図4に示すように、本実施例に係る制御装置6における第2のファンクションジェネレータ31の入出力特性は、第1の圧力計10からの信号に応じて入力を0%〜100%として設定し、入力が0%〜50%の間は出力を所定のX%とし、入力が100%のときには出力を100%とし、入力が50%〜100%の間は直線的に出力を増加させる入出力特性を有している。
そして、速度制御部34は、第2のファンクションジェネレータ31からの信号と、回転速度計14からの信号とが入力され、第2のファンクションジェネレータ31からの信号と、回転速度計14からの信号とに応じて駆動装置5を制御する。これにより、本実施例に係る制御装置6は、第1の圧力計10により測定した圧力と回転速度計14により測定した回転速度とに応じて駆動装置5の回転速度を適宜調節することができる。
図5は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータの制御ブロック図である。
図5に示すように、本実施例に係る制御装置6における第3のファンクションジェネレータ32は、第1の圧力制御部33からの信号を入力してヒステリシスを持たせて信号を出力するヒステリシス36と、所定の信号を発生させる第1のシグナルジェネレータ(SG1)37−1と、所定の信号を発生させる第2のシグナルジェネレータ(SG2)37−2と、ヒステリシス36からの入力Input3に応じて第1のシグナルジェネレータ37−1からの入力Input1と第2のシグナルジェネレータ37−2の入力Input2のいずれか一方を出力するスイッチ(SW)38と、スイッチ38からの入力の増加及び減少に伴い出力の増加及び減少の割合に制限を施すレートリミッタ(RLT)39とを備えている。
図6は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのヒステリシスの入出力特性を示した図である。
図6に示すように、本実施例に係る第3のファンクションジェネレータ32のヒステリシス36の入出力特性は、第1の圧力制御部33からの信号に応じ、入力が閾値βを上回るまでは出力をOFFとし、入力が閾値βを上回った場合に出力をONとし、その後、入力が閾値αを下回った場合に出力をOFFとする入出力特性を有している。
図7は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのスイッチの入出力特性を示した図である。
図7に示すように、本実施例に係る第3のファンクションジェネレータ32のスイッチ38は、ヒステリシス36からの信号に応じ、入力Input3がOFFの場合には第1のシグナルジェネレータ37−1からの入力Input1を出力し、入力Input3がONの場合には第2のシグナルジェネレータ37−2からの入力Input2を出力する入出力特性を有している。
図8は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータのレートリミッタの入出力特性を示した図である。
図8に示すように、本実施例に係る第3のファンクションジェネレータ32のレートリミッタ39は、スイッチ38からの信号に応じ、入力が増加した場合には図8中に矢印aで示すように単位時間当たりの増加の割合に制限を施して信号を出力し、入力が減少した場合には図8中に矢印bで示すように単位時間当たりの減少の割合に制限を施して信号を出力する入出力特性を有している。
図9は、本発明の第1の実施例に係るガス処理装置における第3のファンクションジェネレータの入出力特性を示した図である。
図9に示すように、第3のファンクションジェネレータ32において、ヒステリシス36は、図9(a)に示す入力に対し、図9(b)に示す信号を出力する。スイッチ38は、図9(b)に示す信号に対し、図9(c)に示す信号を出力する。レートリミッタ39は、図9(c)に示す入力に対し、図9(d)に示す信号を出力する。
そして、第2の圧力制御部35は、第3のファンクションジェネレータ32からの信号と、第2の圧力計11からの信号とが入力され、第3のファンクションジェネレータ32からの信号と、第2の圧力計11からの信号とに応じて第2の圧力調節弁13を制御する。これにより、本実施例に係る制御装置6は、第2の圧力計11により測定した圧力に応じて第2の圧力調節弁13の開度を適宜調節することができる。
以上のように、本実施例に係るガス処理装置によれば、上流の設備から供給されるプロセスガスの流量に関わらず運転を行うことができるガス処理装置を提供することができる。
以下、本発明に係るガス処理装置の第2の実施例について説明する。
本実施例に係るガス処理装置は、第1の実施例に係るガス処理装置とほぼ同様の構成であるが、処理後のプロセスガスを利用する下流の設備において所望する圧力を得られるように、プロセスガスの出口の圧力を調節することができる構成となっている。
図10は、本発明の第2の実施例に係るガス処理装置の構成を示した模式図である。
図10に示すように、本実施例に係るガス処理装置は、第1の実施例に係るガス処理装置の構成に加え、第2の圧力計11と第2の圧力調節弁13との間に第5の流路40が接続されている。第5の流路40の端部には、第2のプロセスガス出口43が設置されている。第5の流路40上には、プロセスガスの圧力を測定する第3の圧力計(PI3)41が設置されている。第5の流路40上の第3の圧力計41の上流には、プロセスガスの圧力を調節する第3の圧力調節弁(CV3)42が設置されている。
本実施例に係るガス処理装置においては、第2のプロセスガス出口43に処理後のプロセスガスを利用する下流の設備を接続し、第1のプロセスガス出口26から出たプロセスガスは、プロセスガスの種類や排出量等に応じて適切に処理する。例えば、プロセスガスが、窒素や水素や二酸化炭素を含む混合ガスの場合には地中隔離や大気に放出するなどして処理する。
そして、本実施例に係るガス処理装置においては、制御装置6は、第3の圧力計41により測定した圧力に基づき、第3の圧力調節弁42を制御する。
次に、本実施例に係るガス処理装置の制御方法について詳細に説明する。
図11は、本発明の第2の実施例に係るガス処理装置の制御ブロック図である。
図11に示すように、本実施例に係るガス処理装置における制御装置6は、第1の実施例に係るガス処理装置における制御装置6の構成に加え、第3の圧力計41により測定した圧力に応じた信号を出力する第3の圧力制御部(PC3)44を備えている。
そして、第3の圧力制御部44は、第3の圧力計41からの信号が入力され、第3の圧力計41からの信号に応じて第3の圧力調節弁42を制御する。これにより、本実施例に係る制御装置6は、第3の圧力計41により測定した圧力に応じて第3の圧力調節弁42の開度を適宜調節することができる。
以上のように、本実施例に係るガス処理装置によれば、第1の実施例に係るガス処理装置の作用及び効果に加え、第2のプロセスガス出口43から流出するプロセスガスの圧力を、下流の設備において所望する圧力に調節して供給することができる。
本発明は、例えば、冷媒ガスの再循環流路を有し、冷媒ガスとしてプロセスガスを利用し、同時にプロセスガスを処理するガス処理装置に利用することが可能である。
1 コンプレッサ
2 第1のプロセス
3 エキスパンダ
4 第2のプロセス
5 駆動装置
6 制御装置
10 第1の圧力計(PI1
11 第2の圧力計(PI2
12 第1の圧力調節弁(CV1
13 第2の圧力調節弁(CV2
14 回転速度計(SI)
20 第1の流路
21 第2の流路
22 第3の流路
23 第4の流路
24 再循環流路
25 プロセスガス入口
26 第1のプロセスガス出口
30 第1のファンクションジェネレータ(FX1
31 第2のファンクションジェネレータ(FX2
32 第3のファンクションジェネレータ(FX3
33 第1の圧力制御部(PC1
34 速度制御部(SC)
35 第2の圧力制御部(PC2
36 ヒステリシス
37−1 第1のシグナルジェネレータ(SG1
37−2 第2のシグナルジェネレータ(SG2
38 スイッチ(SW)
39 レートリミッタ(RLT)
40 第5の流路
41 第3の圧力計(PI3
42 第3の圧力調節弁(CV3
43 第2のプロセスガス出口
44 第3の圧力制御部(PC3

Claims (2)

  1. プロセスガスを圧縮するコンプレッサと、
    前記コンプレッサの下流に配置され前記プロセスガスを処理する第1のプロセスと、
    前記第1のプロセスの下流に配置され前記プロセスガスを膨張させて動力を得るエキスパンダと、
    前記エキスパンダの下流に配置され前記プロセスガスを処理する第2のプロセスと、
    前記コンプレッサを駆動する駆動手段と
    を備えるガス処理装置において、
    前記コンプレッサの前記プロセスガスの入口に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第1の圧力計と、
    前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第2の圧力計と、
    前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口から、前記コンプレッサの前記プロセスガスの入口に接続される前記プロセスガスを再循環させる再循環流路と、
    前記再循環流路に配置され再循環させる前記プロセスガスの圧力を調節する第1の圧力調節弁と、
    前記第2の圧力計の下流に配置され前記プロセスガスの圧力を調節する第2の圧力調節弁と、
    前記駆動手段の回転速度を測定する回転速度計と、
    前記第1の圧力計及び前記第2の圧力計により測定した圧力並びに回転速度計により測定した回転速度に基づき、前記駆動手段の回転速度、前記第1の圧力調節弁及び前記第2の圧力調節弁のうち少なくともいずれかひとつを制御する制御手段と
    を備える
    ことを特徴とするガス処理装置。
  2. 前記第2のプロセスの前記プロセスガスの出口と前記第2の圧力調節弁との間に接続されたプロセスガス出口流路と、
    前記プロセスガス出口流路に配置され前記プロセスガスの圧力を測定する第3の圧力計と、
    前記プロセスガス出口流路の前記第3の圧力計の上流に配置され前記プロセスガスの圧力を調節する第3の圧力調節弁と
    を備え、
    前記制御手段は、前記第3の圧力計により測定した圧力に基づき、前記第3の圧力調節弁を制御する
    ことを特徴とする請求項1に記載のガス処理装置。
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