JP4932076B2 - 走査型レーザ顕微鏡 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、生物試料の観察などに用いられる走査型レーザ顕微鏡に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
走査型レーザ顕微鏡は、生きた細胞や組織の試料を傷付けることなく、光学的にスライスして2次元断層像を複数得るとともに、これら複数の2次元断層像から3次元画像を得るものとして知られている。
【0003】
また、このような特徴を生かして、生理学や薬学、細胞生物学などの分野では、細胞に対する刺激、例えば電気信号による刺激や熱、薬品などの化学的な刺激に対する細胞内の化学的、物理的反応、変化の様子を、また、形態学や発生学では、細胞の構造、形状や経時的に変形、移動する様子を詳細に観察、記録するためのものとしても広く使用されている。
【0004】
ところで、生物試料を観察する走査型レーザ顕微鏡は、試料に導入した蛍光試薬あるいは蛍光蛋白をレーザ光で励起し、この励起により発生した蛍光量を測定することにより画像を生成するようにしている。この場合、蛍光物質から発生する蛍光量は、励起光の照射にともなって減少する、いわゆる退色現象が生じることが知られており、このため、従来では、不必要な励起光を遮断して極力退色を防止する方法が考えられている。
【0005】
例えば、上述した2次元あるいは3次元画像の経時変化を観測するような場合、画像の取得から次の画像の取得までのインターバル時間内に、レーザ光が不要に試料に照射されないように、機械的に光路中にシャッタを挿入したり、光学フィルタや音響フィルタを用いてレーザ光を減衰させたり、あるいは電気的にレーザ光源の発振を停止させるなどの方法が取られている。
【0006】
このような考えに基づいたものとして、例えば、特開平9−189864号公報に開示されるように、1フレーム分の画像中に観察したい領域を設定し、実際にレーザ光を走査する場合に、設定領域内では透光状態「1」、領域外では遮光状態「0」とするように走査ピクセル単位でレーザ光の照射を制御することで、観察したい領域以外での試料の退色を防止するようにしたものや、特開2000−35400号公報に開示されるように、レーザ光により2次元面内を走査する間に、各位置においてレーザ光の強度調整および波長の選択を予め設定された手順で実行することにより、2次元面内の所望の部分にのみ所望の波長、強度のレーザ光を照射できるようにしたものが知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近、蛍光の退色現象を積極的に利用した研究が進められている。この研究では、試料の特定の領域をレーザ光の照射により退色させ、その後、この退色領域の蛍光の復帰過程での蛍光物質の移動や拡散度などを観測領域やレーザ光の照射条件などを変えながら測定するもので、具体的には、試料の特定部位を任意の形状で退色させた直後から、その部位またはその周囲、あるいはその両方の領域について所望の波長、強度のレーザ光を照射した観測を行うようにしている。
【0008】
ところが、特開平9−189864号公報および特開2000−35400号公報に開示されたものは、予め設定された領域や各位置について、決められた条件に基づいてレーザ光の照射を制御するようにしたもので、静的な観察がメインターゲットになっている。このため、上述したように、試料の特定の領域をレーザ光の照射により退色させるとともに、この退色領域の蛍光の復帰過程を観測領域やレーザ光の照射条件などを変えながら測定するようなダイナミックな経時測定には、対応できないという問題があった。
【0009】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、ダイナミックな経時測定に対応できる走査型レーザ顕微鏡を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様による走査型レーザ顕微鏡は、試料面にレーザ光を走査するとともに、前記試料面からの光を受光するような走査型レーザ顕微鏡において、前記試料面に走査されるレーザ光を変調する光変調手段と、前記試料面からの光の受光により取得される走査画像の1画素ごとに前記光変調手段を制御する制御手段と、を具備し、前記制御手段は、前記走査画像に対応する各画素ごとにレーザ光の変調情報が設定されたレーザ照射領域パターン画像としての制御パターンを複数記憶する記憶手段を有し、この記憶手段に記憶された前記制御パターンの中から任意の制御パターンを読み出し、各画素ごとの変調情報に基づいて前記光変調手段を制御するとともに、任意のタイミングで前記記憶手段に記憶された別の制御パターンを読み出し、該読み出した別の制御パターンに変更する制御を行うことを特徴とる。
【0013】
この結果、本発明によれば、走査を中断することなく、時間とともに異なるレーザ照射領域パターン画像に対応する走査画像を得ることができる。
【0014】
また、少ない容量の記憶手段でも、多数のレーザ照射領域パターン画像を適用させることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
【0016】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明が適用される走査型レーザ顕微鏡の概略構成を示している。
【0017】
この走査型レーザ顕微鏡は、レーザ装置1、レーザ走査ユニット2、顕微鏡本体3、制御ユニット4、データ処理ユニット5、表示ユニット6およびマウスやキーボードなどからなる入力ユニット7より構成されている。
【0018】
レーザ装置1は、波長の異なる複数(図示例では3個)のレーザ発振器11a、11b、11cを有し、これらレーザ発振器11a、11b、11cの前方には、機械的にレーザ光路を遮断するレーザシャッタ12a、12b、12cが配置されるとともに、レーザ発振器11a、11b、11cの各レーザ光路を結合して1つのレーザ光路に導くダイクロイックミラー13a、13b、13cが配置され、これらダイクロイックミラー13a、13b、13cにより導かれたレーザ光路に、レーザ光の波長や強度を変調する光変調手段として、音響光学可変フィルタ(以下、AOTFと称する。)14が配置されている。ここで、レーザシャッタ12a、12b、12cは、AOTF14では、その特性上レーザ光を完全に遮断することが困難であり、AOTF14に入力されるレーザ光の0.1%程度が常に出力されてしまうことを回避するために設けられている。
【0019】
レーザ走査ユニット2は、AOTF14より変調されるレーザ光が光ファイバ8を介してコリメータレンズ21に入力される。このコリメータレンズ21でコリメートされたレーザ光の光路には、レーザシャッタ22を介してダイクロイックミラー23が配置されている。このダイクロイックミラー23は、レーザ光を反射するとともに、後述する試料33からの蛍光あるいは反射光を透過するものである。ダイクロイックミラー23の反射光路には、走査機構24および投影レンズ25が配置されている。走査機構24は、レーザ光を試料33上で2次元に走査させるもので、この2次元走査されたレーザ光は、投影レンズ25を介して顕微鏡本体3に入射される。また、ダイクロイックミラー23の透過光路には、ピンホール26、ダイクロイックミラー27が配置されている。ピンホール26は、試料33と光学的に共役な位置に配置されている。ダイクロイックミラー2は、試料33からの蛍光あるいは反射光の信号光を波長域ごとに光路分割するものである。そして、ダイクロイックミラー2で分割された各光路上には、波長フィルタ26a、26bを各別に介して光電変換器27a、27bが配置されている。波長フィルタ26a、26bは、ダイクロイックミラー27を介して入力される信号光の波長を精度よく選択するものである。光電変換器27a、27bは、各波長フィルタ26a、26bで選択された所定波長域の信号光を電気信号に変換するものである。
【0020】
このように構成されたレーザ走査ユニット2は、顕微鏡本体3の鏡筒部に機械的、電気的に結合されている。
【0021】
顕微鏡本体3は、レーザ走査ユニット2のダイクロイックミラー23の反射光路上に沿って結像レンズ31、対物レンズ32が配置され、走査機構24で2次元走査されたレーザ光が結像レンズ31、対物レンズ32を介して試料33に照射される。試料33は、サンプルステージ34に載置されていて、レーザ光の照射により内部に導入された例えば蛍光色素や蛍光タンパクが励起され、その濃度分布などに相関を持った強度の蛍光あるいは反射光を発生する。そして、この蛍光あるいは反射光は、再度対物レンズ32、結像レンズ31を介してレーザ走査ユニット2に送られ、投影レンズ25、走査機構24を介してダイクロイックミラー23に入射されるようになっている。
【0022】
制御ユニット4は、インターフェース部41、スキャナ駆動回路42、高周波ドライバ回路43、制御回路44、電装部制御回路45および同期信号発生回路46により構成されている。インターフェース部41は、データ処理ユニット5とのデータのやり取りを行うものである。スキャナ駆動回路42は、レーザ走査ユニット2の走査機構24を駆動するものである。高周波ドライバ回路43は、レーザ装置1のAOTF14を駆動するもので、制御回路44からの変調信号によりAOTF14によるレーザ光の強度変調を行うようにしている。電装部制御回路45は、レーザシャッタ12a、12b、12c、22の制御や光電変換器27a、27bの検出感度を設定するものである。同期信号発生回路46は、走査画像の水平、垂直および1画素ごとの同期信号を発生するものである。
【0023】
また、高周波ドライバ回路43を制御する制御回路44は、図2に示すようにパターン記憶メモリ44a、メモリ制御回路44b、D/Aコンバータ44c、およびバッファアンプ44dから構成されている。パターン記憶メモリ44aは、レーザ光照射領域のパターン画像のデータを1画素ごとのレーザ光の照射強度の情報とともに保存している。メモリ制御回路44bは、同期信号発生回路46から供給される同期信号とインターフェース部41を介してデータ処理ユニット5から与えられる制御パラメータによりパターン記憶メモリ44aを制御するものである。そして、D/Aコンバータ44cは、パターン記憶メモリ44aから読み出されるデジタルデータをアナログ信号に変換し、バッファアンプ44dは、D/Aコンバータ44cからの出力をレーザ光の強度変調信号として、高周波ドライバ回路43に出力するようにしている。
【0024】
図1に戻って、データ処理ユニット5は、パーソナルコンピュータからなるもので、制御ユニット4のインターフェース部41を介して各種制御パラメータや制御信号を供給する。
【0025】
表示ユニット6は、データ処理ユニット5に接続され、試料33の蛍光画像あるいは反射光画像などを表示するものである。
【0026】
次に、このように構成された実施の形態の動作を説明する。
【0027】
レーザ装置1のレーザ発振器11a、11b、11cから発生されたレーザ光は、AOTF14により波長や強度が調整され、光ファイバ8を介してレーザ走査ユニット2に供給される。
【0028】
光ファイバ8を出射したレーザ光は、コリメータレンズ21でコリメートされ、ダイクロイックミラー23で反射され、走査機構24に導かれる。そして、走査機構24により2次元走査されたレーザ光は、投影レンズ25より、顕微鏡本体3内の結像レンズ31、対物レンズ32を介して試料33に照射される。
【0029】
このレーザ光の照射により、試料33より蛍光あるいは反射光が発生し、この蛍光あるいは反射光は、再度対物レンズ32、結像レンズ31を介してレーザ走査ユニット2に送られ、投影レンズ25、走査機構24を介してダイクロイックミラー23に導かれ、このダイクロイックミラー23を透過される。そして、ピンホール26により試料33の焦点面のみの情報が選択的に通過され、ダイクロイックミラー27で波長域ごとに光路分割されたのち、波長フィルタ26a、26bを各別に介して光電変換器27a、27bに導かれ、光の強度に応じた電気信号に変換される。また、これら光電変換器27a、27bからの電気信号の時間変化は、走査機構24での走査に同期してA/D変換された後、制御ユニット4に取り込まれ、さらにインターフェース部41を介してデータ処理ユニット5に送られ、試料33の蛍光画像または反射光画像として表示ユニット6に表示される。
【0030】
この場合、表示ユニット6に表示される画像は、図3に示すようにレーザ光が2次元走査された試料33上の領域内の蛍光強度あるいは反射光強度の分布を表わす走査画像となる。
【0031】
次に、このようにして表示ユニット6上に得られた走査画像に基づいて、レーザ光を照射する任意の領域を設定するとともに、このレーザ光の照射領域を時間とともに変化させる場合を説明する。
【0032】
この場合、図3に示す表示ユニット6上に表示された走査画像を見ながら、この画像上で、データ処理ユニット5の入力ユニット7のマウスなどを使って、レーザ照射領域Aを指定する。そして、データ処理ユニット5において、指定されたレーザ照射領域Aに基づいて、制御パターンとして図4(a)に示すようなレーザ照射領域パターン画像100を作成する。このレーザ照射領域パターン画像100は、図3に示す表示ユニット6上の走査画像と同じ画素数を有するもので、1画素ごとにレーザ光の照射強度などの変調情報が設定できるようになっている。ここでは、レーザ照射領域Aで囲まれた部分の各画素のレーザ光の照射強度は、「強」で、それ以外の領域の各画素については、レーザ光遮断に設定されている。
【0033】
そして、このようなレーザ照射領域パターン画像100は、画素ごとのレーザ光の変調情報とともに、図4(b)に示すパターン画像データ101として、制御回路44に転送され、パターン記憶メモリ44aに記憶される。
【0034】
同様にして、次に、レーザ照射領域Bを指定する。そして、データ処理ユニット5において、指定されたレーザ照射領域Bに基づいて図4(a)に示すようなレーザ照射領域パターン画像200を作成する。このレーザ照射領域パターン画像200は、レーザ照射領域Bで囲まれた部分の各画素のレーザ光の照射強度は、「弱」で、それ以外の領域の各画素については、レーザ光遮断に設定されている。
【0035】
そして、このレーザ照射領域パターン画像200についても、画素ごとのレーザ光の変調情報とともに、図4(b)に示すパターン画像データ201として、制御回路44に転送され、パターン記憶メモリ44aに記憶される。
【0036】
このようにして、複数枚(図示例では2枚)のレーザ照射領域パターン画像100、200のそれぞれのパターン画像データ101、201がパターン記憶メモリ44aに記憶される。
【0037】
次に、このようなレーザ照射領域パターン画像100、200を使用して試料33の走査画像を取得する方法を説明する。
【0038】
まず、走査開始前に、最初に使用するパターン画像データ101が記憶されるパターン記憶メモリ44aの領域をメモリ制御回路44bに設定する。
【0039】
この状態で、走査を開始すると、メモリ制御回路44bにより、同期信号発生回路46からの同期信号に同期してパターン記憶メモリ44aのパターン画像データ101が1画素ずつ読み出され、D/Aコンバータ44cに出力される。すると、この画素単位のパターン画像データ101は、D/Aコンバータ44cによりアナログ信号に変換され、バッファアンプ44dを介してレーザ光の強度変調信号として、高周波ドライバ回路43に出力され、AOTF14によるレーザ光の強度変調が行われる。この場合、パターン画像データ101は、レーザ照射領域パターン画像100に相当することから、図4(a)に示すようにレーザ照射領域Aで囲まれた部分の各画素のレーザ光についてのみ、照射強度は「強」となり、それ以外の領域の各画素については、レーザ光が遮断される。
【0040】
ここで、高周波ドライバ回路43によるAOTF14への駆動信号と、AOTF14からのレーザ光の出力との間には有限の遅延時間が存在する。そこで、実際は、メモリ制御回路44bは、同期信号の入力からパターン記憶メモリ44aでのパターン画像データ101の読み出し開始までに適当な遅延時間を設定することが望ましい。
【0041】
このようにして、最初のレーザ照射領域パターン画像100での所望の時間走査が行われた後、次に、パターン記憶メモリ44aに対して、次のパターン画像データ201が記憶される領域をメモリ制御回路44bに設定する。すると、今度は、メモリ制御回路44bにより、同期信号発生回路46の同期信号に同期してパターン記憶メモリ44aのパターン画像データ201が1画素ずつ読み出され、D/Aコンバータ44c、バッファアンプ44dを介してレーザ光の強度変調信号として、高周波ドライバ回路43に出力され、AOTF14によるレーザ光の強度変調が行われる。この場合、パターン画像データ201は、レーザ照射領域パターン画像200に相当することから、図4(a)に示すようにレーザ照射領域Bで囲まれた部分の各画素のレーザ光についてのみ、照射強度は「弱」となり、それ以外の領域の各画素については、レーザ光が遮断される。
【0042】
この場合、レーザ照射領域パターン画像100、200の共通のレーザ照射点Xでの蛍光強度は、図5に示すように変化する。まず、期間t1は、試料33の初期状態の蛍光強度を示している。そして、期間t2において、レーザ照射点X周辺に対し、レーザ照射領域パターン画像100に基づいて強いレーザ光を照射すると、試料33内の蛍光物質が退色し、蛍光強度が急激に低下する。その後、任意のタイミングでレーザ照射領域パターンをレーザ照射領域パターン画像200に変更制御し、期間t3で、蛍光物質が退色したレーザ照射点X周辺に、レーザ照射領域パターン画像200に基づいて弱いレーザ光を照射すると、退色させた領域の周辺を含めた範囲で、蛍光強度が回復する過程を観測できる。
【0043】
従って、このようにすれば、走査を中断することなく、時間とともに異なるレーザ照射領域パターン画像100、200に対応する走査画像を得ることができるので、試料33の特定部位を強いレーザ光により退色させ、その後、退色した蛍光物質の回復度合いを弱いレーザ光を照射しながら測定するようなダイナミックな経時測定を実現することができる。
【0044】
なお、上述では、2枚のレーザ照射領域パターン画像100、200の場合を述べたが、これ以上の枚数のレーザ照射領域パターン画像を使用する場合にも適用することができる。
【0045】
(第2の実施の形態)
第1の実施の形態では、レーザ光の照射強度の設定は、走査画像の1画素ごとにできるようにした。しかし、走査画像の画素数を、例えば512画素*512画素に設定し、D/Aコンバータ44cに8ビットの分解能のものを使用した場合、1つのパターン画像データを記憶するのに要するメモリ容量は、256kバイトになる。このため、レーザ照射領域パターン画像が数枚から数十枚にもなり、これらを変更しながら走査画像を取得しようとすると、これらレーザ照射領域パターン画像に対応するパターン画像データを記憶するためのパターン記憶メモリ44aでの総容量は、数メガバイトから数十メガバイトにもなり、実用的でなくなる。
【0046】
そこで、この第2の実施の形態では、図6に示すように走査画像51の画素数を、512画素*512画素とし、パターン画像データの1画素を2*2画素ごとに設定することで、パターン記憶メモリ44aでの容量を1/4に低減している。
【0047】
このようにすれば、走査画像の画素数に対してパターン画像データの画素数を少なく設定できるので、総容量の少ないパターン記憶メモリ44aでも、多数のレーザ照射領域パターン画像を適用させることができる。
【0048】
なお、本発明は上記実施例にのみ限定されず、要旨を変更しない範囲で適宜実施することができる。例えば、レーザ装置1は、複数のレーザ発振器11a、11b、11cに対して共通のAOTF14を設けるようにしたが、この他にUVレーザを発生するレーザ発振器を設けるとともに、UVレーザ用AOTFを設け、このUVレーザ用AOTFを独立して制御することで、試料33に対するケージドイオン解除→イオン濃度測定などを行うこともできる。
【0049】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、例えば、試料の特定部位を任意の形状で退色させ、その直後から蛍光の退色領域の復帰過程を測定するようなダイナミックな経時測定に対応できる走査型レーザ顕微鏡を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の概略構成を示す図。
【図2】第1の実施の形態に用いられる制御回路の概略構成を示す図。
【図3】第1の実施の形態の表示ユニットに表示された走査画像を示す図。
【図4】第1の実施の形態に用いられる制御パターンを説明するための図。
【図5】第1の実施の形態による蛍光強度の変化状況を説明するための図。
【図6】本発明の第2の実施の形態を説明するための図。
【符号の説明】
1…レーザ装置
2…レーザ走査ユニット
3…顕微鏡本体
4…制御ユニット
5…データ処理ユニット
6…表示ユニット
7…入力ユニット
8…光ファイバ
11a.11b、11c…レーザ発振器
12a.12b、12c…レーザシャッタ
13a.13b、13c…ダイクロイックミラー
14…AOTF
21…コリメータレンズ
22…レーザシャッタ
23…ダイクロイックミラー
231…投影レンズ
24…走査機構
25…投影レンズ
26…ピンホール
27…ダイクロイックミラー
26a.26b…波長フィルタ
27a.27b…光電変換器
31…結像レンズ
32…対物レンズ
33…試料
34…サンプリングステージ
41…インターフェース部
42…スキャナ駆動回路
43…高周波ドライバ回路
44…制御回路
44a…パターン記憶メモリ
44b…メモリ制御回路
44c…Aコンバータ
44d…バッファアンプ
45…電装部制御回路
46…同期信号発生回路
100.200…レーザ照射領域パターン画像
101.201…パターン画像データ
51…走査画像

Claims (5)

  1. 試料面にレーザ光を走査するとともに、前記試料面からの光を受光するような走査型レーザ顕微鏡において、
    前記試料面に走査されるレーザ光を変調する光変調手段と、
    前記試料面からの光の受光により取得される走査画像の1画素ごとに前記光変調手段を制御する制御手段と、を具備し、
    前記制御手段は、前記走査画像に対応する各画素ごとにレーザ光の変調情報が設定されたレーザ照射領域パターン画像としての制御パターンを複数記憶する記憶手段を有し、
    この記憶手段に記憶された前記制御パターンの中から任意の制御パターンを読み出し、各画素ごとの変調情報に基づいて前記光変調手段を制御するとともに、任意のタイミングで前記記憶手段に記憶された別の制御パターンを読み出し、該読み出した別の制御パターンに変更する制御を行うことを特徴とする走査型レーザ顕微鏡。
  2. 前記記憶手段に複数記憶された前記制御パターンは、前記走査画像に対応する画素数で各画素ごとにレーザの変調情報が設定されていることを特徴とする請求項1記載の走査型レーザ顕微鏡。
  3. 前記記憶手段は、前記走査画像の画素数と等しい画素数の制御パターンを記憶することを特徴とする請求項1又は2記載の走査型レーザ顕微鏡。
  4. 前記記憶手段は、前記走査画像の画素数より少ない画素数の制御パターンを記憶することを特徴とする請求項1又は2記載の走査型レーザ顕微鏡。
  5. 前記記憶手段に複数記憶された互いに異なるレーザ照射領域パターン画像にそれぞれ対応する複数の前記制御パターンは、レーザ強度、又はレーザ照射領域が異なることを特徴とする請求項1乃至請求項4のうち何れか一つに記載の走査型レーザ顕微鏡
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