JP5323140B2 - 測定システム、方法及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWT又は「基板支持体」がX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」に対する基板テーブルWT又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
第一に、下記の1]に表すように、オブジェクトの、この例では、複数のエンコーダによって測定される位置に加えられる力の伝達関数がオブジェクトの測定された機械的挙動から計算される。第二に、下記の2]に表すように、ねじり周波数付近の分離行列Rが決定される。さらに、第一に、周波数依存分離行列R(f)がオブジェクトの所望の機構伝達関数とオブジェクトの測定機構伝達関数との比率に応じて決定される。次に、分離行列の実数部がねじりモードが発生する周波数範囲内で、すなわち、帯域フィルタによってねじり推定器が決定位置に寄与できる周波数範囲で決定される。第三に、下記の3]に表すように、ねじり推定行列(ねじりの寄与行列Tとも呼ばれる)が行列Rと単位行列Iとから決定される。
1]測定された機構Hmmeas(f)からエンコーダ位置Hcmenc(f)にかかる力のFRFを計算する。
−MS(x,y)は、XY位置依存測定システムである。
−HMraw(f)は未処理の機構であり、入力は6×モータ力(単位は[N])であり、出力は8×エンコーダ位置(単位は[m])である。
−GBは、重心の論理力の物理モータの力への6×6ゲイン平衡行列変換である。
−GSは、xyz位置依存コントローラの力をチャック重心の力に変換する6×6ゲインスケジューリング行列である。
−Hcmenc(f)は、重心の入力が6×力の機構であり、出力は8×エンコーダ位置(単位は[m])である。
−Hmdesired(f)は、分離剛体動力学の対角行列である。
−Rは、ねじり周波数付近の機構を分離する4×4実行列である。
−Tは、ねじりの寄与を計算する4×4実行列である。
−最後に、Q(f)は、ねじり周波数の周囲の帯域通過フィルタである。
−Hcmtorsion(f)は、FRFから除去すべきねじり量である。
−HcmTMC(f)は、補償後、すなわち、ねじり量を含まない機構である。
Claims (14)
- リソグラフィ装置のオブジェクトの位置量を導き出す測定システムであって、前記位置量が、位置、速度及び加速度のうち少なくとも1つを含み、前記測定システムが、
位置量測定信号を提供する位置量センサと、
前記位置量測定信号から前記オブジェクトの位置量を決定する位置量計算機と
を備え、
前記位置量計算機が、前記オブジェクトのねじりを推定するねじり推定器を備え、
前記位置量計算機が、前記推定されたねじりに対して前記オブジェクトの前記決定された位置量を補正し、
複数の前記位置量センサが、前記オブジェクトの垂直位置量を測定する、測定システム。 - 前記位置量計算機が、帯域フィルタを備え、
前記ねじり推定器が、前記位置量計算機の並列経路内に提供される、請求項1に記載の測定システム。 - 前記帯域フィルタが、帯域阻止フィルタを備え、
前記位置量計算機が、前記決定された位置量から前記ねじり推定器によって提供されたねじり補正位置量を前記帯域阻止フィルタの前で減算し、前記ねじり推定器によって提供された前記ねじり補正位置量を前記帯域阻止フィルタの後で加算する、請求項2に記載の測定システム。 - 前記帯域フィルタが、帯域通過フィルタを備え、
前記帯域通過フィルタ及び前記ねじり推定器が、前記位置量計算機の並列経路内に提供される、請求項2に記載の測定システム。 - 前記ねじり推定器が、所望の機構伝達関数と測定機構伝達関数との比率から重み付け係数行列を決定する重み付け係数行列推定器を備え、
前記ねじり推定器が、前記重み付け係数行列からねじり推定器行列を決定する、請求項3又は4に記載の測定システム。 - 前記ねじり推定器が、前記ねじりの周波数帯域内の前記重み付け係数行列の実数部の平均値を決定し、
前記ねじり推定器が、前記重み付け係数行列の実数部の前記平均値から前記ねじり推定器行列を決定する、請求項5に記載の測定システム。 - 前記ねじり推定器が、単位行列及び前記重み付け係数行列の減算から前記ねじり推定器行列を決定する、請求項5又は6に記載の測定システム。
- 前記測定システムが、少なくとも4つの位置量センサを備える、請求項1〜7のいずれかに記載の測定システム。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記支持体、前記基板テーブル及び前記投影システムの投影レンズ素子のうち1つの位置量を測定する、請求項1〜8のいずれかに記載の測定システムと
を備えるリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置のオブジェクトの位置量を導き出す位置量測定方法であって、前記位置量が、位置、速度及び加速度のうち少なくとも1つを含み、前記位置量測定方法が、
位置量センサによって位置量測定信号を提供するステップと、
ねじり推定器によって前記オブジェクトのねじりを推定するステップと、
位置量計算機によって前記位置量測定信号から前記オブジェクトの位置量を決定するステップと、
前記推定されたねじりに対して前記オブジェクトの前記決定された位置量を補正するステップと
を含み、
複数の前記位置量センサが、前記オブジェクトの垂直位置量を測定する、位置量測定方法。 - 帯域フィルタが、前記位置量計算機の並列経路内に適用される、請求項10に記載の位置量測定方法。
- 前記帯域フィルタが、帯域阻止フィルタを備え、前記方法が、前記ねじり推定器によって提供されたねじり補正位置量を前記帯域阻止フィルタの前で減算し、前記ねじり推定器によって提供された前記ねじり補正位置量を前記帯域阻止フィルタの後で加算するステップを含む、請求項11に記載の位置量測定方法。
- 前記帯域フィルタが、帯域通過フィルタを備え、前記帯域通過フィルタ及び前記ねじり推定器が、前記位置量計算機の並列経路内に提供される、請求項11に記載の位置量測定方法。
- 所望の機構伝達関数と測定機構伝達関数との比率から重み付け係数行列が決定され、ねじり推定器行列が、前記ねじりの周波数帯域内の前記重み付け係数行列の実数部の平均値から決定される、請求項10〜13のいずれかに記載の位置量測定方法。
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