JP4892197B2 - 色素増感型太陽電池用電極基板、色素増感型太陽電池用光電極および対向電極、ならびに色素増感型太陽電池 - Google Patents
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Description
上記の方法にあっても、集電回路を形成する工程が複雑であり、それによって製造コストの増大を招くおそれがある。
また、上記の透明導電膜の表面に形成された集電回路は、ナノポーラスなチタニア半導体膜を通して、電解質に晒されることになるが、電解質にはヨウ素溶液等が用いられるため、集電回路を構成するAuやAl等の金属が腐食して、集電機能が損なわれ、そのままでは実用に供することができないという問題があった。
上記第1の電極基板にあっては、透明板の片面および/または透明導電膜の表面に、Alを所定パターンに真空蒸着しかつその表面を酸化被膜で覆うことによって集電回路が形成されているので、それによって透明導電膜の抵抗値が効果的に低減されるにもかかわわず、従来技術と比べて材料費が安く製造工程も単純であるから、製造コストを下げることが可能となる。しかも、第1の電極基板の場合、集電回路を構成するAl蒸着膜が酸化被膜で覆われているため、電解質に対する耐腐食性に優れており、耐久性も向上する。
上記第2の電極基板にあっても、透明板の片面および/または透明導電膜の表面に設けられた集電回路によって、透明導電膜の抵抗値が効果的に低減される上、製造コストも下げられる。また、第2の電極基板の場合、集電回路を構成するAl蒸着膜が、Ti、Ni、Nb、Ta、W、SUSおよびITOのうちいずれか1つの膜で覆われているため、電解質に対する耐腐食性に優れており、耐久性も向上する。
上記第3の電極基板にあっては、透明板の片面および/または透明導電膜の表面に、耐腐食性に優れたNb、Ta、W、Ti、Ni、SUSのうちいずれか1つを所定パターンに真空蒸着することによって集電回路が形成されているので、同回路によって透明導電膜の抵抗値が効果的に低減されるにもかかわわず、従来技術と比べて材料費が安く製造工程も単純であるから、製造コストを下げることが可能となり、しかも、電解質に対する耐腐食性および耐久性も向上するから、十分に実用に供することが可能である。
集電回路の厚さが1μmを下回ると、十分な面抵抗の低減という本来の目的が薄れてしまう。一方、集電回路の厚さが10μmを超えると、TiO2等の金属酸化物半導体膜で被覆することができず、対向電極とショートし易くなってしまう。集電回路の厚さは、より好ましくは、5〜10μmとなされる。
集電回路の幅が0.01mmを下回ると、面抵抗低減効果が小さくなる。一方、集電回路の厚さが5mmを超えると、遮光比率が高くなり、光電変換効率を損なうおそれがある。なお、集電回路の幅は、装置上の制約により、通常0.05〜1mmとなされる。
上記各パターンの場合、金属マスクを用いて、1回のAl真空蒸着工程により集電回路を形成することが可能であるので、その分だけコストを抑えることができる。
上記の光電極によれば、電極基板に設けられた集電回路によって、透明導電膜の抵抗値が効果的に低減され、製造コストを抑えることができる上、電解質に対する耐腐食性および耐久性にも優れている。
上記の対向電極によれば、電極基板に設けられた集電回路によって、透明導電膜の抵抗値が効果的に低減され、製造コストを抑えることができる上、電解質に対する耐腐食性および耐久性にも優れている。
上記の太陽電池によれば、透明導電膜の抵抗値が集電回路によって低減されているため、光電変換効率が向上し、セルの大型化も可能となる。また、上記の太陽電池によれば、電解質層に対する集電回路の耐腐食性が向上しているため、耐久性および安定性も向上する。
また、対向電極(3)の電極基板(31)に、上述した光電極(2)の電極基板(21)の集電回路(21C)と同様の集電回路を形成するようにしてもよい。この場合、集電回路は、電極基板(31)における透明板(31A)の上面および透明導電膜(31B)の上面(表面)のうち少なくともいずれか一方に形成される。
膜厚約2400ÅのITO膜付きガラス板(三容真空工業製、80mm×90mm)を用意し、同ガラス板のITO膜表面に、Alを真空蒸着させた後、Al蒸着膜表面を酸化処理して、平行線型のパターン(図4参照)を有する集電回路を形成することにより、電極基板を作製した。なお、集電回路は、幅0.2mm、ピッチ10mmとした。また、Al蒸着膜の酸化処理は、大気中、300℃で3時間加熱することにより実施した。
(実施例2)
集電回路のピッチを5mmとした点を除いて、実施例1と同じ要領で、電極基板を作製した。
(実施例3)
集電回路のパターンを、幅0.2mm、ピッチ10mmのあみだくじ型(図5参照)とした点を除いて、実施例1と同じ要領で、電極基板を作製した。
(実施例4)
集電回路のパターンを、幅0.2mm、ピッチ10mmの渦巻き線型(図6参照)とした点を除いて、実施例1と同じ要領で、電極基板を作製した。
(比較例1)
実施例1で使用したのと同じITO膜付きガラス板であって、ITO膜表面にAl蒸着膜(集電回路)を形成していないものを、電極基板とした。
膜厚9500ÅのFTO膜付きガラス板(旭硝子製、80mm×80mm)を用意し、同ガラス板のFTO膜表面に、Alを真空蒸着させた後、Al蒸着膜表面を酸化処理して、平行線型のパターン(図4参照)を有する集電回路を形成することにより、電極基板を作製した。なお、集電回路は、幅0.2mm、ピッチ10mmとした。また、Al蒸着膜の酸化処理は、大気中、300℃で3時間加熱することにより実施した。
(実施例6)
集電回路のピッチを5mmとした点を除いて、実施例5と同じ要領で、電極基板を作製した。
(実施例7)
集電回路のパターンを、幅0.2mm、ピッチ10mmのあみだくじ型(図5参照)とした点を除いて、実施例5と同じ要領で、電極基板を作製した。
(実施例8)
集電回路のパターンを、幅0.2mm、ピッチ10mmの渦巻き線型(図6参照)とした点を除いて、実施例5と同じ要領で、電極基板を作製した。
(比較例2)
実施例5で使用したのと同じFTO膜付きガラス板であって、FTO膜表面にAl蒸着膜(集電回路)を形成していないものを、電極基板とした。
(2):光電極
(21):電極基板
(21A):透明板
(21B):透明導電膜
(21C):集電回路
(21D):酸化被膜
(22):金属酸化物半導体層
(23):増感色素
(3):対向電極
(31):電極基板
(31A):透明板
(31B):透明導電膜
(32):還元層
(4):電解質層
Claims (9)
- 透明板の片面に透明導電膜が積層されている色素増感型太陽電池用電極基板において、前記透明板の片面および前記透明導電膜の表面のうち少なくともいずれか一方に、Alを平行な複数の縦線どうしの間に横線が非連続状に配されたあみだくじ型または渦巻き線型のパターンに真空蒸着してなる集電回路が設けられ、前記集電回路の表面が、酸化被膜で覆われていることを特徴とする、色素増感型太陽電池用電極基板。
- 透明板の片面に透明導電膜が積層されている色素増感型太陽電池用電極基板において、前記透明板の片面および前記透明導電膜の表面のうち少なくともいずれか一方に、Alを平行な複数の縦線どうしの間に横線が非連続状に配されたあみだくじ型または渦巻き線型のパターンに真空蒸着してなる集電回路が設けられ、前記集電回路の表面が、Ti、Ni、Nb、Ta、W、SUSおよびITOのうちいずれか1つの膜で覆われていることを特徴とする、色素増感型太陽電池用電極基板。
- 透明板の片面に透明導電膜が積層されている色素増感型太陽電池用電極基板において、前記透明板の片面および前記透明導電膜の表面のうち少なくともいずれか一方に、Nb、Ta、W、Ti、Ni、SUSのうちいずれか1つを平行な複数の縦線どうしの間に横線が非連続状に配されたあみだくじ型または渦巻き線型のパターンに真空蒸着してなる集電回路が設けられていることを特徴とする、色素増感型太陽電池用電極基板。
- 前記集電回路の厚さが1〜30μmである、請求項1〜3のいずれか1つに記載の色素増感型太陽電池用電極基板。
- 前記集電回路の幅が0.01〜5mmである、請求項1〜4のいずれか1つに記載の色素増感型太陽電池用電極基板。
- 請求項1〜5のいずれか1つに記載の電極基板と、該電極基板における透明導電膜の表面に積層された金属酸化物半導体膜と、金属酸化物半導体膜に保持された増感色素とを備えてなる、色素増感型太陽電池用光電極。
- 請求項1〜5のいずれか1つに記載の電極基板を備えてなる、色素増感型太陽電池用対向電極。
- 請求項6記載の光電極と、対向電極と、両電極間に介在された電解質層とを備えてなる、色素増感型太陽電池。
- 対向電極が、請求項7記載の対向電極よりなる、請求項8記載の色素増感型太陽電池。
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