JP4872212B2 - Manufacturing method of ceramic element - Google Patents
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Description
本発明は、例えば圧電素子等といったセラミック素子の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic element such as a piezoelectric element.
セラミック素子の一つである積層型圧電素子の中には、例えば各々独立に変位可能な複数の個別変位部(活性部)を有すると共に、各個別変位部間に例えば変位を増やすためのスリットを設けたものがある。このような積層型圧電素子を製造する方法としては、例えば特許文献1,2に開示されているものが知られている。
A multilayer piezoelectric element, which is one of ceramic elements, has, for example, a plurality of individual displacement portions (active portions) that can be independently displaced, and a slit for increasing displacement, for example, between each individual displacement portion. There is something provided. As a method of manufacturing such a multilayer piezoelectric element, for example, those disclosed in
特許文献1に記載の方法は、圧電層と電極層とを交互に積層圧着させて一体化し、これに焼結を施して積層体を形成した後、超音波砥粒加工により積層体にスリット状の孔部を形成するというものである。特許文献2に記載の方法は、電極膜が形成された複数枚の圧電材料グリーンシートを用意し、パンチ及びダイを用いて各グリーンシートに複数のスリットを形成することにより、各グリーンシートに櫛歯を形成すると共に、ストリッパを用いて各グリーンシートを積層して複数の圧電層を形成し、その後で焼成を行うというものである。
しかしながら、上記従来技術においては、以下の問題点が存在する。即ち、特許文献1に記載の方法で採用されている超音波砥粒加工は、研磨剤を使って被加工物を衝撃破砕させる機械的加工である。このため、積層体の焼成後に、超音波砥粒加工により積層体(圧電素子)にスリット状の孔部を形成するときに、圧電素子にマイクロクラックが発生したり、圧電素子中の粒子が脱落することがあり、圧電素子における加工面の強度が低下してしまう。また、特許文献2に記載の方法では、パンチング加工を採用するため、グリーンシートに細長いスリットを形成するのが困難である。また、ダイとグリーンシートとの接触によりグリーンシートに亀裂が入りやすくなるため、圧電素子の強度低下につながる。従って、上記の特許文献1,2に記載の方法では、近年要求されているセラミック素子の小型化及び高集積化に対処することができない。
However, the following problems exist in the prior art. That is, the ultrasonic abrasive grain processing employed in the method described in Patent Document 1 is a mechanical process that impacts and crushes a workpiece using an abrasive. For this reason, when a slit-like hole is formed in the laminate (piezoelectric element) by ultrasonic abrasive processing after the laminate is fired, microcracks occur in the piezoelectric element or particles in the piezoelectric element fall off. This may reduce the strength of the processed surface of the piezoelectric element. In the method described in
本発明の目的は、セラミック素子の強度を確保しつつ、セラミック素子における各個別電極間に対応する部位に貫通孔を容易に且つ精度良く形成することができるセラミック素子の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a ceramic element that can easily and accurately form a through-hole at a portion corresponding to each individual electrode in the ceramic element while ensuring the strength of the ceramic element. is there.
本発明は、複数の個別電極とコモン電極とを圧電体層を介して交互に積層してなり、圧電体層における個別電極とコモン電極とに挟まれる部分が、電圧を印加したときに変位する活性部として構成され、圧電体層における隣り合う各個別電極間に対応する部位に、積層方向に対して貫通すると共に個別電極の長手方向に沿って延在し、圧電体層の変位を促進させるためのスリット状の貫通孔を有するセラミック素子の製造方法であって、圧電体層を構成すると共に鉛を含有するセラミック材料で形成された第1セラミックシート及び第2セラミックシートを用意する工程と、第1セラミックシートに複数の個別電極を形成すると共に、第2セラミックシートにコモン電極を形成する工程と、第1セラミックシート及び第2セラミックシートにYAGレーザの第2次高調波または第3次高調波のレーザ光を照射することで、貫通孔の一部を構成するためのスリット孔を第1セラミックシート及び第2セラミックシートに形成する工程と、個別電極及びスリット孔が形成された第1セラミックシートとコモン電極及びスリット孔が形成された第2セラミックシートとを各スリット孔同士の位置が合うように積層して、貫通孔を有するセラミック積層体を形成する工程と、貫通孔を有するセラミック積層体を形成した後に、セラミック積層体を焼成する工程とを含むことを特徴とするものである。 In the present invention, a plurality of individual electrodes and common electrodes are alternately stacked via a piezoelectric layer, and a portion of the piezoelectric layer sandwiched between the individual electrodes and the common electrode is displaced when a voltage is applied. It is configured as an active portion and penetrates in the stacking direction to a portion corresponding to between each adjacent individual electrode in the piezoelectric layer and extends along the longitudinal direction of the individual electrode to promote displacement of the piezoelectric layer. A method of manufacturing a ceramic element having a slit-like through-hole for preparing a first ceramic sheet and a second ceramic sheet, which constitute a piezoelectric layer and is formed of a lead-containing ceramic material , and forming a plurality of individual electrodes in the first ceramic sheet, a step of forming a common electrode on the second ceramic sheet, a first ceramic sheet and a second ceramic sheet By irradiating the second harmonic wave or third harmonic wave laser beam of the AG laser, forming a slit for forming a part of the through-holes in the first ceramic sheet and a second ceramic sheet The first ceramic sheet in which the individual electrodes and the slit holes are formed and the second ceramic sheet in which the common electrodes and the slit holes are formed are laminated so that the positions of the respective slit holes are aligned, and the ceramic laminate having the through holes A step of forming a body and a step of firing the ceramic laminate after forming the ceramic laminate having through holes .
このように本発明においては、焼成前の第1セラミックシート及び第2セラミックシートにレーザ光を照射して、セラミック素子の貫通孔の一部を構成するためのスリット孔を形成することにより、例えば焼成後のセラミック積層体に対して超音波砥粒加工を施して貫通孔を形成する場合と異なり、セラミックシートにクラックが発生したり、セラミックシート中の粒子の脱落が生じることは殆ど無い。また、パンチング加工等を用いてセラミックシートにスリット孔を形成する場合と異なり、所望形状のスリット孔の形成が簡単に行える。これにより、例えば多数の個別電極を有する小型のセラミック素子を製造する場合であっても、セラミック素子の機械的強度が確保されると共に、セラミック素子における各個別電極間に対応する部位に所望の貫通孔を容易に且つ精度良く形成することができる。 As described above, in the present invention, by irradiating the first ceramic sheet and the second ceramic sheet before firing with laser light to form a slit hole for constituting a part of the through hole of the ceramic element, for example, Unlike the case where ultrasonic abrasive grain processing is performed on the fired ceramic laminate to form through holes, cracks are hardly generated in the ceramic sheet and particles in the ceramic sheet are hardly dropped off. Further, unlike the case of forming a slit hole in a ceramic sheet using punching or the like, it is possible to easily form a slit hole having a desired shape. Thereby, for example, even when a small ceramic element having a large number of individual electrodes is manufactured, the mechanical strength of the ceramic element is ensured, and a desired penetration is provided at a portion corresponding to each individual electrode in the ceramic element. A hole can be formed easily and accurately.
また、セラミック素子を圧電素子として使用する場合には、圧電層を形成するセラミックシートを、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等といった鉛を含有するセラミック材料で形成するのが好適とされている。このような鉛を含有するセラミック材料からなるセラミックシートに対して、YAGレーザの第2次高調波または第3次高調波のレーザ光を照射することにより、微細な所望形状のスリット孔を確実に形成することができる。 Further, when a ceramic element is used as a piezoelectric element, it is preferable that the ceramic sheet forming the piezoelectric layer is formed of a ceramic material containing lead such as PZT (lead zirconate titanate). . By irradiating the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser to the ceramic sheet made of such a lead-containing ceramic material, it is possible to reliably form a fine slit hole having a desired shape. Can be formed.
このとき、YAGレーザの第2次高調波または第3次高調波のレーザ光をQスイッチングにより繰り返し発振させて照射することが好ましい。このようにレーザ光をQスイッチングにより繰り返し発振させることにより、レーザ光の大きな尖頭出力が得られるようになる。このため、セラミックシートの孔部周辺に切削屑が堆積しにくくなると共に、スリット孔のテーパー状の広がりが抑えられるため、微細な所望形状のスリット孔をより精度良く形成することができる。 At this time, it is preferable that the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser is repeatedly oscillated by Q switching and irradiated. By repeatedly oscillating the laser light by Q switching in this way, a large peak output of the laser light can be obtained. For this reason, it becomes difficult for cutting waste to accumulate around the hole portion of the ceramic sheet, and the taper-shaped spread of the slit hole is suppressed, so that a fine slit hole having a desired shape can be formed with higher accuracy.
本発明によれば、セラミック素子の強度を確保しつつ、セラミック素子における各個別電極間に対応する部位に貫通孔を容易に且つ精度良く形成することができる。これにより、近年要求されているセラミック素子の小型化及び高集積化に十分対処することが可能となる。このとき、例えばセラミック素子を圧電素子として使用する場合には、セラミック素子に形成された貫通孔によって、セラミック素子における各個別電極に対応する各活性部の変位量を増大させつつ、各活性部毎の変位量のばらつきを抑えることができる。 According to the present invention, it is possible to easily and accurately form a through-hole at a portion corresponding to each individual electrode in a ceramic element while ensuring the strength of the ceramic element. As a result, it is possible to sufficiently cope with downsizing and high integration of ceramic elements that have been required in recent years. At this time, for example, when a ceramic element is used as the piezoelectric element, each active portion is increased while the displacement amount of each active portion corresponding to each individual electrode in the ceramic element is increased by the through-hole formed in the ceramic element. Variation in the amount of displacement can be suppressed.
以下、本発明に係わるセラミック素子の製造方法の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。 Preferred embodiments of a method for producing a ceramic element according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明に係わるセラミック素子の製造方法の一実施形態によって製造されたセラミック素子を示す側断面図である。同図において、本実施形態に係わるセラミック素子は、積層型圧電素子1である。 FIG. 1 is a side sectional view showing a ceramic element manufactured by an embodiment of a method for manufacturing a ceramic element according to the present invention. In the figure, the ceramic element according to this embodiment is a multilayer piezoelectric element 1.
積層型圧電素子1の内部には、複数の内部個別電極2と、各内部個別電極2に対応する部分(後述する電極パターン部22a,27aに相当)を含む内部コモン電極3とが設けられている。複数の内部個別電極2と内部コモン電極3とは、圧電体層4を介して交互に積層されている。積層型圧電素子1の上面には、複数の内部個別電極2と電気的に接続された複数の外部個別電極5と、内部コモン電極3と電気的に接続された外部コモン電極6とが設けられている。また、積層型圧電素子1において、各内部個別電極2間に対応する圧電体層4の部分には、高さ方向に貫通するスリット状の貫通孔7が形成されている。この貫通孔7は、圧電体層4の変位を促進させる為のものである。
In the multilayer piezoelectric element 1, a plurality of internal
積層型圧電素子1は、図2に示すように、各種電極パターンが設けられた長方形状のセラミックシート8〜12を積層して形成されている。セラミックシート8〜12の寸法は、例えば縦10mm×横30mm×厚さ30μm程度である。
As shown in FIG. 2, the multilayer piezoelectric element 1 is formed by laminating rectangular
セラミックシート8の上面には、図3に示すように、複数の個別電極パターン13とコモン電極中継パターン14とが形成されている。個別電極パターン13は、マトリクス状(例えば75行4列)に配列されている。コモン電極中継パターン14は、セラミックシート8の一端部に形成されている。また、セラミックシート8には、各個別電極パターン13と電気的に接続された複数のスルーホール15と、コモン電極中継パターン14と電気的に接続されたスルーホール16とが形成されている。さらに、セラミックシート8において、列方向(セラミックシート8の横方向)に隣り合う各個別電極パターン13間には、上記貫通孔7の一部を構成するためのスリット孔17がマトリクス状に形成されている。このスリット孔17は、個別電極パターン13の長手方向に沿って延在している。
As shown in FIG. 3, a plurality of
セラミックシート9の上面には、図4に示すように、複数の個別電極パターン18とコモン電極中継パターン19とが形成されている。個別電極パターン18は、セラミックシート8上の個別電極パターン13と対応するようにマトリクス状に配列されている。コモン電極中継パターン19は、セラミックシート8上のコモン電極中継パターン14と対応する位置に形成されている。また、セラミックシート9には、コモン電極中継パターン19と電気的に接続されたスルーホール20が形成されている。さらに、セラミックシート9において、列方向に隣り合う各個別電極パターン18間には、スリット孔17と同じ形状を有し上記貫通孔7の一部を構成するためのスリット孔21が形成されている。
As shown in FIG. 4, a plurality of
セラミックシート10の上面には、図5に示すように、コモン電極パターン22と複数の個別電極中継パターン23とが形成されている。コモン電極パターン22は、セラミックシート8上の各個別電極パターン13に対応する位置に形成された複数の電極パターン部22aと、セラミックシート8上のコモン電極パターン14に対応する位置に形成された電極パターン部22bとを含んでいる。個別電極中継パターン23は、個別電極パターン13に対応する位置において、行方向(セラミックシート10の縦方向)に対して電極パターン部22aに隣接するように形成されている。また、セラミックシート10には、各個別電極中継パターン23と電気的に接続された複数のスルーホール24と、コモン電極パターン22と電気的に接続されたスルーホール25とが形成されている。スルーホール25は、セラミックシート8のスルーホール16に対応して電極パターン部22bの領域内に設けられている。さらに、セラミックシート10において、列方向に対して隣り合う各電極パターン部22a間には、スリット孔17と同じ形状を有し上記貫通孔7の一部を構成するためのスリット孔26が形成されている。
As shown in FIG. 5, a
セラミックシート11の上面には、図6に示すように、コモン電極パターン27が形成されている。コモン電極パターン27は、セラミックシート10上の各電極パターン部22aに対応する複数の電極パターン部27aと、電極パターン部22bに対応する電極パターン部27bとを含んでいる。また、セラミックシート11において、列方向に隣り合う各電極パターン部27a間には、スリット孔17と同じ形状を有し上記貫通孔7の一部を構成するためのスリット孔28が形成されている。
As shown in FIG. 6, a
セラミックシート12の上面には、図7に示すように、複数の個別端子電極パターン30とコモン端子電極パターン31とが形成されている。個別端子電極パターン30は、セラミックシート10上の個別電極中継パターン23に対応する位置に形成されている。コモン端子電極パターン31は、セラミックシート8上のコモン電極中継パターン14に対応する位置に形成されている。また、セラミックシート12には、各個別端子電極パターン30と電気的に接続された複数のスルーホール32と、コモン端子電極パターン31と電気的に接続されたスルーホール33とが形成されている。さらに、セラミックシート12には、スリット孔17と同じ形状を有し上記貫通孔7の一部を構成するための複数のスリット孔34が形成されている。
As shown in FIG. 7, a plurality of individual
セラミックシート8〜12自体は、上記の圧電体層4を構成するものであり、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)を主成分とした圧電セラミック材料で形成されている。個別電極パターン13,18は、上記の内部個別電極2を構成し、コモン電極パターン22,27は、上記の内部コモン電極3を構成するものである。個別端子電極パターン30は、上記の外部個別電極5を構成し、コモン端子電極パターン31は、上記の外部コモン電極6を構成するものである。個別電極パターン13,18、コモン電極パターン22,27、個別電極中継パターン23及びコモン電極中継パターン14,19は、例えばAg/Pd等で形成されている。個別端子電極パターン30及びコモン端子電極パターン31は、例えばAg、Au、Cu等で形成されている。
The
なお、セラミックシート10の上面に形成されるコモン電極パターン22としては、複数の電極パターン部22aに分けずに、例えばセラミックシート10の横方向に延びる長方形のベタ状であっても良い。この場合には、セラミックシート10におけるコモン電極パターン22のベタ状部分の領域内にスリット孔26を形成する。セラミックシート11の上面に形成されるコモン電極パターン27についても同様である。
The
積層型圧電素子1は、図2に示すように、上からシート12、シート10、シート8、シート10、シート8、シート10、シート8、シート10、シート9及びシート11を重ねた構造をなしている。そして、最上層のセラミックシート12上に設けられた個別端子電極パターン30は、スルーホール32、個別電極中継パターン23、スルーホール24、個別電極パターン13及びスルーホール15を介して、下から2層目のセラミックシート9上に設けられた個別電極パターン18と電気的に接続されている。また、最上層のセラミックシート12上に設けられたコモン端子電極パターン31は、スルーホール33、コモン電極パターン22、スルーホール25、コモン電極中継パターン14、スルーホール16、コモン電極中継パターン19及びスルーホール20を介して、最下層のセラミックシート11上に設けられたコモン電極パターン27と電気的に接続されている。
As shown in FIG. 2, the laminated piezoelectric element 1 has a structure in which a
また、図1に示すように、積層型圧電素子1の圧電体層4における各内部個別電極2及び各外部個別電極5と内部コモン電極3とに挟まれる部分は、電圧を印加したときに変位する活性部4aを構成している。この活性部4aの寸法は、例えば長さ1.8mm、幅150μm程度である。また、各セラミックシート8〜12のスリット孔17,21,26,28,34によって、セラミックシート8〜12の積層方向に貫通するスリット状の貫通孔7が形成されている。この貫通孔7の寸法は、例えば長さ1.8mm、幅50μm程度である。
Further, as shown in FIG. 1, the portions sandwiched between the individual
このような積層型圧電素子1において、任意の外部個別電極5と外部コモン電極6との間に電圧を印加すると、選択された外部個別電極5の直下に位置する内部個別電極2と内部コモン電極3との間にも電圧が印加されることになる。これにより、該当する外部個別電極5及び内部個別電極2と内部コモン電極3とに挟まれる活性部4aに電界が生じ、この活性部4aが変位するようになる。このとき、圧電体層4における各内部個別電極2間に対応する部位にはスリット状の貫通孔7が形成されているので、活性部4aの変位量が大きくなると共に、隣り合う活性部4a同士の変位による機械的干渉や電界強度等の電気的干渉を防止することができる。
In such a laminated piezoelectric element 1, when a voltage is applied between any external
次に、上述した積層型圧電素子1を製造する方法について、図8に示すフローチャートより説明する。 Next, a method for manufacturing the multilayer piezoelectric element 1 described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
まず、セラミックグリーンシートを作る(工程101)。具体的には、例えばPZTを主成分とした圧電セラミックを用意し、これに有機バインダ・有機溶剤等を混合したペーストを作製する。そして、図9に示すように、そのペーストをタンク36内に貯留した後、キャリアフィルム37を一方のリール38から他方のリール38へと巻き取る間に、ドクターブレード法によって上記ペーストをキャリアフィルム37上に塗布することで、キャリアフィルム37の上面にセラミックグリーンシート39を形成する。なお、キャリアフィルム37としては、例えばPETフィルムを用いる。また、セラミックグリーンシート39は、上記のセラミックシート8〜12に相当するものである。
First, a ceramic green sheet is made (step 101). Specifically, for example, a piezoelectric ceramic mainly composed of PZT is prepared, and a paste in which an organic binder, an organic solvent, or the like is mixed is prepared. As shown in FIG. 9, after the paste is stored in the
続いて、図10に示すように、セラミックグリーンシート39が形成されたキャリアフィルム37を一方のリール38から他方のリール38へと巻き取りつつ、Nd:YAGレーザ40を用いてグリーンシート39に多数のスリット孔(上記のスリット孔17,21,26,28,34に相当)を形成する(工程102)。具体的には、グリーンシート39の所定位置にNd:YAGレーザ40の第3次高調波(波長355nm)のレーザ光Lを照射して、スリット孔を形成する。このとき、Nd:YAGレーザ40の第3次高調波をQスイッチングにより繰り返し発振(ON/OFF)させたレーザ光Lを照射するのが好ましい。この時のレーザ照射条件としては、例えば繰り返し周波数が30kHz、パルス幅が210nsec、出力が5Wである。
Subsequently, as shown in FIG. 10, while winding the
このようにグリーンシート39に対してレーザ光Lを照射することにより、幅狭のスリット孔を容易に且つ精度良く形成することができる。また、打ち抜き加工(パンチング加工)によってスリット孔を形成する場合には、グリーンシート39と一緒にキャリアフィルム37を打ち抜いてしまったり、その時にキャリアフィルム37から出る屑がグリーンシート39に付着・堆積したり、打ち抜き金型とグリーンシート39との接触によりグリーンシート39に亀裂が入りやすいといった問題があるが、レーザ光Lを用いてスリット孔を形成することで、そのような不具合が生じることは無い。
Thus, by irradiating the
また、第3次高調波のレーザ光LをQスイッチングにより繰り返し発振させて照射することにより、レーザ光Lのパワーピークが高くなり、大きな尖頭出力が得られるようになる。このため、加工によりグリーンシート39から発生する切削屑がスリット孔の周辺に付着・堆積することが抑制される。また、テーパー状の広がりが極めて小さいスリット孔が得られる。
Further, by irradiating the third harmonic laser beam L by repeatedly oscillating it by Q switching, the power peak of the laser beam L becomes high and a large peak output can be obtained. For this reason, it is suppressed that the cutting waste generated from the
なお、Nd:YAGレーザ40のレーザ光Lとしては、第3次高調波のレーザ光の代わりに、第2次高調波(波長532nm)のレーザ光を用いても良い。この場合にも、上記と同様の作用効果を得ることができる。
As the laser beam L of the Nd:
このようなグリーンシート39へのスリット孔の形成が終了した後、同じNd:YAGレーザ40を用いて、グリーンシート39に複数のスルーホール(上記のスルーホール15,16,20,24,25,33,34に相当)を形成する(工程103)。このとき、Nd:YAGレーザ40によるレーザ光Lの照射条件は、上記の工程102と同様である。これにより、穴径の小さなスルーホールを簡単且つ確実に形成することが可能となる。そして、例えばAg:Pd=7:3の比率で構成された導電材料と有機バインダ・有機溶剤等とを混合したペーストを作製し、例えばスクリーン印刷法によりスルーホール内に導電ペーストを充填する(工程104)。
After the formation of the slit hole in the
続いて、グリーンシート39の上面に電極パターン(上記の電極パターン13,14,18,19,22,23,27に相当)を形成する(工程105)。具体的には、スルーホールの充填材と同じく、例えばAg:Pd=7:3の比率で構成された金属材料と有機バインダ・有機溶剤等とを混合したペーストを作製し、例えばスクリーン印刷法により電極パターンを形成する。
Subsequently, an electrode pattern (corresponding to the
続いて、ピックアップ装置(図示せず)を用いて、電極パターンが印刷された後のグリーンシート39をキャリアフィルム37から剥離させた後、グリーンシート39を所定の枚数だけ所定の順序で積層する(工程106)。このとき、例えば各グリーンシート39の所定の複数箇所にアライメントマークを形成しておき、各グリーンシート39のアライメントマーク同士を合わせながら積層を行うことにより、各グリーンシート39に形成された個別電極パターン同士及びスリット孔同士の積層方向に対する位置合わせが容易に行える。そして、そのセラミック積層体に対し、例えば60℃程度の熱を加えながら100MPa程度の圧力でプレス加工を行い、各層のグリーンシート39を圧着させる。その後、セラミック積層体を所定の寸法に切断する(工程107)。
Subsequently, the pickup device (not shown) is used to peel off the
続いて、セラミック積層体をセッター(支持体)に載せ、セラミック積層体の脱脂(脱バインダ)を例えば400℃前後の温度で10時間程度行う(工程108)。その後、セラミック積層体が載置されたセッターをこう鉢内に入れ、セラミック積層体の焼成を例えば1100℃程度の温度で2時間程度行い、焼結体を得る(工程109)。 Subsequently, the ceramic laminate is placed on a setter (support), and degreasing (debinding) of the ceramic laminate is performed, for example, at a temperature of about 400 ° C. for about 10 hours (step 108). Thereafter, the setter on which the ceramic laminate is placed is placed in a mortar, and the ceramic laminate is fired at a temperature of, for example, about 1100 ° C. for about 2 hours to obtain a sintered body (step 109).
続いて、焼成後のセラミック積層体の上面に、例えばAgからなる端子電極パターン(上記の端子電極パターン30,31に相当)を形成する(工程110)。この端子電極パターンの形成手法としては、焼付け、スパッタリング、無電解メッキ法などが用いられる。そして、例えば温度120℃の環境下で、圧電体層の厚みに対する電界強度が3kV/mmとなるように所定の電圧を例えば3分間印加することにより、分極処理を行う(工程111)。これにより、積層型圧電素子1が完成する。
Subsequently, a terminal electrode pattern made of, for example, Ag (corresponding to the
なお、積層型圧電素子1の製造手順としては、特に上記の手順には限られない。例えばスリット孔の形成工程(工程102)については、グリーンシートの形成工程(工程101)を実施した後、グリーンシートの積層工程(工程106)を実施する前であれば、どのタイミングで実施しても構わない。ただし、積層型圧電素子1の製造をより効率良く行うためには、スリット孔の形成工程とスルーホールの形成工程とをまとめて実施するのが望ましい。 The manufacturing procedure of the multilayer piezoelectric element 1 is not particularly limited to the above procedure. For example, the slit hole forming step (step 102) is performed at any timing after the green sheet forming step (step 101) and before the green sheet laminating step (step 106). It doesn't matter. However, in order to manufacture the multilayer piezoelectric element 1 more efficiently, it is desirable to perform the slit hole forming step and the through hole forming step together.
以上のような積層型圧電素子1の製造方法においては、セラミックグリーンシート39に対してYAGレーザ40の第2次高調波または第3次高調波のレーザ光Lを照射することで、セラミックグリーンシート39にスリット孔を形成するので、上述したように微細なスリット孔を精度良く加工することができる。これにより、最終的に積層型圧電素子1に形成される各スリット状の貫通孔7の寸法精度が高くなる。従って、各内部個別電極2に対応する各活性部4a毎の変位量のばらつきが低減されるため、多チャネル型圧電素子(圧電アクチュエータ)としての品質を向上させることができる。
In the manufacturing method of the multilayer piezoelectric element 1 as described above, the ceramic
また、セラミック積層体を焼成する前のセラミックグリーンシート39の状態で、レーザ光Lによりスリット孔を形成するので、微細なスリット孔の加工が簡単に且つ短時間で行える。また、セラミックグリーンシート39にマイクロクラックが発生したり、セラミックグリーンシート39中の粒子が脱落することは殆ど無く、セラミックグリーンシート39の加工部分の強度低下が抑えられるため、積層型圧電素子1の所望な機械的強度を確保することができる。
In addition, since the slit holes are formed by the laser light L in the state of the ceramic
以上により、多数の個別電極2と多数のスリット状の貫通孔7とを有する積層型圧電素子1の小型化及び高集積化を実現することが可能となる。
As described above, the multilayer piezoelectric element 1 having a large number of
さらに、例えばスリット孔と同じ機能をもった櫛歯部を有するセラミックグリーンシートを用いて、上記と同様の方法により積層型圧電素子を作る場合には、グリーンシートをキャリアフィルム37から剥離させるときに、グリーンシートの櫛歯部が脱落したり変形することがある。本実施形態では、厚さ方向のみ開放されているスリット孔を有するセラミックグリーンシート39を用いて積層型圧電素子1を製造するので、グリーンシート39をキャリアフィルム37から剥離させるときに、グリーンシート39の一部脱落や変形が発生することは無い。
Further, when a laminated piezoelectric element is made by the same method as described above using, for example, a ceramic green sheet having a comb tooth portion having the same function as a slit hole, the green sheet is peeled off from the
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、セラミックシートにYAGレーザの第2次高調波または第3次高調波のレーザ光を照射してスリット孔を形成するようにしたが、使用するレーザ光の種類としては、特にそれに限られず、セラミックシートの材料等に応じて適宜決めれば良い。 The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, the ceramic sheet is irradiated with the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser to form a slit hole. In particular, the present invention is not limited thereto, and may be determined as appropriate according to the material of the ceramic sheet.
また、上記実施形態では、各層の個別電極同士及びコモン電極同士がスルーホールを介して電気的に接続される構成としたが、スルーホールの代わりに、例えば各層の個別電極同士を接続する外部電極と各層のコモン電極同士を接続する外部電極とを積層型圧電素子の側面に設けても良い。 Moreover, in the said embodiment, although it was set as the structure by which the individual electrodes and common electrodes of each layer were electrically connected through a through hole, instead of a through hole, the external electrode which connects the individual electrodes of each layer, for example And an external electrode for connecting the common electrodes of each layer may be provided on the side surface of the multilayer piezoelectric element.
さらに、上記実施形態に係わるセラミック素子の製造方法は、積層型圧電素子の製造方法であるが、本発明は、圧電素子の製造に限られず、例えば圧電センサ等の製造についても適用可能である。この場合、セラミック素子の用途・機能等に応じて、セラミック素子に設ける貫通孔の形状(スリット、円形、矩形、櫛歯状等)やサイズ等を適宜決めれば良い。 Furthermore, the method for manufacturing a ceramic element according to the above embodiment is a method for manufacturing a multilayer piezoelectric element. However, the present invention is not limited to manufacturing a piezoelectric element, and can be applied to manufacturing a piezoelectric sensor, for example. In this case, the shape (slit, circular shape, rectangular shape, comb tooth shape, etc.) and size of the through hole provided in the ceramic element may be appropriately determined according to the application / function of the ceramic element.
1…積層型圧電素子(セラミック素子)、2…内部個別電極、3…内部コモン電極、4…圧電体層、5…外部個別電極、6…外部コモン電極、7…貫通孔、8,9…セラミックシート(第1セラミックシート)、10,11…セラミックシート(第2セラミックシート)、12…セラミックシート(第1セラミックシート、第2セラミックシート)、13…個別電極パターン、17…スリット孔(孔部)、18…個別電極パターン、21…スリット孔(孔部)、22…コモン電極パターン、26…スリット孔(孔部)、27…コモン電極パターン、28…スリット孔(孔部)、30…個別端子電極パターン、31…コモン端子電極パターン、34…スリット孔(孔部)、39…セラミックグリーンシート(第1セラミックシート、第2セラミックシート)、L…レーザ光。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated piezoelectric element (ceramic element), 2 ... Internal individual electrode, 3 ... Internal common electrode, 4 ... Piezoelectric layer, 5 ... External individual electrode, 6 ... External common electrode, 7 ... Through-hole, 8, 9 ... Ceramic sheet (first ceramic sheet), 10, 11 ... Ceramic sheet (second ceramic sheet), 12 ... Ceramic sheet (first ceramic sheet, second ceramic sheet), 13 ... Individual electrode pattern, 17 ... Slit hole (hole) Part), 18 ... individual electrode pattern, 21 ... slit hole (hole part), 22 ... common electrode pattern, 26 ... slit hole (hole part), 27 ... common electrode pattern, 28 ... slit hole (hole part), 30 ... Individual terminal electrode pattern, 31 ... Common terminal electrode pattern, 34 ... Slit hole (hole), 39 ... Ceramic green sheet (first ceramic sheet, second ceramic) Kushito), L ... laser light.
Claims (2)
前記圧電体層を構成すると共に鉛を含有するセラミック材料で形成された第1セラミックシート及び第2セラミックシートを用意する工程と、
前記第1セラミックシートに前記複数の個別電極を形成すると共に、前記第2セラミックシートに前記コモン電極を形成する工程と、
前記第1セラミックシート及び前記第2セラミックシートにYAGレーザの第2次高調波または第3次高調波のレーザ光を照射することで、前記貫通孔の一部を構成するためのスリット孔を前記第1セラミックシート及び前記第2セラミックシートに形成する工程と、
前記個別電極及び前記スリット孔が形成された前記第1セラミックシートと前記コモン電極及び前記スリット孔が形成された前記第2セラミックシートとを前記各スリット孔同士の位置が合うように積層して、前記貫通孔を有するセラミック積層体を形成する工程と、
前記貫通孔を有する前記セラミック積層体を形成した後に、前記セラミック積層体を焼成する工程とを含むことを特徴とするセラミック素子の製造方法。 An activity in which a plurality of individual electrodes and common electrodes are alternately stacked via a piezoelectric layer, and a portion of the piezoelectric layer sandwiched between the individual electrodes and the common electrode is displaced when a voltage is applied. Displacement of the piezoelectric layer, which is configured as a portion, penetrates in the stacking direction and extends along the longitudinal direction of the individual electrode, at a portion corresponding to between the individual electrodes adjacent to each other in the piezoelectric layer. A method of manufacturing a ceramic element having a slit-like through-hole for promoting
Preparing a first ceramic sheet and a second ceramic sheet that are formed of a ceramic material that constitutes the piezoelectric layer and contains lead ; and
Forming the plurality of individual electrodes on the first ceramic sheet and forming the common electrode on the second ceramic sheet;
By irradiating the first ceramic sheet and the second ceramic sheet with the second harmonic or the third harmonic of the YAG laser, the slit hole for constituting a part of the through hole is formed as described above. Forming the first ceramic sheet and the second ceramic sheet;
The first ceramic sheet in which the individual electrodes and the slit holes are formed and the second ceramic sheet in which the common electrode and the slit holes are formed are stacked so that the positions of the slit holes are aligned, Forming a ceramic laminate having the through holes;
And a step of firing the ceramic laminate after forming the ceramic laminate having the through-holes .
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