JP4869656B2 - 干渉計 - Google Patents
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Description
次に、本発明の第2の実施の形態に係る干渉計を図3を参照して説明する。第1の実施の形態の干渉計と同一の構成部材については同一の符号を付しその詳細な説明は省略する。この実施の形態の干渉計は、偏光板118'が設けられ1/4波長板107(図8)を不要としている点で第1の実施の形態と共通している。しかし、偏光板118'は、光源101からの光の入射光軸に対して斜めに設置され、透過側に被測定物Wが、反射側に参照面120が設置されるものである点で、第1の実施の形態と異なっている。この構成において、偏光板118'で反射したp偏光の光は参照面120で反射して偏光板118'で再び反射される。一方、偏光板118'を透過したs偏光の光は被測定物Wで反射して偏光板118'を再び透過する。このp偏光の光とs偏光の光とが、合成部材としても機能する偏光板118'により合成され、ビームスプリッタ104で反射され集光レンズ121で集光された後偏光板114A〜Cで位相シフトを与えられる。これにより、位相シフト法による干渉計測が、第1の実施の形態と同様に実施可能となる。
これにより、CCD撮像素子109Bで撮像される干渉縞の位相は、CCD撮像素子109Aで撮像される干渉縞の位相とは90°異なったものとすることができる。一方、偏光板114Cの透過軸方向はα+90°とされているため、CCD撮像素子109Aで撮像される干渉縞と、CCD撮像素子109Cで撮像される干渉縞との間には、180°の位相シフトが生じる。このため、第1の実施の形態と同様に、複数通りの位相シフトを与えられた干渉縞を得ることが出来る。
反射率が小さいと測定光の強度が参照光の強度に比べ小さくなる。この強度の差が大きくなると、干渉計測の精度が低下してしまう。そこで本実施の形態では、被測定物Wの反射率に応じて偏光板131の透過軸方位を変更し、これにより偏光板118に入射する光の偏光方向を変え、これにより参照光と測定光の強度比を調整している。このようにすることにより、参照光と測定光の強度の差を少なくすることができ、S/N比の高い干渉計測を行うことができる。なお、このような偏光板131は、上記第1、第2の実施の形態のような光学的位相シフトを用いた干渉計においても採用することが可能である。また、図7に示すように、偏光板131を省略すると共に、偏光板132を被測定物Wの反射率に応じて回転させるようにしても同様の効果を得ることができる。
Claims (6)
- 光源と、
前記光源が出射する出射光のうち第1方向の偏光成分を有する第1の光を透過させる一方前記第1方向と直交する第2方向の偏光成分を有する第2の光を反射させ、且つ前記第1の光又は前記第2の光のいずれか一方を被測定物で反射させて測定光とする一方他方を参照面で反射させて参照光として前記測定光と前記参照光を合成して合成光とする偏光部材と、
前記合成光を位相シフトさせる位相シフト部と、
前記位相シフト部により複数通りの異なる位相シフトを与えられた前記合成光による干渉縞画像を撮像する撮像部と
を備え、
前記偏光部材は、その反射面が前記出射光に対し垂直となるように設置されると共に前記反射面が前記参照面を兼用されるように構成され、
前記第1の光は、前記被測定物で反射した後、前記偏光部材を通過して前記第2の光と合成されることにより前記合成光とされる
ことを特徴とするフィゾー型干渉計。 - 前記偏光部材は、透明基板と、この透明基板の上に等間隔で形成された金属線格子とを備えたものであることを特徴とする請求項1記載のフィゾー型干渉計。
- 前記金属線格子は、前記透明基板上にフォトリソグラフィとエッチングにより形成されるものである請求項2記載のフィゾー型干渉計。
- 前記合成光を複数の光に分割する光分割手段を更に備え、
前記位相シフト部は、光学部材を用いて分割された前記複数の光に異なる位相シフトを与えるものである請求項1記載のフィゾー型干渉計。 - 前記位相シフト部は、前記参照面を移動させることにより前記合成光に位相シフトを与えるものである請求項1記載のフィゾー型干渉計。
- 前記出射光の偏光方向を変更して前記参照光と前記測定光との強度比を調整するため、前記偏光部材と前記光源との間に別の偏光部材を備えたことを特徴とする請求項1記載のフィゾー型干渉計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005229312A JP4869656B2 (ja) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | 干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005229312A JP4869656B2 (ja) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | 干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007046938A JP2007046938A (ja) | 2007-02-22 |
JP4869656B2 true JP4869656B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=37849880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005229312A Active JP4869656B2 (ja) | 2005-08-08 | 2005-08-08 | 干渉計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4869656B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017009099A1 (de) | 2016-11-09 | 2018-05-09 | Mitutoyo Corporation | Phasenverschiebungs-interferometer und formmessverfahren |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008286518A (ja) | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Hitachi Ltd | 変位計測方法とその装置 |
JP2012047607A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-03-08 | Hitachi Ltd | 内部欠陥検査方法及びその装置 |
JP5699105B2 (ja) * | 2012-04-11 | 2015-04-08 | 株式会社日立製作所 | 表面計測方法とその装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4606638A (en) * | 1983-11-03 | 1986-08-19 | Zygo Corporation | Distance measuring interferometer and method of use |
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JPH03195907A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 偏光フィゾー干渉計 |
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-
2005
- 2005-08-08 JP JP2005229312A patent/JP4869656B2/ja active Active
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DE102017009099A1 (de) | 2016-11-09 | 2018-05-09 | Mitutoyo Corporation | Phasenverschiebungs-interferometer und formmessverfahren |
US10444004B2 (en) | 2016-11-09 | 2019-10-15 | Mitutoyo Corporation | Phase shift interferometer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007046938A (ja) | 2007-02-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100922 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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