JP4856734B2 - マスクライタ調整及び最適化を実行する方法 - Google Patents
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Description
−プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの例は、粘弾性制御レイヤ及び反射面を有するマトリクスアドレス指定可能な表面である。上記装置の基本原理は、(例えば)反射面のアドレス指定された領域は、入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されていない領域は入射光を非回折光として反射するということである。適当なフィルタを用いて、上記非回折光は、反射ビームからフィルタリングすることができ、回折光のみを残すことができる。こうして、ビームは、マトリクスアドレス指定可能な表面のアドレス指定パターンに従ってパターン形成される。必要なマトリクスアドレス指定は、適切な電子手段を用いて実行することができる。上記ミラーアレイの詳細情報は、例えば、本明細書に参照により組み込むものとする米国特許第US5,296,891号及びUS5,523,193号から入手することができる。
−プログラマブルLCDアレイ。上記構成の例は、参照により本明細書に組み込むものとする米国特許第US5,229,872号に記載されている。
Claims (10)
- 基準マスクライタユニットを用いて第1のマスクライタユニットを調整する方法であって、前記第1のマスクライタユニット及び前記基準マスクライタユニットの各々が、マスク描画性能を制御するための調整可能なパラメータを有し、
テストパターン及びマスク描画モデルを定義するステップと、
前記基準マスクライタユニットを用いて前記テストパターンを生成し、マスク描画結果を測定するステップと、
前記第1のマスクライタユニットを用いて前記テストパターンを生成し、マスク描画結果を測定するステップと、
前記基準マスクライタユニットに対応する前記マスク描画結果を用いて前記マスク描画モデルを較正するステップであって、前記較正されたマスク描画モデルがパラメータ値の第1のセット(MP_R)を有するステップと、
前記第1のマスクライタユニットに対応する前記マスク描画結果を用いて、前のステップにおいて較正された前記較正後のマスク描画モデルを調整するステップであって、前記調整された較正後のマスク描画モデルがパラメータ値の第2のセット(MP_Ri)を有するステップと、
パラメータ値の前記第1のセット(MP_R)とパラメータ値の前記第2のセット(MP_Ri)の差に基づいて、前記第1のマスクライタユニットの前記パラメータ(Pi)を調整するステップと、
を含む方法。 - 前記第1のマスクライタユニットが、電子ビームライタユニット及び光ライタユニットのうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の第1のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記マスク描画モデルが、固定パラメータを含む、請求項1に記載の第1のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記第1のマスクライタユニットの前記調整可能なパラメータが、前記基準マスクライタユニットの前記調整可能なパラメータに対応する、請求項1に記載の第1のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記第1のマスクライタユニット及び前記基準マスクライタユニットの前記調整可能なパラメータが、前記テストパターンの生成時に公称値に設定される、請求項1に記載の第1のマスクライタユニットを調整する方法。
- マスク描画モデルを用いてマスクライタユニットを調整する方法であって、前記マスクライタユニット及び前記マスク描画モデルの各々が、マスク描画性能を制御するための調整可能なパラメータを有し、
テストパターンを定義するステップと、
前記マスクライタユニットを用いてテストパターンを生成し、結果を測定するステップであって、前記マスクライタユニットがパラメータ値の第1のセット(MP_K)を有するステップと、
前記マスクライタユニットに対応する前記結果を用いて前記マスク描画モデルを調整するステップであって、前記調整されたマスク描画モデルがパラメータ値の第2のセット(MP_KC)を有するステップと、
パラメータ値の前記第1のセット(MP_K)とパラメータ値の前記第2のセット(MP_KC)の差に基づいて、前記マスクライタユニットのパラメータ(PC)の前記第1のセットを調整するステップと、
を含む方法。 - 前記マスクライタユニットが、電子ビームライタユニット及び光ライタユニットのうちの少なくとも1つを含む、請求項6に記載のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記マスク描画モデルが、固定パラメータをさらに含む、請求項6に記載のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記マスクライタユニットの前記調整可能なパラメータが、前記マスク描画モデルの前記調整可能なパラメータに対応する、請求項6に記載のマスクライタユニットを調整する方法。
- 前記マスクライタユニットの前記調整可能なパラメータが、前記テストパターンの生成時に公称値に設定される、請求項6に記載のリソグラフィシステムを調整する方法。
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