JP6291581B2 - メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2013年12月30日出願の米国仮出願第61/921,907号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[0018] −放射ビームB(例えばDUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0019] −パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0020] −基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0021] −パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
[0035] 1.ステップモードでは、パターニングデバイス支持体(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTaは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTaがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0036] 2.スキャンモードでは、パターニングデバイス支持体(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTaは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。パターニングデバイス支持体(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTaの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
[0037] 3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体(例えば、マスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
(i)各々が(a)名前及び(b)範囲又は複数の離散値を備える、変数のセット
(ii)1つ以上の変数及び/又は定数、並びに、演算子(a)+、−、及び*並びに(b)≧、≦、及び=のうちの1つ以上(1つの式当たり1つの演算子)を使用する、例えば1つ以上の線形代数制約式を含む、制約のセット
(iii)本明細書で説明するような「二重制約」のセット
(iv)任意選択として、変数のうちの1つ以上について指定されるサンプリング間隔
1.等式である各制約について、ゼロよりも大きなスパンを伴う範囲を有する制約式で表される変数vを見つける。
2.vを代数的に分離する、すなわち、vを等式の一方の側に移動させ、v=f(x,y,z,...)のようにその係数によって等式を分割する。ここで、f(x,y,z,...)はvを含まない式である。
3.すべての他の制約式をチェックする。それらがvを含む場合、
a.制約式Eにvを分離する。
b.vの係数cを記憶する。
c.制約式からvを除去する。
d.制約式にc*f(x,y,z,...)を付加する。
e.式が残りの変数を1つしか有さない場合、vの範囲からその変数に与える新しい制限を計算する。
f.式Eが複数の残りの変数を有する場合、2つの新しい制約「E≧A」及び「E≦B」を付加する。ここで、[A,B]はvに関する範囲の限界である。
4.上記ステップ2のv=f(x,y,z,...)とは別に式を記憶する。
5.その変数を入力変数リストから除去する。
1.変数が割り当てられる予定の場合、変数をその値に設定する。
2.(式中のすべての変数が割り当てられているため)評価可能な二重制約が存在する場合、これをテストする。不合格の場合、空のターゲットリストを戻す。
3.(式中のすべての変数が割り当てられているため)評価可能な制約が存在する場合、これをテストする。不合格の場合、空のリストを戻す。
4.ゼロの範囲スパンを有する未割り当ての変数が存在する場合、その値を割り当てる(単一の再帰的呼び出し、割り当てのために変数にフラグを立てる)。
5.未割り当て変数が1つのみのいずれかの二重制約が存在する場合、制約に従ってその変数について可能な値を計算し、それらの値をサンプリングする(複数の再帰的呼び出し、割り当てのために変数にフラグを立てる)。
a.変数のサンプリング間隔よりも大幅に密なサンプリングを避けるために、必要に応じて値をスキップする。
6.ゼロよりも大きなスパンの範囲を有する未割り当ての変数が存在する場合、その範囲をサンプリングする(複数の再帰的呼び出し、割り当てのために変数にフラグを立てる)。
a.ポイントはサンプリング間隔の中心とされる。
b.値は厳密にサンプリング間隔である。
1.メトロロジーターゲット設計のコンピュータ実装方法であって、方法は、
メトロロジーターゲットのそれぞれの設計パラメータに範囲又は複数の値を提供すること、及び、
プロセッサにより、設計パラメータについて範囲又は複数の値内でサンプリングすることによって、メトロロジーターゲットの設計パラメータに関する制約を満たす1つ以上の設計パラメータを有する複数のメトロロジーターゲット設計を解決及び/又は選択することを含む。
2.リソグラフィモデルを使用して複数のメトロロジーターゲット設計をシミュレートすることを更に含む、第1項の方法。
3.設計パラメータのうちの少なくとも1つはメトロロジーターゲットのジオメトリックディメンションを備える、第1項又は第2項の方法。
4.制約は、範囲又は複数の値が提供されているものとは異なる設計パラメータに関するものである、第1項から第3項のいずれかの方法。
5.範囲又は複数の値を提供することは、ユーザによる範囲又は複数の値の選択を含む、第1項から第4項のいずれかの方法。
6.制約はユーザによって定義される、第1項から第5項のいずれかの方法。
7.制約は線形代数式を含む、第1項から第6項のいずれかの方法。
8.制約はメトロロジーターゲットの2つの異なるジオメトリックディメンション間の関係を含む、第1項から第7項のいずれかの方法。
9.メトロロジーターゲット設計は複数の層を備え、制約は1つの層のディメンションと別の層のディメンションとの間である、第1項から第8項のいずれかの方法。
10.設計パラメータはピッチ、クリティカルディメンション、及び/又はトレンチ幅を備える、第1項から第9項のいずれかの方法。
11.制約はターゲットを測定するために使用されるメトロロジーシステムによる物理的制限を含む、第1項から第9項のいずれかの方法。
12.物理的制限は、メトロロジーシステムで使用される放射の波長、メトロロジーシステムで使用される放射の偏波、メトロロジーシステムの開口数、ターゲットタイプ、及び/又はプロセスパラメータから選択された1つ以上を含む、第11項の方法。
13.設計パラメータについて範囲又は複数の値内でのサンプリングによって選択することは、固定サンプリング間隔をそれぞれの設計パラメータに適用することを含む、第1項から第12項のいずれかの方法。
14.1つの設計パラメータについてのサンプリング間隔は別の設計パラメータについてのものとは異なる、第13項の方法。
15.設計パラメータについて範囲又は複数の値内でのサンプリングによって選択することは、サンプリング間隔を設計パラメータに適用することを含み、サンプリング間隔について性能指数をシミュレートすること、及び、サンプリング間隔の減少が性能指数を大幅に変化させなくなるまでサンプリング間隔を反復的に減少させることを更に含む、第1項から第12項のいずれかの方法。
16.設計パラメータについて範囲又は複数の値内でサンプリングすることによって複数のメトロロジーターゲット設計を解決及び/又は選択する前に、設計パラメータの範囲又は複数の値に制約を適用することを更に含む、第1項から第15項のいずれかの方法。
17.第1項から第16項に従った方法を実行するための、コンピュータによって実行可能な命令を含むコンピュータ読み取り式媒体。
18.コンピュータによって実行可能な命令は、リモートコンピュータからコンピュータ読み取り式媒体への接続を使用して方法工程のうちの少なくともいくつかを始動させるための命令を更に含む、第17項のコンピュータ読み取り式媒体。
19.リモートコンピュータとの接続はセキュア接続である、第18項のコンピュータ読み取り式媒体。
20.メトロロジーターゲットのそれぞれの設計パラメータについての範囲又は複数の値はリモートコンピュータによって提供される、第18項及び第19項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体。
21.方法は、複数のメトロロジーターゲット設計の結果の解決又はサンプリングをリモートコンピュータに戻すように更に構成される、第20項のコンピュータ読み取り式媒体。
22.基板上で使用するメトロロジーターゲット設計を選択するためのシステムであって、
メトロロジーターゲットのそれぞれの設計パラメータに範囲又は複数の値を提供すること、及び、
設計パラメータについて範囲又は複数の値内でサンプリングすることによって、メトロロジーターゲットの設計パラメータに関する制約を満たす1つ以上の設計パラメータを有する複数のメトロロジーターゲット設計を解決及び/又は選択すること、
を実行するように構成及び配列された処理ユニットを備える、システム。
23.システムは、リモートシステムと通信するためのネットワークへの接続を備える、第22項に従ったシステム。
24.リモートシステムはメトロロジーターゲットのそれぞれの設計パラメータについての範囲又は複数の値をシステムに提供するように構成される、第23項に従ったシステム。
25.システムは、複数のメトロロジーターゲット設計の解決又はサンプリングの結果をリモートシステムに返送するためにリモートシステムへの接続を使用するように構成される、第23項又は第24項に従ったシステム。
26.メトロロジー測定システムを使用して測定されるように構成されたメトロロジーターゲットであって、第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって、選択される、メトロロジーターゲット。
27.メトロロジー測定システムは回析ベース測定システムを備える、第26項に従ったメトロロジーターゲット。
28.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲットを使用する、メトロロジー測定システム。
29.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲットを測定するように構成された、メトロロジー測定システム。
30.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲットを備える基板。
31.基板は集積回路の層のうちの少なくともいくつかを備えるウェーハである、第30項に従った基板。
32.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲットを結像するように構成されたリソグラフィ結像装置。
33.第26項及び第27項のいずれかに従ってメトロロジーターゲットを結像するように構成された、リソグラフィ結像装置。
34.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲットを表すデータ構造。
35.第26項及び第27項のいずれかに従ったメトロロジーターゲットを表すデータ構造。
36.第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲット設計を備えるデータベース。
37.データベースは、第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって各々が選択された複数のメトロロジーターゲット設計を備える、第36項に従ったデータベース。
38.第34項及び第35項のいずれかに従ったデータ構造を備えるデータベース。
39.データベースは、第1項から第16項のいずれかの方法によって、又は、第17項から第21項のいずれかのコンピュータ読み取り式媒体によって選択されたメトロロジーターゲット設計を各々が表す複数のデータ構造を備える、第38項に従ったデータベース。
40.データベースはメトロロジーターゲット設計に関連付けられた適合値を備え、適合値はリソグラフィプロセス工程に対するメトロロジーターゲット設計の適合性を示す、第36項から第39項のいずれかに従ったデータベース。
41.第34項及び第35項のいずれかに従ったデータ構造及び/又は第36項から第40項のいずれかに従ったデータベースを備える、データ搬送波。
42.第26項及び第27項のいずれかに従ったメトロロジーターゲットの使用であって、メトロロジーターゲットは、基板上で1つの層の別の層に関連した位置決めを決定するため、及び/又は基板上の層のリソグラフィ結像装置の投影光学に関連したアライメントを決定するため、及び/又は基板上の構造のクリティカルディメンションを決定するために使用される。
Claims (14)
- メトロロジーターゲット設計のコンピュータ実装方法であって、
メトロロジーターゲットのそれぞれの設計パラメータについて範囲又は複数の値を提供することと、
プロセッサにより、前記設計パラメータについて前記範囲又は前記複数の値内でサンプリングすることによって、前記メトロロジーターゲットの設計パラメータに関する制約を満たす1つ以上の設計パラメータを有する複数のメトロロジーターゲット設計を解決及び/又は選択することと、
を含み、
前記設計パラメータについて前記範囲又は前記複数の値内でのサンプリングによって選択することは、サンプリング間隔を設計パラメータに適用することと、サンプリング間隔について性能指数をシミュレートすることと、前記サンプリング間隔の減少が前記性能指数を大幅に変化させなくなるまで前記サンプリング間隔を反復的に減少させることと、を含む、コンピュータ実装方法。 - リソグラフィモデルを使用して前記複数のメトロロジーターゲット設計をシミュレートすることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記設計パラメータのうちの少なくとも1つは、前記メトロロジーターゲットのジオメトリックディメンションを備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記制約は、範囲又は複数の値が提供されているものとは異なる設計パラメータに関するものである、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記範囲又は前記複数の値を提供することは、ユーザによる前記範囲又は前記複数の値の選択を含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記制約は、ユーザによって定義される、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記制約は、線形代数式を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記制約は、前記メトロロジーターゲットの2つの異なるジオメトリックディメンション間の関係を含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記メトロロジーターゲット設計は、複数の層を備え、
前記制約は、1つの層のディメンションと別の層のディメンションとの間である、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。 - 前記設計パラメータは、ピッチ、クリティカルディメンション、及び/又はトレンチ幅を備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記制約は、前記ターゲットを測定するために使用されるメトロロジーシステムによる物理的制限を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記物理的制限は、前記メトロロジーシステムで使用される放射の波長、前記メトロロジーシステムで使用される放射の偏波、前記メトロロジーシステムの開口数、ターゲットタイプ、及び/又はプロセスパラメータから選択された1つ以上を含む、請求項11に記載の方法。
- 前記設計パラメータについて前記範囲又は前記複数の値内でサンプリングすることによって前記複数のメトロロジーターゲット設計を解決及び/又は選択する前に、前記設計パラメータの前記範囲又は前記複数の値に前記制約を適用することを更に含む、請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から13のいずれか一項に記載の方法を実行するための、コンピュータによって実行可能な命令を含むコンピュータ読み取り式媒体。
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