JP4848473B1 - 蒸着フィルムおよび該蒸着フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材フィルムと、該基材フィルムの表面に設けられたアンダーコート層と、該アンダーコート層の表面に設けられたSiOx蒸着層とを含む蒸着フィルムであって、該蒸着フィルムは、濁度が4%以下であり、かつ、破断強度が35〜40(N/15mm)以下であり、温度120℃、湿度100%RH、2気圧、24時間という条件で実施するプレッシャー・クッカー・テスト後の上記蒸着フィルムは、濁度が15%以下であり、かつ、破断強度が27(N/15mm)以上である蒸着フィルムおよび該蒸着フィルムの製造方法。
【選択図】なし
Description
(1)基材フィルムの表面にアンダーコート層を設ける表面処理工程と、
(2)得られたアンダーコート層の表面に、真空蒸着法によりSiOxを蒸着する蒸着工程とを含む製造方法により製造され、
前記蒸着工程が、雰囲気に水蒸気を導入する水蒸気導入工程を含み、
該水蒸気導入工程は、真空度が8×10 -3 Paに到達した時点で水蒸気の導入を開始し、
前記水蒸気の導入量は、水蒸気導入後の真空度が2×10 -3 Pa以上6×10 -3 Pa以下となる量であることを特徴とする。本発明は、かかる構成を有することにより、経年変化(高温・多湿環境に曝された場合を含む)により濁度および機械強度が低下しない蒸着フィルムを提供することができる。
(1)基材フィルムの表面にアンダーコート層を設ける表面処理工程と、
(2)得られたアンダーコート層の表面に、真空蒸着法によりSiOxを蒸着する蒸着工程とを含み、
上記蒸着工程が、雰囲気に水蒸気を導入する水蒸気導入工程を含み、
該水蒸気導入工程は、真空度が8×10-3Paに到達した時点で水蒸気の導入を開始し、
上記水蒸気の導入量は、水蒸気導入後の真空度が1×10-1Pa以上2×10-3Pa以下となる量であることを特徴とする。
・基材フィルム(PETフィルム、厚み12μm、帝人(株)製 NS)
・アンダーコート層(信越化学(株)製 KBM403 3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 膜厚:0.1μm)
基材フィルムの表面をプラズマ処理(導入ガス:Ar、真空度:4Pa、3000V、0.1A以下)し、さらにその表面にアンダーコート層をバーコート法により積層して設けた。アンダーコート層の厚みは0.1μmとした。アンダーコート層を積層した後、これを乾燥(乾燥機にて50℃で3日)し、次いでその表面にSiOxを真空蒸着法により膜厚が30nmとなるよう積層した。その後、PCTテスト(温度120℃、湿度100%RH、2気圧、24時間放置)を行った。
(濁度)
ヘイズメーター( 日本電色工業(株)製 NDH2000)を用いて測定する。
(破断強度)
幅15mm×長さ10cmの試験片の片端を固定し、オートグラフ((株)島津製作所社製、型番:AGS−100A)を使用して他端を引っ張り、試験片が破断した際の荷重(N/15mm)を測定する。
(ラミ強度)
幅15mm×長さ10cmの50μmの耐候PET(東洋紡社製、型番:K1653)とラミネートした試験片の片端を固定し、オートグラフ((株)島津製作所社製、型番:AGS−100A)を使用して他端を引っ張り、試験片が剥離した際の荷重(N/15mm)を測定する。
(全光線透過度)
ヘイズメーター(日本電色工業(株)製 NDH2000)を用いて測定する。
(水蒸気透過度)
カップ法(JIS Z0208 40℃、RH90%)により測定する。
SiOxを真空蒸着法にて積層する際、到達圧8×10-3Paを確認後、真空蒸着時の真空度(作業真空度)が2.5×10-3Paとなるように水蒸気を導入した。得られた蒸着フィルムの濁度および破断強度を表1に示す。
SiOxを真空蒸着法にて積層する際、到達圧8×10-3Paを確認後、真空蒸着時の真空度(作業真空度)が4.0×10-3Paとなるように水蒸気を導入した。得られた蒸着フィルムの濁度および破断強度を表1に示す。
SiOxを真空蒸着法にて積層する際、到達圧8×10-3Paを確認後、真空蒸着時の真空度(作業真空度)が6.0×10-2Paとなるように水蒸気を導入した。得られた蒸着フィルムの濁度および破断強度を表1に示す。
SiOxを真空蒸着法にて積層する際、水蒸気を導入しなかった。得られた蒸着フィルムの濁度および破断強度を表1に示す。
Claims (7)
- 基材フィルムと、該基材フィルムの表面に設けられたアンダーコート層と、該アンダーコート層の表面に設けられたSiOx蒸着層とを含む蒸着フィルムであって、
該蒸着フィルムは、濁度が4%以下であり、かつ、破断強度が35〜40(N/15mm)であり、
温度120℃、湿度100%RH、2気圧、24時間という条件で実施するプレッシャー・クッカー・テスト後の前記蒸着フィルムは、濁度が15%以下であり、かつ、破断強度が27(N/15mm)以上であり、
(1)基材フィルムの表面にアンダーコート層を設ける表面処理工程と、
(2)得られたアンダーコート層の表面に、真空蒸着法によりSiOxを蒸着する蒸着工程とを含む製造方法により製造され、
前記蒸着工程が、雰囲気に水蒸気を導入する水蒸気導入工程を含み、
該水蒸気導入工程は、真空度が8×10 -3 Paに到達した時点で水蒸気の導入を開始し、
前記水蒸気の導入量は、水蒸気導入後の真空度が2×10 -3 Pa以上6×10 -3 Pa以下となる量であることを特徴とする蒸着フィルム。 - 前記プレッシャー・クッカー・テスト後の前記蒸着フィルムは、濁度が12%以下であり、かつ、破断強度が27(N/15mm)以上であることを特徴とする請求項1記載の蒸着フィルム。
- 前記基材フィルムが、ポリエステル系フィルムであることを特徴とする、請求項1記載の蒸着フィルム。
- SiOxが蒸着されてなる蒸着フィルムの製造方法であって、
(1)基材フィルムの表面にアンダーコート層を設ける表面処理工程と、
(2)得られたアンダーコート層の表面に、真空蒸着法によりSiOxを蒸着する蒸着工程とを含み、
前記蒸着工程が、雰囲気に水蒸気を導入する水蒸気導入工程を含み、
該水蒸気導入工程は、真空度が8×10-3Paに到達した時点で水蒸気の導入を開始し、
前記水蒸気の導入量は、水蒸気導入後の真空度が2×10 -3 Pa以上6×10 -3 Pa以下となる量であることを特徴とする、蒸着フィルムの製造方法。 - 前記基材フィルムが、ポリエステル系フィルムであることを特徴とする、請求項4記載の蒸着フィルムの製造方法。
- 請求項4または5記載の蒸着フィルムの製造方法により得られてなる蒸着フィルムであって、
該蒸着フィルムは、濁度が4%以下であり、かつ、破断強度が35〜40(N/15mm)であり、
温度120℃、湿度100%RH、2気圧、24時間という条件で実施するプレッシャー・クッカー・テスト後の前記蒸着フィルムは、濁度が15%以下であり、かつ、破断強度が27(N/15mm)以上であることを特徴とする蒸着フィルム。 - 前記プレッシャー・クッカー・テスト後の前記蒸着フィルムは、濁度が12%以下であり、かつ、破断強度が27(N/15mm)以上であることを特徴とする請求項6記載の蒸着フィルム。
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JPH02130139A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Unitika Ltd | 蒸着フィルム |
JPH06128725A (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-10 | Mitsubishi Kasei Corp | 透明ガスバリヤフィルムの製造方法 |
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