JP4845757B2 - 描画装置及び方法 - Google Patents
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Description
11 基板
12a,12b 第1及び第2移動ステージ(移動手段)
14 基体
15 ガイドレール
17 露光部(描画手段)
18 露光ヘッド
19 光源ユニット
21 画像処理ユニット(描画データ変更手段)
25a,25b 第1及び第2基板位置検出部(基板位置検出手段)
27a,27b 第1及び第2ステージ位置検出部
30 DMD(空間光変調素子)
39 DMDドライバ
40 露光エリア(描画領域)
50 全体制御部(描画制御手段)
51a,51b 第1及び第2移動ステージ駆動部
52 フレームデータ生成部(描画データ補正手段)
54a,54b 第1及び第2画像データ
55 画像データ記憶部
56 書き込み制御部
57 読み出し制御部
60 デジタル露光システム
61 コンベア
62a,62b 第1及び第2搬送ロボット(基板交換手段)
63a,63b 第1及び第2プリアライメントステージ
Claims (12)
- 描画データに基づき、描画領域を通過する基板に対して順次に描画を行う描画手段と、
前記描画手段の両側に基板をそれぞれ配し、前記描画領域を通過するように各基板を交互に前記描画手段に対して相対的に往復移動させる移動手段と、
前記描画手段を制御し、一方の基板が一方向に前記描画領域を通過する第1期間と、他方の基板が前記一方向とは逆方向に前記描画領域を通過する第2期間とにおいて描画を行わせる描画制御手段と、
前記第1期間と前記第2期間とで前記描画データを変更する描画データ変更手段と、
を備えたことを特徴とする描画装置。 - 前記描画データ変更手段は、前記第1期間と前記第2期間とにおいて同一のパターンが各基板上に描画されるように前記描画データを変更することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 各基板の適正位置に対する位置ずれ量を検出する基板位置検出手段と、
前記基板位置検出手段によって検出された位置ずれ量に基づいて、前記描画データを補正する描画データ補正手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の描画装置。 - 前記基板位置検出手段は、前記描画手段により一方の基板に描画が行われている間に、他方の基板に対して位置ずれ量の検出を行うことを特徴とする請求項3に記載の描画装置。
- 前記移動手段は、表面に基板を載置して同一の一次元軌道上を移動する2つの移動ステージからなり、前記描画手段は、前記各移動ステージが通過する前記一次元軌道上に固定配置されていることを特徴とする請求項1から4いずれか1項に記載の描画装置。
- 前記移動手段は、表面に基板を載置して同一の一次元軌道上を移動する2つの移動ステージからなり、前記描画手段は、前記各移動ステージが通過する前記一次元軌道上に固定配置されており、前記基板位置検出手段は、前記移動ステージごとに設けられ前記一次元軌道上に固定配置されていることを特徴する請求項3または4に記載の描画装置。
- 前記描画手段は、基板に対して露光を行うことを特徴とする請求項1から6いずれか1項に記載の描画装置。
- 前記描画手段は、前記描画データに基づいて入射光を変調する空間光変調素子を備えていることを特徴とする請求項7に記載の描画装置。
- 前記空間光変調素子は、デジタルマイクロミラーデバイスであることを特徴とする請求項8に記載の描画装置。
- 前記描画手段は、前記空間光変調素子を備えた露光ヘッドを、基板の移動経路に対して直交する方向に複数列配設したものであることを特徴とする請求項8または9に記載の描画装置。
- 前記描画手段を挟んで対称となる位置にて各基板の交換を交互に行う基板交換手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1から10いずれか1項に記載の描画装置。
- 描画領域を通過する基板に対して描画データに基づいて順次に描画を行う描画部の両側に基板をそれぞれ配し、前記描画領域を通過するように各基板を交互に前記描画部に対して相対的に往復移動させ、一方の基板が一方向に前記描画領域を通過する第1期間と、他方の基板が前記一方向とは逆方向に前記描画領域を通過する第2期間とにおいて描画を行わせるとともに、前記第1期間と前記第2期間とで前記描画データを変更することを特徴とする描画方法。
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