JP4805258B2 - カセット搬送システム - Google Patents
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Description
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工場等の施設内において物品を搬送する搬送システムに関する。特に、高清浄な環境下において、各種処理がなされる半導体製造用基板等の高清浄物品をカセットに収納して搬送するのに適するカセット搬送システムに関するものである。尚、本明細書では、搬送対象物品として電子部品であるＬＣＤの基板をカセットに収納して運搬する例を用いて説明するが、これは例示であり、本発明の適用範囲を限定するものではない。
【背景技術】
【０００２】
一般に半導体の製造行程では塵埃を嫌うため、ＬＣＤや半導体ウエハ等の基板の搬送やその加工処理等の製造は高清浄な環境、いわゆるクリーンルームで行われる。従来技術においては、これらの基板をカセット内に収納して、ＡＧＶ(Automatic Guided Vehicle：自走式運搬車）によりカセット単位で運搬している。これらのカセットには、密封式のカセットとオープン形式のカセットがある。密封式のカセットは基板への塵埃の付着をできるだけ抑制することができるが、重量が重くなること及び振動による基板の破損の危険が大きいこと等の問題もあり、ガラス基板や大型基板では採用されておらず、主として３００ｍｍ以下のウエハの運搬に採用されている。ガラス基板や大型の基板を収納するカセットでは、一般的にオープンカセットが使用されている。
【０００３】
ＡＧＶにより目的の処理装置まで運搬されたカセットは、処理装置の前に設けられたカセット載置台（ロードポート）上に載置される。その後、公知のスカラ型ロボットにより、載置台上に載置されたカセットの中から一枚ずつ基板が取出され、各処理装置内部へ搬入される。処理装置内部に搬入された基板は、処理装置内で所定の加工処理が行われる。加工処理が終わると、処理装置から基板からが取り出されて、カセット内に収納密封されて、次の目的地（処理装置または収納室）に搬送される。
【０００４】
また、特許文献１には、所定の場所に載置されたカセットから基板を取り出し、目的の処理装置に搬送する搬送システムが開示されている。この搬送システムでは、搬送装置自体にスカラロボットが設けられており、該スカラロボットによりカセットから基板を取り出して、基板を搬送装置上の所定の載置台に載置する。基盤を載置した搬送装置が目的の基板処理装置まで移動すると、搬送装置のスカラロボットにより載置台上の基板を持ち上げ、基板処理装置内に移動させて、基板の搬送を終了する。このように搬送装置自体に１台のスカラロボットを設けることにより、基板処理装置毎にスカラ型ロボットを設置することが不要となる。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−１６８１６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、最近では処理対象となる基板の大型化が進み、例えば、第６世代の液晶基板の製造工場では、約1500×1800ミリの大型基板を使用している。このような製造工場では、薄膜形成前の洗浄工程、薄膜形成工程、レジスト塗布工程等の各種処理を行うために、このような大型基板を、処理工程に応じて必要な場所（処理装置の配置されている場所）に移動しなければならない。
【０００７】
このように搬送する基板が大型化するとその基板を収納するカセットも大型化する。大型化したカセットを従来のＡＧＶで搬送するためには、ＡＧＶのカセット載置台のサイズが大きくなるだけでなく、ＡＧＶに搭載されるロボットアームも大型化し、ＡＧＶ全体が巨大化する。このようにＡＧＶが巨大化すると、ＡＧＶの重量が増えるため、それを支えて搬送する搬送路を含む搬送システム全体が巨大化する。ＡＧＶの重量が増えると、それを支えて搬送する搬送機構の耐久性、高出力の駆動装置が求められるので、装置全体がますます大型化する。それだけでなく、従来技術により大型化した重量基板を搬送すると、摺動摩擦の増大による塵埃の増加も問題となる。このように、半導体製造工程においては、基板が大型化に伴い、解決すべき種々の問題が存在する。
【０００８】
カセット内の大型基板の収容枚数をできるだけ少なくしてカセット全体の重量をできるだけ軽くすることにより、従来のＡＧＶにより搬送することも、上述の問題を回避する手段の一つとして考えられる。しかし、カセットの収納枚数を減らすと搬送能力（運搬能力）が下がる。近年、半導体製造用の各処理装置の能力は大幅に向上しており、搬送能力が下がると搬送能力がボトルネックとなり、全体の生産能力が低下してしまう。従って、各処理装置の処理速度に応じて大型基板を供給可能な基板の運搬能力が求められている。すなわち、大型基板を、塵埃を出すことなく、高速で安定して各処理装置に供給することのできる搬送装置が望まれている。
【０００９】
特許文献１の搬送装置は、カセットから取り出した基板を搬送するものであり、搬送装置の設置環境全体を清浄な状態に維持しなければなければならない。基板が大型化すると、搬送路も長くなるので、このような搬送システムでは清浄環境を維持するだけでも大きなコストが必要となる。また、特許文献１の搬送システムでは、１つの搬送路上に走行できる搬送装置は１台に限られている。これでは、ライン上に流通できる総量が大幅に制限され、運搬能力（搬送能力）の要請に対応することができない。
【００１０】
一方、カセット内に基板を収納する場合、基板の両端がカセットに設けられた支持端部により支持され、基板の中央部がすこし下方に垂れ下がり撓んだ状態となる。基盤が大きく（長く）なればこの中央部の撓み量も大きくなる。そのため、カセット内に大型基板を収納した状態で搬送する場合、静かに搬送しないと、震動により基板の中央部が大きく震動し、基板同士が衝突して破損するおそれがある。従来技術による搬送方法では、搬送の前後においてリフトで上げ下げしてカセットを受け渡すので、震動が生じ、破損し易いというのも問題となる。
【００１１】
また、カセットを搬送する場合には、カセットの底部にリフトの爪を挿入して持ちあげるものである。そのため、巨大化したカセットの底部に爪を挿入して持ち上げると、カセット自体も撓むので、カセット内部に収納されている基板を破損するおそれもある。
【００１２】
さらに、基板の搬送には、塵埃の付着を抑制可能な密封式カセットを使用することが望ましいが、そのためには重量の重いカセットを、振動を抑制しつつ正確に搬送できることが要求される。しかしこれには、種々の問題がある。例えば、蓋を有しており重量のある大型カセットでは、搬送時に大型カセットをリフトで持ちあげるとカセット自体が撓むため蓋を有して密閉しても隙間ができるおそれがある。また、リフトで持ち上げると、振動が大きく、内部の基板同士が衝突して破損するおそれもある。
【００１３】
本発明は、大型基板等を収納したカセットやガラス基板のような重量の重いカセットを、振動を抑制しつつ基板を傷つけることなく円滑に搬送することのできるカセット搬送システムを提供することを目的とする。
［００１４］
また、本発明の他の目的は、搬送装置の摺動摩擦による塵埃発生の少ないカセット搬送システムを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
［００１５］
本願発明のカセット搬送システムは、高圧気体の噴出によりカセットを浮上させ、浮上させたカセットを搬送路に備えた移送アームにより搬送路に沿って目的位置まで移動させるよう構成することにより、上記課題を解決する。
［００１６］
本発明によるカセット搬送システムの第１の態様は、清浄環境下において、内部に大型搬送対象物を収容する大型カセットを、所定の搬送路に沿って所望の位置に搬送するカセット搬送システムであって、気体を圧縮して高圧気体を生成する圧縮部と、前記圧縮した高圧気体を複数の噴出口から噴出させる噴出部とを備え、高圧気体の噴出により前記カセットを前記搬送路上で浮上させる浮上装置と、前記カセットを保持及び解放可能な少なくとも１個の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路上に沿って水平方向に移送するカセット移送装置と、前記浮上装置による気体の噴出及び前記カセット移送装置による前記カセットの移送を制御して、前記カセットを目的位置に搬送する搬送制御装置と、を備えることを特徴とする。
［００１７］
この態様によると、移送アームにより浮上したカセットを保持し、移送アームがカセットを保持したまま水平方向に移動することにより、浮上したカセットを水平方向に移動させることができる。移送アームは少なくとも１つで良いが、搬送形態に応じて複数の移送アームを設けても良い。例えば、搬送路の片側部に１個の移送アームを設けた構成としても、搬送路の両側部に対となるように２個の移送アームを設けて両側の移送アームによりカセットを挟み込むように保持する構成としても良い。この態様にかかるカセット搬送システムでは、カセットが浮上しているため、水平方向の外力をかけると、カセットを容易に移動させることができる。浮上装置は、カセットを移動させることが可能な数ミリ程度浮かせれば良い。噴出する気体は清浄な空気であっても、特殊な気体であっても良い。また、移送アームにより大型カセットを保持した状態で水平移動させるので、移送アームによるカセットを水平方向に移動させる際の加速、減速等の動作を移送アームにより正確に制御可能となる。従って、振動を抑制しつつカセットを搬送することが可能となる。このように、カセットを高圧気体により浮上させた後水平移動させるため、移送アームの強度を強くする必要もなく搬送機構が簡単になる。また、摺動部分がほとんどなくなるので、摺動磨耗による塵埃の発生を抑制することが可能となり、清浄環境を維持することが容易となる。特に重量の大きい物品を機械式搬送装置により搬送する場合、搬送装置自身の摺動摩擦による塵埃の発生が大きくなるので、カセットを浮上させることによる塵埃発生の抑制効果は大きい。
また、目的位置にカセットを載置するときも、噴出するエアを徐々に落とすことにより、緩やかに載置することが可能となる。
［００１８］
本発明によるカセット搬送システムの第２の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記移送アームの少なくとも一つが、少なくとも２個のアーム部材がリンク結合されており、該２以上のアーム部材を該リンク結合部により屈伸駆動させることにより、前記移送アームの先端で保持した前記カセットを水平方向に移動させることを特徴とする。
例えば、２本のアームの一端を関節で結合し、一方のアームの先端でカセットを保持して、該２本のアームを搬送路に沿って伸縮させることによりカセットを水平方向に移動させる構成とする。これにより、簡単な構造の移送アームで、カセットの水平方向の移動に伴う制動動作を正確に制御することが可能となる。尚、移送アームは２関節に限らず、多関節であっても良い。
［００１９］
本発明によるカセット搬送システムの第３の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記移送アームの少なくとも一つは、前記カセットを保持した状態で前記搬送路に沿って水平移動する水平移動部を備えることを特徴とする。例えば、移送アームを１本のアームのみで構成し、その一端にカセットを保持するカセット保持部を設け、他端部を搬送路に沿って水平方向に駆動可能な構成とすることも可能である。例えば、直線方向への移送の場合には、移送アームを水平移動可能な構成とすることにより、一つの移送アームによる移送距離を長くすることができる。また、移送距離を長くすることにより高速搬送が可能となる。水平方向の駆動手段としては、例えば、モータの作動によりボールネジ軸を介して直線駆動できる駆動装置や、磁石をＮ極とＳ極とが交互となるように円柱状のシャフト内に備えるとともに、可動部材側にコイルを備えて、コイルに電流を流すことで直線または曲線上で駆動できるリニア駆動装置などの公知の手段を用いることができる。
［００２０］
本発明によるカセット搬送システムの第４の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置の前記移送アームは、前記搬送路に沿って前記搬送路の両側部に設けられていることを特徴とする。両側部に移送アームを設けることにより、搬送対象物を確実に保持可能となり、振動を抑制しつつ安定して移送することが可能となる。
［００２１］
本発明によるカセット搬送システムの第５の態様は、前記第１乃至４のいずれかの態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記搬送路の上面に設けられて、該噴出部から上方に向かって高圧気体を噴出させることにより、該搬送路上に載置された前記カセットを浮上させることを特徴とする。この態様では、搬送路面からカセットに向かって高圧気体を噴射するので、高圧気体を生成する圧縮ポンプ又は高圧気体を一時ストックする収納ボンベ等を搬送路面の下に配置することができ、比較的シンプルな構成とすることが可能となる。
［００２２］
本発明によるカセット搬送システムの第６の態様は、前記第５の態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記搬送路に沿って所定の単位で区割して配置され、該区割された単位毎に前記高圧気体を噴出可能に構成されており、前記搬送制御装置が、前記搬送路上の前記カセットの移動位置にあわせて、前記浮上装置の高圧気体の噴出位置を順次切り替えるよう制御することを特徴とする。この態様によると、移動中のカセットの存在するところのみ、またはその近傍のみ高圧気体を噴出させることができる。従って、高圧気体の効率的な使用が可能となる。
［００２３］
本発明によるカセット搬送システムの第７の態様は、前記第５の態様のカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置が、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする。例えば、搬送路の長さに応じて、所定の間隔ごとに各種形態の移送アームを複数個設けて、次々とリレー式にカセットを受け渡していくことにより、長い距離の搬送を行うことも可能である。また、移送アームを切り替えることで、搬送方向を切り替えるように構成することも可能である。
［００２４］
本発明によるカセット搬送システムの第８の態様は、前記第１乃至４のいずれかの態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記カセットの下面に設けられ、該噴出部から前記搬送路に対して高圧気体を噴射することにより前記カセットを浮上させることを特徴とする。カセットを載せる浮上装置に圧縮ポンプを載せてカセットとともに移動するように構成してもよいが、外部から浮上装置に高圧気体を供給するように構成することにより、浮上装置を小型軽量化することが好ましい。
［００２５］
本発明によるカセット搬送システムの第９の態様は、前記第８の態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置が、前記圧縮部から前記移送アーム内に設けられた配管及び前記カセットを保持するための保持部を介して前記カセットの下部に設けられた前記噴射部に高圧気体を供給することを特徴とする。
［００２６］
本発明によるカセット搬送システムの第１０の態様は、前記第９の態様にかかるカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置が、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で前記移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする。
［００２７］
本発明によるカセット搬送システムの第１１の態様は、前記第１０の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送制御装置が、前記移送アームによる前記カセットの受け渡しに応じて、前記圧縮部から前記高圧気体を供給する前記移送アームを順次切り替えるよう制御することを特徴とする。これにより、移送アームが切り替わる度に、適宜、カセットに接続された移送アームを介してカセットの噴出口に高圧気体が供給される。
［００２８］
本発明によるカセット搬送システムの第１２の態様は、前記第１１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送路は、一つの本線と、前記本線から所定の角度で延在する岐路とを備え、前記本線及び岐路のそれぞれに前記移送アームを備えることを特徴とする。このように岐路を備えることにより、先に搬送したカセットを岐路に退避させて、後続するカセットを先に搬送する等、優先順位に応じた搬送も可能となる。
［００２９］
本発明によるカセット搬送システムの１３の態様は、前記第１２の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送路上のいずれかに、前記カセットを載置して昇降させるための昇降装置を備え、該昇降装置は、前記カセットを載置する載置台に前記浮上装置を備えることを特徴とする。浮上装置を備える昇降手段を設けることにより、カセットを振動させることなく、載置台上から持ち上げ、または下ろすことができる。
［００３０］
［００３１］
［発明の効果］
［００３２］
本発明のカセット搬送システムでは、カセットを浮上させて移動させるため、横方向へカセットを移動させる際の摩擦による負荷を無くすることができ、横方向への駆動出力を小さくすることができる。
［００３３］
また、本発明のカセット搬送システムでは、カセットの底面全体に気体を吹き付け、またはカセットの底面全体から気体を噴出することによりカセットを浮上させるので、カセットの底面全体でカセットの荷重を受けることとなり、底面の一部に集中荷重がかからない。すなわち、浮上手段により底面全体を持ちあげるので、カセット自体が撓まない。そのため、リフトで持ちあげるのと異なり、重量のある大型カセットを蓋で密閉しても隙間ができる等の不具合が生じない。また、撓みを抑制するために、カセットの剛性を大きくする等の特別の設計を必要としない。
［００３４］
本願発明のカセット搬送システムでは、浮上手段により搬送路とカセットとを接触することなくカセットを移動させることができるため、摺動摩擦によるパーティクル等の塵埃の発生を抑制可能となる。
［００３５］
一方、移送アームを用いて水平方向の搬送移動を行う場合には、移送アームでカセットを常時保持しているので、外力による横方向への位置ずれを防止することができる。さらに、カセットの重量が重くなると移動に伴う慣性力が大きくなるが、移送アームでカセットをしっかり保持しているので、慣性力の正確な制御が可能になり、所望の位置へ正確に搬送し確実に停止させることが可能となる。これにより、ロードポートに重量のある大型カセットを正確に位置決めすることが可能となる。さらに、上述のように大型基板では特に振動の抑制が重要であるが、噴出気体による微少な振動をアームで保持することにより低減することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図２】図１のカセット搬送システムにおいてカセットを浮上させる浮上装置及びカセットの一例を示す縦断面図である。
【図３】図１のカセット搬送システムに備えるカセット移送装置を示す一部切り欠き斜視図である。
【図４】本発明のカセットの昇降手段を示す斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図６】本発明の第３の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図７】本発明の第４の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図８】図７に示すカセット搬送システムに使用する他の実施例にかかるカセット移送装置の搬送動作を示す側面図である。
【図９】図７に示すカセット搬送システムに使用する他の実施例にかかるカセット移送装置の搬送動作を示す側面図である。
【図１０】図７に示すカセット搬送システムのカセット移送装置により、昇降装置上にあるカセットを本線に搬送する手順を示すフローチャートを示す図である。
【図１１】カセットの向きを調整する本発明にかかるカセット回動機構を示す側面図である。
【図１２】本発明に係るカセット搬送システムのカセット保持手段の一例を示す一部切り欠き斜視図である。
【図１３】本発明にかかるカセット搬送システムの動作を制御する制御部の概略構成を示す機能ブロック図である。
【図１４】本発明の第５の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図１５】本発明の第６の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図１６】カセットから高圧気体を噴出して浮上するカセットに、高圧気体を供給するカセット移送アームのカセット保持部の構造を説明するための図である。
【図１７】カセット搬送システム、ミニエンバイロメント装置、及び処理装置の関係を示す斜視図である。ミニエンバイロメントの一部を切り欠いて内部に載置されている搬送ロボットを示している。
【図１８】カセットの蓋を開ける手順及び開閉機構の動きを、順を追って示すカセットとドア開閉機構の側面図であり、一部を切り欠き断面図として示している。
【図１９】図１８の開閉動作の続きを示すカセット及びドア開閉機構の断面図である。
【図２０】カセットの蓋及びミニエンバイロメント装置のドアを開ける手順を示すフローチャートである。
【図２１】底面から気体を噴出するカセットの底面部を、下からみた斜視図である。
【図２２】カセットに高圧気体を供給するカプラと、カプラを接続するカプラ受けを示す断面図である。
【図２３】カセットの下部に備える浮上手段を示す断面図である。
【図２４】図５のAーA’線断面図を図２４に示す
【図２５】カセットに高圧気体を供給するカセット保持部の他の実施形態にかかる構成を説明するための図である。
【図２６】カセット及びカセットの下部に設けられる浮上装置の他の実施形態を示す断面図である。
【図２７】カセットを浮上させた状態で停止させる構造を説明するための搬送路とカセットの断面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１ａ〜１ｆ 本発明の一実施形態にかかるカセット搬送システム
２ 基板
３，３ｅ カセット
４，４ｅ 搬送路
５ カセット移送装置
５ａ〜ｑ カセット移送アーム
６，６ｅ カセット浮上装置
７ 本線
８ 処理装置
９ａ，９ｂ 岐路
１０ 昇降装置
１１ 偏移機構
１２ 基板取り出し装置
１３ 圧縮ポンプ（コンプレッサ）
１４ 圧力調整室
１５ 天井部材
１６，１６ｅ 噴出口
１７ 圧力制御装置
１８ａ〜１８ｅ 水平駆動部
１９ａ，１９ｂ 可動部材
２０ａ、２０ｅ カセット保持部
２１ モータ
２２ ボールネジ軸
２３ 駆動モータ
２４ 第１アーム
２５ プーリ
２６ ベルト
２７ 動力伝達手段
２８ 第２アーム
３０ 基台
３１ 支持部材
３２ モータ
３３ ボールネジ軸
３４ 駆動手段
３５ 昇降台
３６ 胴体部
３７ 下アーム
３８ 上アーム
３９ 基板保持手段
４０ 棚段
４１ 最下段の棚段
４２ 最上段の棚段
４３、４３ｂ 第１カセット保持手段
４４ 保持用凹部
４４ａ 第１保持用凹部
４４ｂ 第２保持用凹部
４５ ピン用昇降装置
４６ カセット用ピン
４７ 第２カセット保持手段
４８ 基台昇降装置
４９ 基台
５０ モータ
５１ 載置台
５２ 位置決めピン
５３，５３ｅ 突出部材
５４ 突出部材駆動手段
５５ カプラ
５６ 電磁弁
５７ 配管
５８ ミニエンバイロメント装置
５９ ＦＦＵ
６０ グレーチング
６１ 処理装置用ドア
６２ ドア
６３ 開口部
６４ 蓋
６５ カセット本体部
６６ ドア昇降装置
６７ ラッチキー受け
６８ ラッチキー
６９ ドア昇降装置
７０ カプラ受け
７１ 配管
７２ 開口部
７３ 圧力センサ
７４ 弾性部材
７５ 弁部材
７６ 弁部材受け
７７ シール部材
７８ カプラ本体部
７９ カプラ受け本体部
８０ 可動弁部材
８１ 固定部材
８２ 凹部
８３ 横移動部
８４ 穴部
８５ カセット保持アーム
８６ コイル
８７ 永久磁石
８８ 吹き出し口
８９ 吸気口
９７ 排気口
９８ 永久磁石又は磁性体
９９ 停止コイル
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
図１は、本発明の一実施形態を示すカセット搬送システム１ａの一部切り欠き斜視図である。半導体製造工場においては、クリーンルーム内にこのようなカセット搬送システム１ａが配置されている。加工処理の対象となる基板２は、カセット内に収容された状態で搬送され、各処理装置に搬入される。このように、カセット内に収納して搬送するのは、クリーンルームの雰囲気よりも高い清浄環境に維持した状態で、基板を処理装置まで搬送するためである。カセット搬送システム１ａは、複数の基板２を収容したカセット３を搬送する搬送路４と、搬送路４の上にカセット３を浮上させる浮上装置６と、浮上しているカセット３を搬送路４に沿って移送するカセット移送装置５を備えている。カセット移送装置５は、搬送路４の両側に設けられた１対のカセット移送アーム（移送アーム）５ａ、５ｂ、５ｃが、搬送路４に沿って順次配設された構成となっている。
【００３９】
搬送路４の上側部に設けられている浮上装置６は、搬送路４の上面に設けられた多数の孔１６を備えており、該多数の孔１６から高圧空気または空気以外の清浄な高圧気体を上方向に噴出する。この気体の噴出圧により、カセット３を搬送路４の上に僅かに浮上させる。図１では、比較的長い本線４（７）と、この本線４（７）から各種処理装置８へ向かう岐路９（９ａ、９ｂ）とにより構成されている。符号４（７）中、４は搬送路を表し、（７）はその搬送路４が本線であることを表している。符号４（９）の数字（９）は搬送路４が岐路であることを表している。岐路（９）は、岐路の位置に応じて符号４（９ａ）、４（９ｂ）の符号が付されている。
【００４０】
岐路４（９ａ）、４（９ｂ）の端部には、カセット３を昇降させる昇降装置１０と、昇降装置１０上に設けられた偏移機構１１が設けられている。偏移機構１１はカセット３を載置した状態で垂直軸を中心に回転可能であり、カセット３の向きを変えるための機構である。さらに、図１の岐路４（９ａ）と岐路４（９ｂ）の間には、基板取出し装置１２が配置されている。基板取出し装置１２は、各岐路４（９ａ）又は４（９ｂ）の終端位置上まで搬送されたカセット３から基板２を取り出して、図中破線で示す処理装置８の内部へ挿入（搬入）し、または、処理の完了した基板２を処理装置８の内部から取り出してカセット３の中に収納する。
［００４１］
カセット移送装置５は、一対のカセット移送アーム（移送アーム）５ａ、５ｂ、５ｃによりカセット３の両側部を保持した状態で、一対の移送アームが協働して同時に伸縮することにより、カセット３を次々と隣の移送アーム５ａ〜５ｃに順次受け渡すことにより、浮上しているカセット３を搬送路４に沿って水平方向に移動させる。
［００４２］
移送アーム５ａ〜５ｃは、それぞれ先端部分に突出部材５３を備えている。カセット移送装置５は、移送アーム５ａ〜５ｃの突出部材５３をカセット３の両側部に装着してカセット３を保持した状態で、同時に伸縮させることにより、浮上しているカセット３を希望する方向へ移動させる。
［００４３］
さらに、一部の移送アーム５ｂは、搬送路４の本線７に沿って該移送アーム５ｂを水平方向に移動させる一対の水平駆動部１８ａを備えている。水平駆動部１８ａによって、カセット３を保持した状態の移送アーム５ｂを搬送路本線４（７）に沿って移動させることにより、カセット３を他の移送アーム（例えば、５ｃ）に受け渡す位置まで円滑に長距離移動することができる。
［００４４］
図２は、搬送路４の一部を構成しており、下から高圧気体を噴き上げてカセットを浮上させる浮上装置６と、高圧気体により浮上した状態のカセット３の横断面を示す断面図である。浮上装置６は、圧縮部及び噴出部とから構成されており、圧縮部は圧縮ポンプ１３、及び圧力制御装置１７から構成され、噴出部は圧力調整室１４により構成されている。圧縮ポンプ１３は、圧力制御部の制御に基づいて、圧縮された高圧気体を圧力調整室１４へ供給する。圧力調整室１４の天井部材１５には多数の噴出口（孔）１６が設けられており、この噴出口１６を通して高圧気体を上方向に噴出する。このように高圧気体を上方に強く噴出してカセット３を搬送路４上に浮上させる。尚、圧縮ポンプ１３に代えて、高圧気体を一時的に収容貯蔵するボンベ（高圧気体貯蔵室）を設けてもよい。この場合、ボンベには外部に設けられた圧縮ポンプ１３から高圧気体が供給され、出力バルブ（図示せず）を開閉することにより、圧力調整室１４に送り込むべき高圧気体の量を調整する。このように、高圧気体を一時貯蔵室（ボンベ）に貯めてから噴出することにより、圧縮ポンプ１３の駆動を直接制御するよりも、高圧気体の噴出をより正確、迅速、かつ効率的に制御することが可能となるほか、安定した高圧気体の噴射制御が可能となる。
［００４５］
搬送路４は浮上装置６を比較的短い長さにモジュール化して複数個連続して配列することにより所望の長さの搬送路を形成することが好ましい（図示せず）。このように、モジュール化した独立の短い浮上装置６を連続して併設することにより、カセット３の移動位置に応じて、高圧気体を噴出する浮上装置６のモジュールを細かく切り換えることが可能となる。これにより、カセットが存在しないモジュールでは高圧気体の噴射を停止することができるので、高圧気体の効率的な使用が可能となる。
［００４６］
カセット搬送システム１ａは、カセット３を目的位置まで搬送するために、搬送動作全体を制御する制御装置を備えている。図１３に、制御装置の基本的な機能の一例を機能ブロック図として示す。制御装置９０は、中央演算装置（ＣＰＵ）、制御プログラム、論理回路等を備えた比較的高性能のコンピュータであることが望ましい。ここでは、制御装置９０の各種機能のうち、本発明の要旨である搬送制御のための中心的な機能だけを説明する。
［００４７］
制御装置９０は、外部コンピュータとの連携動作を可能にするための通信インタフェース９１、カセット搬送システム１ａ全体の動作を制御する主制御部９２と、カセット３を浮上させるための各浮上装置６の圧力制御部１７を制御する浮上制御部９３、複数の移送アーム５ａ〜５ｃを連携動作させてカセット３を目的位置まで搬送するよう制御する搬送制御部９４、カセット３の向きを調整するため偏移機構１１を制御する偏移制御部９５、及びカセットの蓋やミニエンパイロメント装置のドアを開閉するためのドア昇降機構６６等を制御する開閉制御部９６、基板取出し装置１２等のその他の各部を制御する各種制御手段（図示せず）を備えている。制御装置９０の浮上制御部９３及び搬送制御部は、搬送動作の制御においては、搬送システムにおける搬送制御装置として機能する。
［００４８］
尚、カセット搬送システム１ａは、浮上装置６、カセット移送装置５等に個別の動作状況を検知する各種センサを備えているほか、搬送路４に沿って搬送中のカセット３の位置を検出する位置センサ、その他の各種センサ郡が設けられている。これら各種センサ郡からの検知信号は、主制御部９２及び各種制御部９３〜９６にフィードバック信号として入力される。図１では、一つの制御装置９０内に偏移制御部９５、ドア開閉制御部９６等も含んでいるが、ドアの開閉制御及びカセットの向きを調整する偏移制御部９５は、各種処理装置ごとに独立して制御することが可能である。制御装置９０の制御処理を簡素化するためにも、ドアの開閉制御や偏移制御等の各処理装置周りの制御は、処理装置ごとに個別の制御装置を設けて制御する構成が望ましい。カセット３の向きの調整やドアの開閉の制御は、従来技術を適宜使用可能であるので、以下の説明では、浮上制御手段及び搬送制御手段についてのみ説明する。
【００４９】
制御装置９０の主制御部９２は、カセット３の移送先が指定されると、各個別制御部９３〜９６等に必要な制御情報を提供する。浮上制御部９３は、カセット３の搬送先まで、カセット３の現在位置に対応する浮上装置６を順次駆動する。すなわち、カセット３の存在する位置の前後の該当する各浮上装置６の高圧気体の圧力を監視し、カセットの位置にあわせて順次高圧気体を噴出させてカセット３を浮上させるよう圧力制御装置１７等を制御する。また、搬送制御部９４は、カセット３の位置に対応するカセット移送部５によりカセット３を保持し、保持したカセット３を次の移送アーム５ａ〜５ｃに順次引き渡すことにより、カセット３を目的の位置まで搬送するように各移送アーム５ａ〜５ｃの動作を制御する。
【００５０】
次に、図３（ａ）〜（ｃ）を用いて、カセット３の搬送動作についてより具体的に説明する。図３（ａ）〜（ｃ）は、基板２を収納しているカセット３を搬送路本線４（７）に沿って運搬する一連の搬送動作を示す、一部切り欠き側面図である。カセット３内部に収納されている基板２および水平駆動部１８ａの構造を示すために、一部を断面図として示している。搬送路本線４（７）の両側面に配置された一対の移送アーム５ｂは水平駆動部１８ａに取り付けられている。水平駆動部１８ａは、移送アーム５ｂを搬送路４（７）に沿って移動させる。これにより、移送アーム５ｂは、搬送路４（７）に沿って、浮上しているカセット３を次の移送アーム５ｃ（図３には図示せず）に受け渡す場所まで水平に移動させる。
【００５１】
前述したように、移送アーム５ｂはその先端にカセット３を保持するためのカセット保持部２０ａを備えている（図３（ｃ）参照）。移送アーム５ａ〜５ｃは、カセット保持部２０ａに設けられた突出部材５３を、カセットの側部に設けられた保持用凹部４４（図１、図２参照）に挿入することにより、カセット３の両側面を保持する。尚、図３では、移送アーム５ｂを用いてその動作を説明するが、移送アーム５ａ〜５ｃの構成および動作は、すべて同様である。
【００５２】
図３（ａ）〜（ｃ）を説明する前に、移送アーム５ａ〜５ｃの先端に設けられたカセット保持部２０ａ及び突出部材５３の一例を、図１２を用いて説明する。図１２は、移送アーム５ａ〜５ｃの先端に設けられたカセット保持部２０ａを示す一部切り欠き斜視図である。カセット保持部２０ａは、移送アーム５ａ〜５ｃの先端の内部に設けられた突出部材５３と、該突出部材５３を駆動するエアシリンダ等のような突出部材駆動部５４とを備えている。突出部材駆動部５４は、空気等の気体を供給することにより突出部材５３を外側（図中白抜きの矢印方向）に突出させ、または退避させることができる。突出部材５３が突出することにより、突出部材５３がカセット３の保持用凹部４４に挿入される（突出部材５３の突出した状態を破線により示す）。これにより、カセット３の両側部に設けられた保持用凹部４４に、カセット保持部２０ａの突出部材５３が挿入係合されて、カセット３が確実に保持される。
【００５３】
再び図３に戻り、搬送路本線４（７）におけるカセット３の搬送について説明する。図３（ａ）は、移送アーム５ｂが搬送路本線４（７）の左端の位置においてカセット３を保持している状態を示している。移送アーム５ａ〜５ｃは、第１アーム２４と第２アーム２８（図３（ｃ））により構成されている。カセット保持部２０ａは、第２アーム２８の先端に設けられており、第２アームの先端に設けられた突出部材５３がカセット３の保持用凹部４４（図２参照）に挿入されることにより、カセット３は移送アーム５ｂのカセット保持部２０ａ（図１２参照）により保持された状態となる。
【００５４】
図３（ｂ）は、カセット３を保持した移送アーム５ｂを、水平駆動部１８ａにより、図３（ａ）に示す搬送路本線４（７）の左端の位置から、搬送路本線４（７）の右端に移動させた状態を示す。水平駆動部１８ａは水平移送モータ２１を回転駆動することによりボールネジ軸２２を回転させて、水平可動部材１９ａを矢印方向に直線移動させる。水平可働部材１９a上には、移送アーム５ｂが固定されている。これにより移送アーム５ｂがカセット３を保持したまま、図３（ｂ）の位置まで移動する。
【００５５】
図３（ｃ）は、第１アーム２４内に設けられているアーム駆動モータ２３を駆動させて移送アーム５ｂを伸ばし、カセット３をさらに右方向の岐路９ｂ（図中、破線のハッチングにより４（９ｂ）として示す）までへ移動させた状態を示している。移送アーム５ｂは、前述の通り第１アーム２４及び第２アーム２８により構成されており、第２アーム２８の先端にカセット保持手段２０ａが設けられている。第１アーム２４内には、アーム駆動モータ２３の動力を伝達するプーリ２５とベルト２６からなる動力伝達手段２７を備えており、この動力伝達手段２７を介して第２アーム２８を回動させることにより第１アーム２４及び第２アーム２８は屈伸動作する。この屈伸動作により、移送アーム５ｂは最大第１アーム２４と第２アームの長さだけ伸びることができ、これによりカセット３をさらに水平移動させることが可能となる。
【００５６】
図４は、カセット搬送システム１ａに備えられる昇降装置１０及び基板取り出し装置１２の一例を示す側面図である。基板取り出し装置１２は、カセット３内に収納された基板２を取り出して処理装置８（図１参照）内に挿入し、または処理の完了した基板を処理装置から取り出してカセット３内に収納する装置であり、昇降装置１０は、基板取り出し装置１２によって基板２を取り出すために、カセット３を載置した台を昇降させてカセット３の高さを調整する装置である。
【００５７】
昇降装置１０は、底面に設けられた基台３０の両端に、クロスして設けられた２つの支持部材３１を備えている。支持部材３１は、中央でクロスした状態で軸支されて回動可能に連結されており、片方の支持部材３１が水平移動可能に昇降駆動部３４に接続されている。昇降駆動部３４は、モータ３２とボールネジ軸３３とを備えており、モータ３２が回転することによりボールネジ軸３３が図４において左右方向に直線的に移動する。ボールネジ軸３３が左右に移動することにより、接続されている支持部材３１の下端を左右に移動させる。支持部材３１の下端が左右に移動すると、１対の支持部材３１は、クロスしている回動軸を中心に屈伸し、上部に備える昇降台３５が上下に昇降する。
【００５８】
昇降装置１０の隣には、基板取り出し装置１２が設けられている。基板取り出し装置１２は、カセット３から基板２を取り出して処理装置８（図１参照）に搬入し、または処理装置８から加工処理済みの基板２を取り出してカセット３内に収納する。基板取り出し装置１２は、胴体部３６の上の水平面内で回動可能である下アーム３７と、下アーム３７の上面において回動可能である上アーム３８と、上アーム３８の上面に回動可能に支承されている基板保持アーム３９を備えている。
【００５９】
基板取り出し装置１２よりカセット３内の基板２を各処理装置８へと搬送する手順を説明する。まず、図４（ａ）に示すように、上アーム３８上に支承されている基板保持アーム３９を直線運動させることにより、カセット３の棚段４０上に載置されている基板２の下方に基板保持アーム３９の先端を挿入（移動）する。次に昇降装置１０を降下させて、基板保持アーム３９により基板２が支持されるまでカセット３を下げる。基板保持アーム３９により基板２が支持された状態で、基板支持アーム３９をカセット３から引き出すことにより、基板２をカセット３から取り出して、処理装置８（図１参照）へ搬送する。
【００６０】
このように、基板取り出し装置の動作と連動させて、昇降装置１０を上下動させることにより、カセット３内の基板を取出す。昇降装置１０を上下動させてカセット３を上下動させることにより、基板保持アーム３９の上面（位置Ｓで示す）が、カセット３の最下段から最上段の範囲をカバーできれば、基板取り出し装置３６を上下動させることなく、カセット３内に収納されている基板２をすべて取り出すことが可能となる。図４（ｂ）は昇降装置１０を最も低い位置まで降下させた状態を示す図である。
【００６１】
図５に、第２の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｂを示し、そのAーA’線断面図を図２４に示す。尚、第１の実施形態と共通する部分は、第２の実施形態においても同じ番号を使用する。第１の実施形態にかかるカセット搬送システム１ａでは、屈曲動作可能な２つのアーム２４，２８からなる移送アーム５ａ〜５ｃの第２アーム２８の先端にカセット保持部２０ａを備えているのに対して、本実施形態のカセット搬送システム１ｂでは、一部の移送アーム５ｄ、５ｅが、水平可動部材１９ｂで構成されている。図２４に示すように、水平可動部材１９ｂの上部先端にはカセット保持部２０ａが設けられており、他端は水平駆動部のボールネジ軸２２に接続されている。これにより、ボールネジ軸が回転駆動されることにより、水平可動部材１９ｂは水平方向に移動して、カセット３を搬送する。
【００６２】
図６に第３の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｃを示す。図５と同様に、第１及び第２の実施形態と共通する部分は、第３の実施形態においても同じ番号を使用する（以下の実施形態においても同じ）。図５のカセット搬送システム１ｂでは、少なくとも岐路４（９）においては、第１アーム２４、第２アーム２８を備える移送アーム５ａ、５ｃを備えているのに対して、このカセット移送システム１ｃでは、第１、第２アームを備える移送アーム５ａ、５ｃが存在していない。代わりに、移送アーム５ｅ、５ｆが設けられている。この移送アーム５ｅ、５ｆは、カセットを本線４（７）に受け渡すために本線側に伸びるカセット保持アーム８５を備えている。
なお、移送アーム５ｅ、５ｆを岐路４（９ａ）、４（９ｂ）に沿って移動させる水平駆動部１８ｃ、１８ｄは、岐路４（９ａ）、４（９ｂ）の側部下方に設けられている。
【００６３】
図７に第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｄを示す。第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｄにおいては、各移送アーム５ｊ、５ｋは、カセット保持アーム８６の両端にそれぞれ第１のカセット保持部４３、第２のカセット保持部４７を備えている点で異なっている。このように、左右に伸びるカセット保持アーム８６の両端に第１、第２のカセット保持部４３、４７を設けて、搬送路上で左右の第１、第２のカセット保持部４３、４７でカセット３を持ち替えることにより、移送アーム５ｊ、５ｋの水平方向の移動距離を、図６の移送アーム５ｅ、５ｆを使用する場合に比べて短くすることができる。
【００６４】
図６の岐路４（９ｂ）に設けられている移送アーム５ｆと比較して説明する。図６の実施形態では、岐路４（９ｂ）の側部に設けられている水平駆動部１８ｄが、カセット３の昇降装置１０の側部まで伸びている。図７の実施形態では、水平駆動部１８ｅは昇降装置１０の側部にまでは伸びておらず、図６の水平駆動部１８ｄに比べて水平移動距離が短い。これは、図６の実施形態では、移送アーム５ｆが、カセット３を持ち帰ることなくそのまま移送アーム５ｄへと受け渡すため、移送アーム５ｆは、カセット３の特定の保持用凹部４４を把持するのに対して、図７の移送アーム５ｊでは、カセット３を搬送路上に一旦載置し、カセット３を左右のカセット保持部４３，４７で持ち替えて搬送するという搬送方法の違いにより生じるものである。このため、図７の実施形態の場合、図６の実施形態の持ち替えなしで受け渡す方法をそのまま採用した場合に比べて、水平駆動部１８ｅの水平駆動距離を短くすることができる。
【００６５】
図７乃至図１０を用いて、第４の実施形態において、昇降装置１０上にあるカセット３を、搬送路４の岐路９ｃを経由して、搬送路４の本線７上の位置Ｆまで搬送する搬送手順を、より詳しく説明する。図８及び図９は、昇降装置１０、搬送路４及び水平駆動部１８ｅの側面部分を表す断面図であり、カセット３が移送アーム５ｊにより昇降装置１０から搬送路４の岐路９ｃを経由して本線７の上まで搬送される状態を示している。図１０は、カセット３が移送アーム５ｊにより昇降装置１０から本線７まで搬送される手順を示すフローチャートである。
【００６６】
図１０のフローチャートに従って説明する。まず、図８（ａ）に示すように、岐路４（９ｃ）左端の位置Ａに移送アーム５ｊを移動する（Ｓ１０１）。次に、昇降装置１０上のカセット３の下部に設けられている第１の保持用凹部４４ａに、第１のカセット保持部４３を挿入する（Ｓ１０２）。その後、水平駆動部１８ｅを駆動させて、カセット３を図８ｂに示す位置Ｂへと右方向に移動する。次に、ピン昇降装置４５によりカセット用ピン４６を上昇させる（Ｓ１０４）。カセット３がピン４６で支えられることにより図８ｃに示す所定の位置に係止されると、第１のカセット保持部４３による保持を解除する（Ｓ１０５）。
【００６７】
その後、図９（ａ）に示すように、移送アーム５ｊを左側の位置Ｃに移動して（Ｓ１０６）、第２の保持用凹部４４ｂに反対側の第２のカセット保持部４７を挿入してカセット３を保持する（Ｓ１０７）。カセット３を保持したら、図９（ｂ）に示すように、カセット３を係止していたカセット用ピン４６を降下させる（Ｓ１０８）。次に図９（ｃ）に示すように、本線４（７）上の移送アーム５ｋがカセット３を保持できる位置Ｄまで、移送アーム５ｊをさらに右に移動させる（Ｓ１０９）。同時に、移送アーム５ｋを、第１のカセット保持部４３によりカセット３を保持できる位置Ｅ（図７参照）に移動し（Ｓ１１０）、移送アーム５ｋの第１のカセット保持部４３によりカセット３を保持する（Ｓ１１１）。その後、移送アーム５ｊの第２のカセット保持部４７によるカセット３の保持を解除して（Ｓ１１２）、移送アーム５ｊを待機位置（例えば、位置Ｃ）まで移動させる（Ｓ１１３）。カセット３は、移送アーム５ｋにより本線７上の位置Ｆまで搬送される。
【００６８】
図７乃至図９に示す例では、移送アーム５ｊの第２カセット保持手段４７と移送アーム５ｋの第一カセット保持手段４３とが衝突しないように、カセット保持手段の高さをずらしてある。これに合わせて、高さの異なるいずれの移送アームのカセット保持手段によってもカセット３を保持できるように、カセット３の下部に設けられている保持用凹部４４ａ、４４ｂは高さ方向に伸びる長い縦溝形状に形成されている。
【００６９】
図１１(ａ)は、昇降装置１０の昇降台３５内部に備える偏移機構１１の一例を示す断面図であり、図１１（ｂ）はその斜視図である。偏移機構１１は、カセット３の向きを変えるための機構であり、昇降台３５の内部に設けられた上下可動基台４９上と、昇降台３５の中心部を軸にして回転可能なリング形状の載置台５１を備えている。載置台５１は、可動基台４９に固定されたモータ５０により回転駆動される。上下可動基台４９は、可動基台４９自身を僅かに上方へ持ち上げることのできるエアシリンダ等の基台昇降装置４８により支持されている。基台持ち上げ装置４８によりリング形状の載置台５１を持ち上げることにより、載置台５１が昇降台３５から上方に突出し、その上にカセット３を載置することができる。この状態で載置台５１を回転させることにより、カセット３の向きを希望する方向に偏移させることができる。
【００７０】
載置台５１の上面には、カセット３の下側縁部と当接してカセット３を所定の位置に位置決めするための位置決めピン５２を備える。位置決めピン５２は、ほぼ円錐形状をしており、カセット底面の所定の位置に設けられた穴に位置決めピン５２落とし込み、カセットの位置決めを行う。そのため、位置決めピン５２の上面及び側面には、カセット３が当接した際に滑りやすくなるような表面加工が施されている。また、偏移機構１１は、コンプレッサ（圧縮ポンプ）１３と圧力調整室１４を備えており、天井部材１４に設けられた孔１６から高圧気体を噴出して、カセット３を浮上させる。
【００７１】
図１１（ｂ）を参照して偏移機構１１によりカセット３の向きを調整する動作を説明する。浮上しているカセット３を、カセット搬送ロボットにより昇降装置１０上に移動させた後、エアシリンダ４８等の基台昇降装置４８を作動させて位置決めピン５２を上昇させる。その後コンプレッサ１３を停止することにより、カセット３（破線で示す）を昇降装置１０の載置台５１上に下ろす。このとき、基台昇降装置４８により載置台５１は上昇しているので、載置台５１の上面は、天井部材１５の上面より高い位置となっている。従って、モータ５０を作動して載置台５１の上に載置したカセット３を回動することができる。
【００７２】
このように、カセット３を搬送路上等に載置する際に、カセット３を浮上させた状態のままピン４６を上昇して、カセット３を保持することが可能となるので、載置に伴う震動を抑制することができ、大型基板の振動による破損を防止することができる。
【００７３】
図１４に本発明の第５の実施形態にかかるカセット搬送システム１eを示す。第５の実施形態は、カセット３を浮上させる機構が大きく異なる。第１の実施形態乃至第４の実施形態のカセット搬送システム１ａ乃至１ｄが搬送路４の上面に浮上装置６を備えるのに対して、第５の実施形態では、浮上装置６ｅをカセット３ｅの下部に備える点で異なっている。このように第５の実施形態では、第１乃至第４の実施形態とは、カセット及び浮上装置等の構造が異なるので、この構造のカセット及び浮上装置等の各部の番号には“３ｅ”、“６ｅ”のように、数字の後ろに“ｅ”を付して、第１乃至第４のカセット３とは区別して表す。
【００７４】
このカセット搬送システム１eに備える移送アーム５ｍ〜５ｐは、カセット保持手段２０ｅの突出部材５３ｅがカセット３ｅを保持した際に、浮上装置６ｅに気体を供給するコネクタとなるカプラ５５（図１６参照）を備える。カセット保持部２０ｅについては、図１６を用いて後ほど説明する。また、カセット３ｅの下側部には、カセット保持部２０ｅの突出部材５３ｅと当接する凹形状の保持用凹部４４ｅを備えている。
【００７５】
尚、図１４のカセット搬送システム１eは、図１のカセット３及び搬送路４を、浮上装置６ｅを備えるカセット３ｅ及び天井部材に孔１６の無い搬送路４ｅに置き換えたものである。同様に、第２乃至第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｂ乃至１ｄの搬送路４及びカセット３を、第５の搬送路４ｅ及びカセット３ｅに置き換えることも可能である。
【００７６】
図１５に第６の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｆを示す。第６の実施形態では、図１４に示すカセット搬送システム１eの搬送路本線４ｅ（７）の移送アーム５ｎに比べて、カセット搬送ロボット５ｑのアームが長く、かつ、図１４のような水平駆動部１８ａを備えていない点で異なる。すなわち、図１５に示すように、移送アーム５ｐの長いアームを伸縮することにより、遠距離までカセットを搬送することができるので、水平駆動部１８ａを不要としたものである。このような長いアームを備える移送アーム５ｑは、既に説明したすべての実施形態の搬送路本線４（７）について使用することができる。
【００７７】
図１６は、第５及び第６の実施形態にかかる移送アーム５ｍ〜５ｑのカセット保持手段２０ｅの構造の一例を示す断面図である。以下の説明では、図１４の移送アーム５ｎのカセット保持手段２０ｅを用いて説明する。移送アームの第２アーム２８の先端付近に、カセット保持手段２０ｅが設けられる。カセット保持手段２０ｅは、カセット３ｅに接合する突出部材５３ｅ、及び突出部材５３ｅをカセット３ｅの保持用凹部４４ｅに向かって突出させる駆動手段であるエアシリンダ４８ｅを備えている。
【００７８】
エアシリンダ４８ｅは電磁弁５６ａにより駆動され、電磁弁５６ａを開放することにより電磁弁５６ａ及び配管５７ａを介して圧縮ポンプ（コンプレッサ）１３から高圧気体が供給される。エアシリンダ４８ｅが駆動されると、突出部材５３ｅはカセット３の保持用凹部４４ｅ（図中白抜きの矢印方向）に向かって直線駆動し、これにより突出部材５３ｅを保持用凹部４４ｅに挿入し接続する。カセット３ｅの保持用凹部４４ｅには、カプラ５５と当接する際にカプラ５５と係合するカプラ受け７０を備えている。
【００７９】
突出部材５３ｅの先端には、カセット３ｅの浮上装置６ｅへと気体を供給するカプラ５５を備えている。このカプラ５５には、配管５７ｂが接続されており、配管５７ｂには他の電磁弁５６ｂを介して圧縮ポンプ１３から高圧気体が供給される。
【００８０】
カセット３ｅの保持用凹部４４ｅにはカプラ受け７０が設けられており、突出部材５３ｅのカプラ５５がカプラ受け７０に接続される。なお、図中の破線は、突出部材５３ｅ及びカプラ５５が保持用凹部４４ｅに接続された状態を示している。カプラ受け７０より供給された高圧気体は、浮上装置６ｅの圧力調整室１４ｅへと送られ（図２１（ａ）参照）、圧力調整室１４ｅの底部材に有する噴出口から平板状の搬送路４ｅに向かって噴出される。これにより、カセット３ｅを浮上させることができる。なお、カプラ５５とカプラ受け７０については、公知の技術を使用することができる。
【００８１】
配管５７ｂの途中には、圧力センサ７３を設けることが望ましい。カセット保持手段２０ｅがカセット３ｅを保持し損ねたことによりカプラ５５がカプラ受け７０に正しく接続されない場合には、高圧気体がカプラ受け７０の配管７１へ流れず漏れが生じて圧力が低下する。この圧力低下を圧力センサ７３で検知することにより、カプラ５５が適切に接続されているか否かを判定することが可能となる。
【００８２】
また、図２５に示すように、突出部材５３ｅの先端円周部分にコイル８６を設け、カセット３ｅに永久磁石（コイルでも良い）８７を設けることも可能である。図２５は、第５及び第６の実施形態にかかる移送アーム５ｍ〜５ｑの他の実施形態にかかるカセット保持部２０ｅの構造の一例を示す断面図である。この構成により、突出部材５３ｅを突出させてカプラ５５を装着したときに、コイル８６に電流を流すことにより、コイル８６と永久磁石８７とが密着して、移送アームによりカセット３ｅを強固に保持することができ、微細な位置ずれを防止することができる。
【００８３】
図１７に、基板取り出し装置１２を内部に備えるミニエンバイロメント装置（高清浄環境維持装置）５８の一例を示す。基板取り出し装置１２は、カセット３ｅ（カセット３の場合も同様である）から基板２を取出し、ミニエンバイロメント装置５８内を経由して処理装置８へと搬送する。ミニエンバイロメント装置５８は、内部雰囲気を高清浄な状態に保つために外部雰囲気と隔離された密封された構造体となっている。ミニエンバイロメント装置５８の上部には、清浄な気体を装置内部に供給するためのＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）５９を備えており、ミニエンバイロメント装置５８の上部のＦＦＵ５９からグレーチング（複数の穴を有する床）６０へと清浄な気体を流している。
【００８４】
このミニエンバイロメント装置５８は、処理装置８及び搬送路４ｅ（９ａ、９ｂ）との間に設けられ、処理装置８の方に処理装置用ドア６１を備え、搬送路４ｅ（９ａ、９ｂ）側に載置台用ドア６２を備えている。なお、カセット３ｅは、１つの側面に開口部６３（図１９参照）を備え、この開口部６３を蓋６４で密閉することによりカセット内部を清浄に保ち、内部に基板を収容する収容具である。
【００８５】
なお、基板取り出し装置１２は横移動部８３により横方向に移動可能であり、カセット３ｅの載置された位置に応じて横方向の位置を調整可能である。この横移動部８３は、既に説明したカセット搬送ロボット５を搬送路４（７）に沿って直線移動させる水平駆動部１８ａと同じようなボールネジ軸等を回転させる機構等を用いることにより実施することが可能である。
【００８６】
図１８及び図１９は、カセット３ｅを図１７に示す搬送路岐路４ｅ（９ｂ）の載置台上に載置し、カセット３ｅの蓋６４及び載置台側ドア６２を開放する際のカセット３ｅの蓋６４及び載置台側ドア６４の構造及び動きを示す側面図である。図１８（ａ）→図１８（ｂ）→図１９（ａ）→図１９（ｂ）という順序でカセット３ｅの蓋６４が取り外される。
【００８７】
図２０は、カセット３ｅ内の基板２をミニエンバイロメント装置５８に搬送する手順の一例を示すフローチャートである。以下図１８乃至図２０を参照して、カセット３ｅから基板２を取出す手順を説明する。
【００８８】
搬送路４ｅの岐路９ｂ上で浮上しているカセット３ｅは、図１８（ａ）に示すように、移送アーム５ｐのカセット保持部２０ｅにより保持されている。移送アーム５ｐは、カセット３ｅを所定の位置に載置するため、アームを伸ばし、カセット３ｅを所定の位置まで移動（前進）させる（Ｓ２０１）。尚、図１８、図１９の符号６７は、カセット３の蓋６４を開錠するためのラッチキー受けであり、符号６８は載置台側ドア６４に設けられているラッチキーである。ラッチキー６８は、ラッチキー受け６７に挿入されて蓋６４を開錠する。
【００８９】
カセット３を図１８ｂに示す載置台側ドア６２と蓋６４とが当接する所定の位置まで移動させると、移送アーム５ｐはアームの動きを停止させる（Ｓ２０２）。このとき、ラッチキー６８は、蓋６４のラッチキー受け６７に挿入されている。この後、ラッチキー６８を回転させることにより、載置台側ドア６２と蓋６４とを合体させる（Ｓ２０３）。
【００９０】
この後、図１９（ａ）に示すように、移送アーム５ｐによりカセット３ｅを僅かに後退させることにより、カセット本体部６５から蓋６４を取り外す（Ｓ２０４）。
【００９１】
次に、図１９（ｂ）に示すように、蓋６４と載置台側ドア６２を合体した状態のまま、ドア昇降装置６６を作動させて、下方の空間にドア６２を下降させることにより、ミニエンバイロメント装置５８の内部とカセット３ｅ内部とを連通させる（Ｓ２０５）。なお、ドア昇降装置６６は、エアシリンダ、モータとボールネジ軸、直動軸受け等の組合せにより昇降動作を行うよう構成することができる。次に、カセット本体部６５をさらにミニエンバイロメント装置５８の内部方向へ移動させ、基板受け渡しのための所定の位置（図１９ｂの位置）で停止する（Ｓ２０６）。
【００９２】
本願発明のミニエンバイロメント装置５８では、カセット３ｅとミニエンバイロメント装置５８の開口部７２との間には２ｍｍから１０ｍｍ（望ましくは５ｍｍ）程度の隙間を有している。しかし、本願発明のミニエンバイロメント装置５８の内部圧力を外部より高くしていることから、その隙間には内部から外部への気流（図中白抜き矢印）が生じている。これにより外部の清浄度が低く若しくは塵埃を含む空気をミニエンバイロメント装置５８内部に流入することを防ぐことができる。また、この気流の流量が充分でないと塵埃を含む外気を内部に巻き込む気流が生じて、装置内部に汚染を生じさせるおそれがある。前述の工程Ｓ２０６においてカセット３を前進移動したのは、カセット３ｅをミニエンバイロメント装置５８の内部側に移動することで、前述の隙間付近の塵埃を含む外気からの気流の影響を受けにくくするためである。また、このように奥に移動することで、装置内部から隙間に向かう気流により、カセット３内部を循環して下方へ向かう気流が生じやすく、これによりカセット３内部を高清浄に保つことができる。
【００９３】
尚、前述の例では、カセット本体部６５を僅かに後退させることによりカセット本体部６５から蓋６４を取り外していたのに対して、載置台側ドア６２を内部に移動することでも可能である。しかし、この方法は、高清浄な領域に、塵埃が付着した蓋６４を持ち込むこととなり、装置内部に汚染が生じるおそれがあることに留意する必要がある。
【００９４】
図２１は、浮上装置６ｅを備えるカセット３ｅを、底部方向からみた斜視図である。図２１（ａ）に示す符号６５はカセット本体部であり、通常は蓋６４により密封されている。カセット本体部６５の内部の図示しない棚段上に、複数の基板２が所定の間隔を空けて収納される。カセット本体部６５の下部に浮上装置６ｅが設けられている。浮上装置６ｅは、圧縮された高圧気体を供給するカプラ５５を接続するためのカプラ受け７０と、４つの圧力調整室１４ｅと、高圧気体を４つの圧力調整室１４ｅへ送るカセット配管７１とを備えている。圧力調整室１４ｅの底部には多数の噴出孔１６ｅがあり、カセット３ｅの裏面の噴出口１６ｅから高圧気体を下方に噴出することでカセット３を浮上させるものである。
【００９５】
圧力調整室１４ｅは１つであっても良いが、搬送路４上に凹凸のうねりがあって平面状でない場合等に、噴出口１６ｅと搬送路面との距離（隙間）の差により気体の噴出にムラが生じ。距離の短い箇所ではカセット３裏面が搬送路４ｅを擦るおそれが生じる。このような可能性をできるだけ少なくするため、本実施形態では圧力調整室１４ｅを４つに分割して、安定した状態で気体を噴出できるようにした。尚、圧力調整室１４ｅにさらに細かく分割することや、２個または３個の圧力調整室に分割することも可能である。
【００９６】
図２１（ｂ）に、他の実施形態にかかるカセット３ｆを示す。このカセット３ｆの浮上装置６ｆでは、圧力調整室１４ｆの形状が天井部を有する大きな円筒形となっており、カセット３ｆの底部側は開放された形状となっている。その他、カプラ５５等は図２１（ｂ）と同様である。
【００９７】
図２２は、カプラ５５とカプラ受け７０の一例を示す断面図である。図示しないポンプより気体を供給する供給部の先端部には浮上装置６ｅ、６ｆと接続するためのカプラ５５が設けられている。図２２（ａ）は、カプラ５５とカプラ受け７０が当接する前の状態を示す。このカプラ５５を、浮上装置６ｅ，６ｆに設けられるカプラ受け７０に挿入することにより、両者は接続される。図２２（ｂ）は、図２２（ｂ）の状態からカプラ５５を少し移動して、カプラ５５をカプラ受け７０に当接した状態を示している。カプラ５５の内部には横方向に押圧する弾性部材７４を介して設けられた弁部材７５を備えている。弁部材７５の外周にはシール部材７７を備えており、弁部材７５がカプラ受け７０本体の内壁に固設された弁部材受け７６と当接したときに、カプラ５５から気体が漏れるのを防止している。
【００９８】
図２２Ｃは、カプラ５５をカプラ受け７０内にさらに挿入して、完全に接続された状態を示している。カプラ本体部７８と弁部材７５との間にある弾性部材７４を押し縮めるともに、カプラ本体部７８は、カプラ受け本体部７９の内壁とその内壁に当接する可動弁部材８０の間に備える弾性部材７４を押し縮めることで、カプラ５５とカプラ受け７０と連通可能に連結することができる。
【００９９】
図２２（ａ）を参照してカプラ５５について以下に説明する。カプラ本体部７８は配管５７を通って供給される高圧気体を外部へ排出するためのものである。弁部材７５は、カプラ５５をカプラ受け７０に結合されていない状態のときに、カプラ本体７５から気体を放出させないようにするための弁である。カプラ本体部７８は、内部が有底筒状となっており、高圧気体を配送するための配管５７が取り付けられている。弁部材７５は、その一端が、弾性部材７４ａにより前方向に押圧された状態で、カプラ本体部７８の内部に取り付けられている。これにより、弁部材７５の先端が、該カプラ本体部７８の開口部に押圧されて配管５７の出口部分を塞ぎ、弁の役割を果たしている。なお、カプラ５５が結合されていない状態においては、弁部材７５とカプラ本体部７８とは、弁部材７５に取り付けられてシール部材７７ａにより気密性が維持されている。
【０１００】
カプラ受け７０では、カプラ５５が挿入されたときに、可動弁部材８０が、カプラ受け本体部７９内部であって弁部材受け７６の外部を左右に移動可能な構成とすることで、弁の機能を果たしている。可動弁部材８０は弁部材受け７６に弾性部材７４ｂを介して、外側に押圧された状態で取り付けられている。これにより、カプラ５５が接続されていないときには可動弁部材８０は外側に押圧されてカプラ受け７０と弁部材受け７６との双方に当接しており、弁部材受け７６に取り付けられたシール部材７７ｂにより可動弁部材８０と弁部材受け７６の気密性を保っている。
【０１０１】
カプラ５５とカプラ受け７０が挿入されて、高圧気体が供給される状態を以下に説明する。図２２（ｂ）は、図２２（ａ）の状態から突出部材５３をカセット３側に少し移動して、カプラ本体部７８と可動弁部材８０の先端を当接させた状態を示している。カプラ本体部７８がカプラ受け本体部７９の内部に一部挿入された状態である。カプラ本体部７８の先端は凸形状をしており、可動弁部材８０の先端部は凹形状をしていることから、互いに嵌合する。
【０１０２】
なお、可動弁部材８０には、カプラ本体部７８と当接する箇所にはシール部材７７ｃが取り付けられており、これにより当接時における両者の当接部分の気密性を維持している。図２２（ｂ）において、可動弁部材７５と弁部材受け７６とは当接しているがこの時点ではカプラ本体部７８の内部と可動弁部材８０の内部とは連通していない（カプラ本体部７８の内部に備える弾性部材７４ａと、可動弁部材８０の内部に備える弾性部材７４ｂは共に図２２（ａ）で示す状態から縮んでおらず、変化していない）
【０１０３】
図２２（ｃ）は、突出部材５３がさらに奥に移動することにより、突出部材５３がカセット３ｅの保持用凹部４４ｅに挿入され、結合された状態を示している。カプラ本体部７８が、可動弁部材８０を左方に押し動かすことで、可動弁部材８０と弁部材受け７６との間に備える弾性部材７４ｂを押し縮めた状態となる。なお、可動弁部材８０と弁部材受け７６とは、弁部材受け７６の外側に設けられたシール部材７７ｄにより気密性が維持される。
【０１０４】
また、突出部材５３を奥に挿入する際に、弁部材受け７６の先端により弁部材７５が押圧されるので、弁部材７５とカプラ本体部７８との間に備える弾性部材７４ａが押し縮められた状態となる。これにより、弁部材７５及び可動弁部材８０の双方の弁機能が解放状態となり、配管５７から供給された気体は、カプラ本体７８の内部を通り、連通可能となった可動弁部材の内部（弁部材７５の外周及び弁部材受け７６の外周部分）を通り、弁部材受け８０に設けられた穴部８４を介して、弁部材８０の内部に備えられた配管７１へと流れることとなる。
【０１０５】
カプラ５５はカプラ受け７０に完全に挿入された際に、カプラ受け本体７９に備える固定部材８１が、カプラ本体７８の外側部に備える凹部８２に嵌り込むことでロックされる。これによりカプラ受け７０からカプラ５５を引き抜く方向に軽い力がかかっても容易に引き抜くことができない構造となっている。
カプラ５５からカプラ受け７０を外すときには、固定部材８１を凹部８２から外すことで容易に取り外せるように、固定部材８１は、電磁マグネット、弾性部材を用いた簡易のロック機構を備える構造としてもよい。
【０１０６】
図２３は、カセット３ｅ及びカセット３ｅの下部に設けられる浮上装置６ｅの一例を示す断面図である。この浮上装置６ｅは、圧縮ポンプ１３から移送アーム内の配管５７を介して流量ＱＡの高圧気体が供給される。
【０１０７】
今、カセット３ｅの下部に設けられた浮上手段６ｅの底面にあるｍ個の孔から流量ｑｎ（ｎ＝１，２，３…ｍ）の気体が噴出されるとすると、ｍ個の孔から均等に気体を噴出するには、ＱＡ≧ｑ１＋ｑ２＋ｑ３…＋ｑｎとなるようにポンプ、配管５７の径、孔の面積（ａ１＋ａ２＋ａ３…＋ａｎ）を選択する必要がある。なお、カセット３の下部から噴出する高圧気体による浮力Ｆは、気体密度ρ（空気：ρ＝１．２９２９［ｋｇ／ｃｍ３］）、流量Ｑ（ｑ１＋ｑ２＋ｑ３…＋ｑｎ［ｍ３／ｓ２］）、流速ｖ＝Ｑ／Ａ［ｍ／ｓ２］からＦ＝ρ×Ｑ×ｖ［ｋｇ・ｍ／ｓ２］で求めることができる。浮上装置６はカセット３の重量に応じた浮力を出力する必要がある。
【０１０８】
図２６は、カセット３ｅ及びカセット３ｅの下部に設けられる浮上装置の他の実施形態を示す断面図である。図２６に示すように、カセットを密封式にしなくとも、移送アームの先端２０ｅから、清浄な高圧気体の一部を減圧してカセット本体部６５内に送ることにより、基板収納スペース内を常に清浄に保つことができる。清浄な気体はカプラ５５を介してカセット本体部６５内の配管を通して清浄気体が吹き出し口８８から吹き出され、吸気口８９を通り排気口９７からカセット外部へ排出される。この際、左右の圧力調整室１４ｅの気圧が均一となるように、清浄な気体を左右双方の移送アームの先端２０ｅからカセット本体部６５内に供給し、カセット底部に排気口（図示せず）を設けるようにしてもよい。
【０１０９】
図２７は、カセットを浮上させた状態で停止させる構造を説明するための搬送路４とカセット３ｅの断面図である。カセット３ｅの底面に永久磁石９８を設け、搬送路の上面のカセット停止位置に電流を流すことにより磁界を発生させる停止コイル９９を設けることができる。これにより、カセット３ｅが停止位置を通過するときに停止コイル９９に電流を流して、永久磁石９８を磁力で引きつけて、カセット３ｅを浮上させた状態のまま停止状態に維持することが可能となる。カセット３ｅを浮上させたまま停止して、移送アームの受け渡しを行うことができ、受け渡し完了後停止状態から即座に移動を開始することが可能となる。停止アーム等のメカによる停止機構を設けることも可能であるが、停止機構が複雑で大がかりとなり、フットスペースも問題となる可能性がある。これに対して、永久磁石９８及び停止コイル９３によれば、構造が簡単であり低コストとなる。また、余分なフットスペースを必要としないという利点もある。尚、カセット３ｅの底部に永久磁石９８を設けると、鉄粉等のゴミを拾うおそれがあるので、永久磁石に代えて鉄等の磁性体９８とすることも可能である。この場合、軽い磁性体を採用することが望ましい。また、永久磁石又は磁性体９８をカセット３ｅの底部の側部に設け、停止コイル９３を搬送路の側壁に設けることも可能である。
【０１１０】
以上説明したように、本発明のカセット搬送システムでは、カセットを浮上して移動するため、カセットを横方向の駆動するための駆動出力を小さくすることができ、カセット搬送システムを小型化することが可能となる。また、本発明のカセット搬送システムでは、カセットの底面全体に気体を吹き付け、またはカセットの底面全体から気体を噴出することによりカセットを浮上させるので、カセットの底面全体でカセットの荷重を受けることとなり、底面の一部に集中荷重がかからない。すなわち、浮上手段により底面全体を持ちあげるので、カセット自体が撓まない。そのため、リフトで持ちあげるのと異なり、重量のある大型カセットを蓋で密閉しても隙間ができる等の不具合が生じない。また、撓みを抑制するために、カセットの剛性を大きくする等の特別の設計を必要としない。
【０１１１】
本願発明のカセット搬送システムでは、浮上手段により搬送路とカセットとを接触することなく移動することができるため、摺動摩擦によるパーティクル等の塵埃の発生を抑制可能となる。
【０１１２】
一方、移送アームを用いて水平方向の搬送移動を行う場合には、移送アームでカセットを常時保持しているので、外力による横方向への位置ずれを防止することができる。さらに、カセットの重量が重くなると移動に伴う慣性力が大きくなるが、移送アームでカセットをしっかり保持しているので、慣性力の正確な制御が可能になり、所望の位置へ正確に搬送し確実に停止させることが可能となる。これにより、ロードポートに重量のある大型カセットを正確に位置決めすることが可能となる。さらに、上述のように大型基板では特に振動の抑制が重要であるが、噴出気体による微少な振動をアームで保持することにより低減することが可能である。
【０１１３】
さらに移送アームでカセットを順次受け渡して運搬する場合、一つの搬送路上に複数のカセットを同時に搬送することも可能である。また、搬送路に岐路を設けることにより、緊急時にはカセットを岐路内または搬送路端に一時退避させることが可能となる。これにより、急を要するロットを処理するためには、使用中の生産ラインの一つを緊急ロット処理用のラインとして開放することも可能となる。
【０１１４】
本明細書は、２００５年４月２２日出願の特願２００５−１２５７６５および２００５年６月１７日出願の特願２００５−１７８６３０に基づく。この内容はすべてここに含めておく。
【０００１】
本発明は、工場等の施設内において物品を搬送する搬送システムに関する。特に、高清浄な環境下において、各種処理がなされる半導体製造用基板等の高清浄物品をカセットに収納して搬送するのに適するカセット搬送システムに関するものである。尚、本明細書では、搬送対象物品として電子部品であるＬＣＤの基板をカセットに収納して運搬する例を用いて説明するが、これは例示であり、本発明の適用範囲を限定するものではない。
【背景技術】
【０００２】
一般に半導体の製造行程では塵埃を嫌うため、ＬＣＤや半導体ウエハ等の基板の搬送やその加工処理等の製造は高清浄な環境、いわゆるクリーンルームで行われる。従来技術においては、これらの基板をカセット内に収納して、ＡＧＶ(Automatic Guided Vehicle：自走式運搬車）によりカセット単位で運搬している。これらのカセットには、密封式のカセットとオープン形式のカセットがある。密封式のカセットは基板への塵埃の付着をできるだけ抑制することができるが、重量が重くなること及び振動による基板の破損の危険が大きいこと等の問題もあり、ガラス基板や大型基板では採用されておらず、主として３００ｍｍ以下のウエハの運搬に採用されている。ガラス基板や大型の基板を収納するカセットでは、一般的にオープンカセットが使用されている。
【０００３】
ＡＧＶにより目的の処理装置まで運搬されたカセットは、処理装置の前に設けられたカセット載置台（ロードポート）上に載置される。その後、公知のスカラ型ロボットにより、載置台上に載置されたカセットの中から一枚ずつ基板が取出され、各処理装置内部へ搬入される。処理装置内部に搬入された基板は、処理装置内で所定の加工処理が行われる。加工処理が終わると、処理装置から基板からが取り出されて、カセット内に収納密封されて、次の目的地（処理装置または収納室）に搬送される。
【０００４】
また、特許文献１には、所定の場所に載置されたカセットから基板を取り出し、目的の処理装置に搬送する搬送システムが開示されている。この搬送システムでは、搬送装置自体にスカラロボットが設けられており、該スカラロボットによりカセットから基板を取り出して、基板を搬送装置上の所定の載置台に載置する。基盤を載置した搬送装置が目的の基板処理装置まで移動すると、搬送装置のスカラロボットにより載置台上の基板を持ち上げ、基板処理装置内に移動させて、基板の搬送を終了する。このように搬送装置自体に１台のスカラロボットを設けることにより、基板処理装置毎にスカラ型ロボットを設置することが不要となる。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−１６８１６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、最近では処理対象となる基板の大型化が進み、例えば、第６世代の液晶基板の製造工場では、約1500×1800ミリの大型基板を使用している。このような製造工場では、薄膜形成前の洗浄工程、薄膜形成工程、レジスト塗布工程等の各種処理を行うために、このような大型基板を、処理工程に応じて必要な場所（処理装置の配置されている場所）に移動しなければならない。
【０００７】
このように搬送する基板が大型化するとその基板を収納するカセットも大型化する。大型化したカセットを従来のＡＧＶで搬送するためには、ＡＧＶのカセット載置台のサイズが大きくなるだけでなく、ＡＧＶに搭載されるロボットアームも大型化し、ＡＧＶ全体が巨大化する。このようにＡＧＶが巨大化すると、ＡＧＶの重量が増えるため、それを支えて搬送する搬送路を含む搬送システム全体が巨大化する。ＡＧＶの重量が増えると、それを支えて搬送する搬送機構の耐久性、高出力の駆動装置が求められるので、装置全体がますます大型化する。それだけでなく、従来技術により大型化した重量基板を搬送すると、摺動摩擦の増大による塵埃の増加も問題となる。このように、半導体製造工程においては、基板が大型化に伴い、解決すべき種々の問題が存在する。
【０００８】
カセット内の大型基板の収容枚数をできるだけ少なくしてカセット全体の重量をできるだけ軽くすることにより、従来のＡＧＶにより搬送することも、上述の問題を回避する手段の一つとして考えられる。しかし、カセットの収納枚数を減らすと搬送能力（運搬能力）が下がる。近年、半導体製造用の各処理装置の能力は大幅に向上しており、搬送能力が下がると搬送能力がボトルネックとなり、全体の生産能力が低下してしまう。従って、各処理装置の処理速度に応じて大型基板を供給可能な基板の運搬能力が求められている。すなわち、大型基板を、塵埃を出すことなく、高速で安定して各処理装置に供給することのできる搬送装置が望まれている。
【０００９】
特許文献１の搬送装置は、カセットから取り出した基板を搬送するものであり、搬送装置の設置環境全体を清浄な状態に維持しなければなければならない。基板が大型化すると、搬送路も長くなるので、このような搬送システムでは清浄環境を維持するだけでも大きなコストが必要となる。また、特許文献１の搬送システムでは、１つの搬送路上に走行できる搬送装置は１台に限られている。これでは、ライン上に流通できる総量が大幅に制限され、運搬能力（搬送能力）の要請に対応することができない。
【００１０】
一方、カセット内に基板を収納する場合、基板の両端がカセットに設けられた支持端部により支持され、基板の中央部がすこし下方に垂れ下がり撓んだ状態となる。基盤が大きく（長く）なればこの中央部の撓み量も大きくなる。そのため、カセット内に大型基板を収納した状態で搬送する場合、静かに搬送しないと、震動により基板の中央部が大きく震動し、基板同士が衝突して破損するおそれがある。従来技術による搬送方法では、搬送の前後においてリフトで上げ下げしてカセットを受け渡すので、震動が生じ、破損し易いというのも問題となる。
【００１１】
また、カセットを搬送する場合には、カセットの底部にリフトの爪を挿入して持ちあげるものである。そのため、巨大化したカセットの底部に爪を挿入して持ち上げると、カセット自体も撓むので、カセット内部に収納されている基板を破損するおそれもある。
【００１２】
さらに、基板の搬送には、塵埃の付着を抑制可能な密封式カセットを使用することが望ましいが、そのためには重量の重いカセットを、振動を抑制しつつ正確に搬送できることが要求される。しかしこれには、種々の問題がある。例えば、蓋を有しており重量のある大型カセットでは、搬送時に大型カセットをリフトで持ちあげるとカセット自体が撓むため蓋を有して密閉しても隙間ができるおそれがある。また、リフトで持ち上げると、振動が大きく、内部の基板同士が衝突して破損するおそれもある。
【００１３】
本発明は、大型基板等を収納したカセットやガラス基板のような重量の重いカセットを、振動を抑制しつつ基板を傷つけることなく円滑に搬送することのできるカセット搬送システムを提供することを目的とする。
［００１４］
また、本発明の他の目的は、搬送装置の摺動摩擦による塵埃発生の少ないカセット搬送システムを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
［００１５］
本願発明のカセット搬送システムは、高圧気体の噴出によりカセットを浮上させ、浮上させたカセットを搬送路に備えた移送アームにより搬送路に沿って目的位置まで移動させるよう構成することにより、上記課題を解決する。
［００１６］
本発明によるカセット搬送システムの第１の態様は、清浄環境下において、内部に大型搬送対象物を収容する大型カセットを、所定の搬送路に沿って所望の位置に搬送するカセット搬送システムであって、気体を圧縮して高圧気体を生成する圧縮部と、前記圧縮した高圧気体を複数の噴出口から噴出させる噴出部とを備え、高圧気体の噴出により前記カセットを前記搬送路上で浮上させる浮上装置と、前記カセットを保持及び解放可能な少なくとも１個の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路上に沿って水平方向に移送するカセット移送装置と、前記浮上装置による気体の噴出及び前記カセット移送装置による前記カセットの移送を制御して、前記カセットを目的位置に搬送する搬送制御装置と、を備えることを特徴とする。
［００１７］
この態様によると、移送アームにより浮上したカセットを保持し、移送アームがカセットを保持したまま水平方向に移動することにより、浮上したカセットを水平方向に移動させることができる。移送アームは少なくとも１つで良いが、搬送形態に応じて複数の移送アームを設けても良い。例えば、搬送路の片側部に１個の移送アームを設けた構成としても、搬送路の両側部に対となるように２個の移送アームを設けて両側の移送アームによりカセットを挟み込むように保持する構成としても良い。この態様にかかるカセット搬送システムでは、カセットが浮上しているため、水平方向の外力をかけると、カセットを容易に移動させることができる。浮上装置は、カセットを移動させることが可能な数ミリ程度浮かせれば良い。噴出する気体は清浄な空気であっても、特殊な気体であっても良い。また、移送アームにより大型カセットを保持した状態で水平移動させるので、移送アームによるカセットを水平方向に移動させる際の加速、減速等の動作を移送アームにより正確に制御可能となる。従って、振動を抑制しつつカセットを搬送することが可能となる。このように、カセットを高圧気体により浮上させた後水平移動させるため、移送アームの強度を強くする必要もなく搬送機構が簡単になる。また、摺動部分がほとんどなくなるので、摺動磨耗による塵埃の発生を抑制することが可能となり、清浄環境を維持することが容易となる。特に重量の大きい物品を機械式搬送装置により搬送する場合、搬送装置自身の摺動摩擦による塵埃の発生が大きくなるので、カセットを浮上させることによる塵埃発生の抑制効果は大きい。
また、目的位置にカセットを載置するときも、噴出するエアを徐々に落とすことにより、緩やかに載置することが可能となる。
［００１８］
本発明によるカセット搬送システムの第２の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記移送アームの少なくとも一つが、少なくとも２個のアーム部材がリンク結合されており、該２以上のアーム部材を該リンク結合部により屈伸駆動させることにより、前記移送アームの先端で保持した前記カセットを水平方向に移動させることを特徴とする。
例えば、２本のアームの一端を関節で結合し、一方のアームの先端でカセットを保持して、該２本のアームを搬送路に沿って伸縮させることによりカセットを水平方向に移動させる構成とする。これにより、簡単な構造の移送アームで、カセットの水平方向の移動に伴う制動動作を正確に制御することが可能となる。尚、移送アームは２関節に限らず、多関節であっても良い。
［００１９］
本発明によるカセット搬送システムの第３の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記移送アームの少なくとも一つは、前記カセットを保持した状態で前記搬送路に沿って水平移動する水平移動部を備えることを特徴とする。例えば、移送アームを１本のアームのみで構成し、その一端にカセットを保持するカセット保持部を設け、他端部を搬送路に沿って水平方向に駆動可能な構成とすることも可能である。例えば、直線方向への移送の場合には、移送アームを水平移動可能な構成とすることにより、一つの移送アームによる移送距離を長くすることができる。また、移送距離を長くすることにより高速搬送が可能となる。水平方向の駆動手段としては、例えば、モータの作動によりボールネジ軸を介して直線駆動できる駆動装置や、磁石をＮ極とＳ極とが交互となるように円柱状のシャフト内に備えるとともに、可動部材側にコイルを備えて、コイルに電流を流すことで直線または曲線上で駆動できるリニア駆動装置などの公知の手段を用いることができる。
［００２０］
本発明によるカセット搬送システムの第４の態様は、前記第１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置の前記移送アームは、前記搬送路に沿って前記搬送路の両側部に設けられていることを特徴とする。両側部に移送アームを設けることにより、搬送対象物を確実に保持可能となり、振動を抑制しつつ安定して移送することが可能となる。
［００２１］
本発明によるカセット搬送システムの第５の態様は、前記第１乃至４のいずれかの態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記搬送路の上面に設けられて、該噴出部から上方に向かって高圧気体を噴出させることにより、該搬送路上に載置された前記カセットを浮上させることを特徴とする。この態様では、搬送路面からカセットに向かって高圧気体を噴射するので、高圧気体を生成する圧縮ポンプ又は高圧気体を一時ストックする収納ボンベ等を搬送路面の下に配置することができ、比較的シンプルな構成とすることが可能となる。
［００２２］
本発明によるカセット搬送システムの第６の態様は、前記第５の態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記搬送路に沿って所定の単位で区割して配置され、該区割された単位毎に前記高圧気体を噴出可能に構成されており、前記搬送制御装置が、前記搬送路上の前記カセットの移動位置にあわせて、前記浮上装置の高圧気体の噴出位置を順次切り替えるよう制御することを特徴とする。この態様によると、移動中のカセットの存在するところのみ、またはその近傍のみ高圧気体を噴出させることができる。従って、高圧気体の効率的な使用が可能となる。
［００２３］
本発明によるカセット搬送システムの第７の態様は、前記第５の態様のカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置が、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする。例えば、搬送路の長さに応じて、所定の間隔ごとに各種形態の移送アームを複数個設けて、次々とリレー式にカセットを受け渡していくことにより、長い距離の搬送を行うことも可能である。また、移送アームを切り替えることで、搬送方向を切り替えるように構成することも可能である。
［００２４］
本発明によるカセット搬送システムの第８の態様は、前記第１乃至４のいずれかの態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置の前記噴出部が前記カセットの下面に設けられ、該噴出部から前記搬送路に対して高圧気体を噴射することにより前記カセットを浮上させることを特徴とする。カセットを載せる浮上装置に圧縮ポンプを載せてカセットとともに移動するように構成してもよいが、外部から浮上装置に高圧気体を供給するように構成することにより、浮上装置を小型軽量化することが好ましい。
［００２５］
本発明によるカセット搬送システムの第９の態様は、前記第８の態様のカセット搬送システムにおいて、前記浮上装置が、前記圧縮部から前記移送アーム内に設けられた配管及び前記カセットを保持するための保持部を介して前記カセットの下部に設けられた前記噴射部に高圧気体を供給することを特徴とする。
［００２６］
本発明によるカセット搬送システムの第１０の態様は、前記第９の態様にかかるカセット搬送システムにおいて、前記カセット移送装置が、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で前記移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする。
［００２７］
本発明によるカセット搬送システムの第１１の態様は、前記第１０の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送制御装置が、前記移送アームによる前記カセットの受け渡しに応じて、前記圧縮部から前記高圧気体を供給する前記移送アームを順次切り替えるよう制御することを特徴とする。これにより、移送アームが切り替わる度に、適宜、カセットに接続された移送アームを介してカセットの噴出口に高圧気体が供給される。
［００２８］
本発明によるカセット搬送システムの第１２の態様は、前記第１１の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送路は、一つの本線と、前記本線から所定の角度で延在する岐路とを備え、前記本線及び岐路のそれぞれに前記移送アームを備えることを特徴とする。このように岐路を備えることにより、先に搬送したカセットを岐路に退避させて、後続するカセットを先に搬送する等、優先順位に応じた搬送も可能となる。
［００２９］
本発明によるカセット搬送システムの１３の態様は、前記第１２の態様のカセット搬送システムにおいて、前記搬送路上のいずれかに、前記カセットを載置して昇降させるための昇降装置を備え、該昇降装置は、前記カセットを載置する載置台に前記浮上装置を備えることを特徴とする。浮上装置を備える昇降手段を設けることにより、カセットを振動させることなく、載置台上から持ち上げ、または下ろすことができる。
［００３０］
［００３１］
［発明の効果］
［００３２］
本発明のカセット搬送システムでは、カセットを浮上させて移動させるため、横方向へカセットを移動させる際の摩擦による負荷を無くすることができ、横方向への駆動出力を小さくすることができる。
［００３３］
また、本発明のカセット搬送システムでは、カセットの底面全体に気体を吹き付け、またはカセットの底面全体から気体を噴出することによりカセットを浮上させるので、カセットの底面全体でカセットの荷重を受けることとなり、底面の一部に集中荷重がかからない。すなわち、浮上手段により底面全体を持ちあげるので、カセット自体が撓まない。そのため、リフトで持ちあげるのと異なり、重量のある大型カセットを蓋で密閉しても隙間ができる等の不具合が生じない。また、撓みを抑制するために、カセットの剛性を大きくする等の特別の設計を必要としない。
［００３４］
本願発明のカセット搬送システムでは、浮上手段により搬送路とカセットとを接触することなくカセットを移動させることができるため、摺動摩擦によるパーティクル等の塵埃の発生を抑制可能となる。
［００３５］
一方、移送アームを用いて水平方向の搬送移動を行う場合には、移送アームでカセットを常時保持しているので、外力による横方向への位置ずれを防止することができる。さらに、カセットの重量が重くなると移動に伴う慣性力が大きくなるが、移送アームでカセットをしっかり保持しているので、慣性力の正確な制御が可能になり、所望の位置へ正確に搬送し確実に停止させることが可能となる。これにより、ロードポートに重量のある大型カセットを正確に位置決めすることが可能となる。さらに、上述のように大型基板では特に振動の抑制が重要であるが、噴出気体による微少な振動をアームで保持することにより低減することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図２】図１のカセット搬送システムにおいてカセットを浮上させる浮上装置及びカセットの一例を示す縦断面図である。
【図３】図１のカセット搬送システムに備えるカセット移送装置を示す一部切り欠き斜視図である。
【図４】本発明のカセットの昇降手段を示す斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図６】本発明の第３の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図７】本発明の第４の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図８】図７に示すカセット搬送システムに使用する他の実施例にかかるカセット移送装置の搬送動作を示す側面図である。
【図９】図７に示すカセット搬送システムに使用する他の実施例にかかるカセット移送装置の搬送動作を示す側面図である。
【図１０】図７に示すカセット搬送システムのカセット移送装置により、昇降装置上にあるカセットを本線に搬送する手順を示すフローチャートを示す図である。
【図１１】カセットの向きを調整する本発明にかかるカセット回動機構を示す側面図である。
【図１２】本発明に係るカセット搬送システムのカセット保持手段の一例を示す一部切り欠き斜視図である。
【図１３】本発明にかかるカセット搬送システムの動作を制御する制御部の概略構成を示す機能ブロック図である。
【図１４】本発明の第５の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図１５】本発明の第６の実施形態にかかるカセット搬送システムを示す斜視図である。
【図１６】カセットから高圧気体を噴出して浮上するカセットに、高圧気体を供給するカセット移送アームのカセット保持部の構造を説明するための図である。
【図１７】カセット搬送システム、ミニエンバイロメント装置、及び処理装置の関係を示す斜視図である。ミニエンバイロメントの一部を切り欠いて内部に載置されている搬送ロボットを示している。
【図１８】カセットの蓋を開ける手順及び開閉機構の動きを、順を追って示すカセットとドア開閉機構の側面図であり、一部を切り欠き断面図として示している。
【図１９】図１８の開閉動作の続きを示すカセット及びドア開閉機構の断面図である。
【図２０】カセットの蓋及びミニエンバイロメント装置のドアを開ける手順を示すフローチャートである。
【図２１】底面から気体を噴出するカセットの底面部を、下からみた斜視図である。
【図２２】カセットに高圧気体を供給するカプラと、カプラを接続するカプラ受けを示す断面図である。
【図２３】カセットの下部に備える浮上手段を示す断面図である。
【図２４】図５のAーA’線断面図を図２４に示す
【図２５】カセットに高圧気体を供給するカセット保持部の他の実施形態にかかる構成を説明するための図である。
【図２６】カセット及びカセットの下部に設けられる浮上装置の他の実施形態を示す断面図である。
【図２７】カセットを浮上させた状態で停止させる構造を説明するための搬送路とカセットの断面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１ａ〜１ｆ 本発明の一実施形態にかかるカセット搬送システム
２ 基板
３，３ｅ カセット
４，４ｅ 搬送路
５ カセット移送装置
５ａ〜ｑ カセット移送アーム
６，６ｅ カセット浮上装置
７ 本線
８ 処理装置
９ａ，９ｂ 岐路
１０ 昇降装置
１１ 偏移機構
１２ 基板取り出し装置
１３ 圧縮ポンプ（コンプレッサ）
１４ 圧力調整室
１５ 天井部材
１６，１６ｅ 噴出口
１７ 圧力制御装置
１８ａ〜１８ｅ 水平駆動部
１９ａ，１９ｂ 可動部材
２０ａ、２０ｅ カセット保持部
２１ モータ
２２ ボールネジ軸
２３ 駆動モータ
２４ 第１アーム
２５ プーリ
２６ ベルト
２７ 動力伝達手段
２８ 第２アーム
３０ 基台
３１ 支持部材
３２ モータ
３３ ボールネジ軸
３４ 駆動手段
３５ 昇降台
３６ 胴体部
３７ 下アーム
３８ 上アーム
３９ 基板保持手段
４０ 棚段
４１ 最下段の棚段
４２ 最上段の棚段
４３、４３ｂ 第１カセット保持手段
４４ 保持用凹部
４４ａ 第１保持用凹部
４４ｂ 第２保持用凹部
４５ ピン用昇降装置
４６ カセット用ピン
４７ 第２カセット保持手段
４８ 基台昇降装置
４９ 基台
５０ モータ
５１ 載置台
５２ 位置決めピン
５３，５３ｅ 突出部材
５４ 突出部材駆動手段
５５ カプラ
５６ 電磁弁
５７ 配管
５８ ミニエンバイロメント装置
５９ ＦＦＵ
６０ グレーチング
６１ 処理装置用ドア
６２ ドア
６３ 開口部
６４ 蓋
６５ カセット本体部
６６ ドア昇降装置
６７ ラッチキー受け
６８ ラッチキー
６９ ドア昇降装置
７０ カプラ受け
７１ 配管
７２ 開口部
７３ 圧力センサ
７４ 弾性部材
７５ 弁部材
７６ 弁部材受け
７７ シール部材
７８ カプラ本体部
７９ カプラ受け本体部
８０ 可動弁部材
８１ 固定部材
８２ 凹部
８３ 横移動部
８４ 穴部
８５ カセット保持アーム
８６ コイル
８７ 永久磁石
８８ 吹き出し口
８９ 吸気口
９７ 排気口
９８ 永久磁石又は磁性体
９９ 停止コイル
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
図１は、本発明の一実施形態を示すカセット搬送システム１ａの一部切り欠き斜視図である。半導体製造工場においては、クリーンルーム内にこのようなカセット搬送システム１ａが配置されている。加工処理の対象となる基板２は、カセット内に収容された状態で搬送され、各処理装置に搬入される。このように、カセット内に収納して搬送するのは、クリーンルームの雰囲気よりも高い清浄環境に維持した状態で、基板を処理装置まで搬送するためである。カセット搬送システム１ａは、複数の基板２を収容したカセット３を搬送する搬送路４と、搬送路４の上にカセット３を浮上させる浮上装置６と、浮上しているカセット３を搬送路４に沿って移送するカセット移送装置５を備えている。カセット移送装置５は、搬送路４の両側に設けられた１対のカセット移送アーム（移送アーム）５ａ、５ｂ、５ｃが、搬送路４に沿って順次配設された構成となっている。
【００３９】
搬送路４の上側部に設けられている浮上装置６は、搬送路４の上面に設けられた多数の孔１６を備えており、該多数の孔１６から高圧空気または空気以外の清浄な高圧気体を上方向に噴出する。この気体の噴出圧により、カセット３を搬送路４の上に僅かに浮上させる。図１では、比較的長い本線４（７）と、この本線４（７）から各種処理装置８へ向かう岐路９（９ａ、９ｂ）とにより構成されている。符号４（７）中、４は搬送路を表し、（７）はその搬送路４が本線であることを表している。符号４（９）の数字（９）は搬送路４が岐路であることを表している。岐路（９）は、岐路の位置に応じて符号４（９ａ）、４（９ｂ）の符号が付されている。
【００４０】
岐路４（９ａ）、４（９ｂ）の端部には、カセット３を昇降させる昇降装置１０と、昇降装置１０上に設けられた偏移機構１１が設けられている。偏移機構１１はカセット３を載置した状態で垂直軸を中心に回転可能であり、カセット３の向きを変えるための機構である。さらに、図１の岐路４（９ａ）と岐路４（９ｂ）の間には、基板取出し装置１２が配置されている。基板取出し装置１２は、各岐路４（９ａ）又は４（９ｂ）の終端位置上まで搬送されたカセット３から基板２を取り出して、図中破線で示す処理装置８の内部へ挿入（搬入）し、または、処理の完了した基板２を処理装置８の内部から取り出してカセット３の中に収納する。
［００４１］
カセット移送装置５は、一対のカセット移送アーム（移送アーム）５ａ、５ｂ、５ｃによりカセット３の両側部を保持した状態で、一対の移送アームが協働して同時に伸縮することにより、カセット３を次々と隣の移送アーム５ａ〜５ｃに順次受け渡すことにより、浮上しているカセット３を搬送路４に沿って水平方向に移動させる。
［００４２］
移送アーム５ａ〜５ｃは、それぞれ先端部分に突出部材５３を備えている。カセット移送装置５は、移送アーム５ａ〜５ｃの突出部材５３をカセット３の両側部に装着してカセット３を保持した状態で、同時に伸縮させることにより、浮上しているカセット３を希望する方向へ移動させる。
［００４３］
さらに、一部の移送アーム５ｂは、搬送路４の本線７に沿って該移送アーム５ｂを水平方向に移動させる一対の水平駆動部１８ａを備えている。水平駆動部１８ａによって、カセット３を保持した状態の移送アーム５ｂを搬送路本線４（７）に沿って移動させることにより、カセット３を他の移送アーム（例えば、５ｃ）に受け渡す位置まで円滑に長距離移動することができる。
［００４４］
図２は、搬送路４の一部を構成しており、下から高圧気体を噴き上げてカセットを浮上させる浮上装置６と、高圧気体により浮上した状態のカセット３の横断面を示す断面図である。浮上装置６は、圧縮部及び噴出部とから構成されており、圧縮部は圧縮ポンプ１３、及び圧力制御装置１７から構成され、噴出部は圧力調整室１４により構成されている。圧縮ポンプ１３は、圧力制御部の制御に基づいて、圧縮された高圧気体を圧力調整室１４へ供給する。圧力調整室１４の天井部材１５には多数の噴出口（孔）１６が設けられており、この噴出口１６を通して高圧気体を上方向に噴出する。このように高圧気体を上方に強く噴出してカセット３を搬送路４上に浮上させる。尚、圧縮ポンプ１３に代えて、高圧気体を一時的に収容貯蔵するボンベ（高圧気体貯蔵室）を設けてもよい。この場合、ボンベには外部に設けられた圧縮ポンプ１３から高圧気体が供給され、出力バルブ（図示せず）を開閉することにより、圧力調整室１４に送り込むべき高圧気体の量を調整する。このように、高圧気体を一時貯蔵室（ボンベ）に貯めてから噴出することにより、圧縮ポンプ１３の駆動を直接制御するよりも、高圧気体の噴出をより正確、迅速、かつ効率的に制御することが可能となるほか、安定した高圧気体の噴射制御が可能となる。
［００４５］
搬送路４は浮上装置６を比較的短い長さにモジュール化して複数個連続して配列することにより所望の長さの搬送路を形成することが好ましい（図示せず）。このように、モジュール化した独立の短い浮上装置６を連続して併設することにより、カセット３の移動位置に応じて、高圧気体を噴出する浮上装置６のモジュールを細かく切り換えることが可能となる。これにより、カセットが存在しないモジュールでは高圧気体の噴射を停止することができるので、高圧気体の効率的な使用が可能となる。
［００４６］
カセット搬送システム１ａは、カセット３を目的位置まで搬送するために、搬送動作全体を制御する制御装置を備えている。図１３に、制御装置の基本的な機能の一例を機能ブロック図として示す。制御装置９０は、中央演算装置（ＣＰＵ）、制御プログラム、論理回路等を備えた比較的高性能のコンピュータであることが望ましい。ここでは、制御装置９０の各種機能のうち、本発明の要旨である搬送制御のための中心的な機能だけを説明する。
［００４７］
制御装置９０は、外部コンピュータとの連携動作を可能にするための通信インタフェース９１、カセット搬送システム１ａ全体の動作を制御する主制御部９２と、カセット３を浮上させるための各浮上装置６の圧力制御部１７を制御する浮上制御部９３、複数の移送アーム５ａ〜５ｃを連携動作させてカセット３を目的位置まで搬送するよう制御する搬送制御部９４、カセット３の向きを調整するため偏移機構１１を制御する偏移制御部９５、及びカセットの蓋やミニエンパイロメント装置のドアを開閉するためのドア昇降機構６６等を制御する開閉制御部９６、基板取出し装置１２等のその他の各部を制御する各種制御手段（図示せず）を備えている。制御装置９０の浮上制御部９３及び搬送制御部は、搬送動作の制御においては、搬送システムにおける搬送制御装置として機能する。
［００４８］
尚、カセット搬送システム１ａは、浮上装置６、カセット移送装置５等に個別の動作状況を検知する各種センサを備えているほか、搬送路４に沿って搬送中のカセット３の位置を検出する位置センサ、その他の各種センサ郡が設けられている。これら各種センサ郡からの検知信号は、主制御部９２及び各種制御部９３〜９６にフィードバック信号として入力される。図１では、一つの制御装置９０内に偏移制御部９５、ドア開閉制御部９６等も含んでいるが、ドアの開閉制御及びカセットの向きを調整する偏移制御部９５は、各種処理装置ごとに独立して制御することが可能である。制御装置９０の制御処理を簡素化するためにも、ドアの開閉制御や偏移制御等の各処理装置周りの制御は、処理装置ごとに個別の制御装置を設けて制御する構成が望ましい。カセット３の向きの調整やドアの開閉の制御は、従来技術を適宜使用可能であるので、以下の説明では、浮上制御手段及び搬送制御手段についてのみ説明する。
【００４９】
制御装置９０の主制御部９２は、カセット３の移送先が指定されると、各個別制御部９３〜９６等に必要な制御情報を提供する。浮上制御部９３は、カセット３の搬送先まで、カセット３の現在位置に対応する浮上装置６を順次駆動する。すなわち、カセット３の存在する位置の前後の該当する各浮上装置６の高圧気体の圧力を監視し、カセットの位置にあわせて順次高圧気体を噴出させてカセット３を浮上させるよう圧力制御装置１７等を制御する。また、搬送制御部９４は、カセット３の位置に対応するカセット移送部５によりカセット３を保持し、保持したカセット３を次の移送アーム５ａ〜５ｃに順次引き渡すことにより、カセット３を目的の位置まで搬送するように各移送アーム５ａ〜５ｃの動作を制御する。
【００５０】
次に、図３（ａ）〜（ｃ）を用いて、カセット３の搬送動作についてより具体的に説明する。図３（ａ）〜（ｃ）は、基板２を収納しているカセット３を搬送路本線４（７）に沿って運搬する一連の搬送動作を示す、一部切り欠き側面図である。カセット３内部に収納されている基板２および水平駆動部１８ａの構造を示すために、一部を断面図として示している。搬送路本線４（７）の両側面に配置された一対の移送アーム５ｂは水平駆動部１８ａに取り付けられている。水平駆動部１８ａは、移送アーム５ｂを搬送路４（７）に沿って移動させる。これにより、移送アーム５ｂは、搬送路４（７）に沿って、浮上しているカセット３を次の移送アーム５ｃ（図３には図示せず）に受け渡す場所まで水平に移動させる。
【００５１】
前述したように、移送アーム５ｂはその先端にカセット３を保持するためのカセット保持部２０ａを備えている（図３（ｃ）参照）。移送アーム５ａ〜５ｃは、カセット保持部２０ａに設けられた突出部材５３を、カセットの側部に設けられた保持用凹部４４（図１、図２参照）に挿入することにより、カセット３の両側面を保持する。尚、図３では、移送アーム５ｂを用いてその動作を説明するが、移送アーム５ａ〜５ｃの構成および動作は、すべて同様である。
【００５２】
図３（ａ）〜（ｃ）を説明する前に、移送アーム５ａ〜５ｃの先端に設けられたカセット保持部２０ａ及び突出部材５３の一例を、図１２を用いて説明する。図１２は、移送アーム５ａ〜５ｃの先端に設けられたカセット保持部２０ａを示す一部切り欠き斜視図である。カセット保持部２０ａは、移送アーム５ａ〜５ｃの先端の内部に設けられた突出部材５３と、該突出部材５３を駆動するエアシリンダ等のような突出部材駆動部５４とを備えている。突出部材駆動部５４は、空気等の気体を供給することにより突出部材５３を外側（図中白抜きの矢印方向）に突出させ、または退避させることができる。突出部材５３が突出することにより、突出部材５３がカセット３の保持用凹部４４に挿入される（突出部材５３の突出した状態を破線により示す）。これにより、カセット３の両側部に設けられた保持用凹部４４に、カセット保持部２０ａの突出部材５３が挿入係合されて、カセット３が確実に保持される。
【００５３】
再び図３に戻り、搬送路本線４（７）におけるカセット３の搬送について説明する。図３（ａ）は、移送アーム５ｂが搬送路本線４（７）の左端の位置においてカセット３を保持している状態を示している。移送アーム５ａ〜５ｃは、第１アーム２４と第２アーム２８（図３（ｃ））により構成されている。カセット保持部２０ａは、第２アーム２８の先端に設けられており、第２アームの先端に設けられた突出部材５３がカセット３の保持用凹部４４（図２参照）に挿入されることにより、カセット３は移送アーム５ｂのカセット保持部２０ａ（図１２参照）により保持された状態となる。
【００５４】
図３（ｂ）は、カセット３を保持した移送アーム５ｂを、水平駆動部１８ａにより、図３（ａ）に示す搬送路本線４（７）の左端の位置から、搬送路本線４（７）の右端に移動させた状態を示す。水平駆動部１８ａは水平移送モータ２１を回転駆動することによりボールネジ軸２２を回転させて、水平可動部材１９ａを矢印方向に直線移動させる。水平可働部材１９a上には、移送アーム５ｂが固定されている。これにより移送アーム５ｂがカセット３を保持したまま、図３（ｂ）の位置まで移動する。
【００５５】
図３（ｃ）は、第１アーム２４内に設けられているアーム駆動モータ２３を駆動させて移送アーム５ｂを伸ばし、カセット３をさらに右方向の岐路９ｂ（図中、破線のハッチングにより４（９ｂ）として示す）までへ移動させた状態を示している。移送アーム５ｂは、前述の通り第１アーム２４及び第２アーム２８により構成されており、第２アーム２８の先端にカセット保持手段２０ａが設けられている。第１アーム２４内には、アーム駆動モータ２３の動力を伝達するプーリ２５とベルト２６からなる動力伝達手段２７を備えており、この動力伝達手段２７を介して第２アーム２８を回動させることにより第１アーム２４及び第２アーム２８は屈伸動作する。この屈伸動作により、移送アーム５ｂは最大第１アーム２４と第２アームの長さだけ伸びることができ、これによりカセット３をさらに水平移動させることが可能となる。
【００５６】
図４は、カセット搬送システム１ａに備えられる昇降装置１０及び基板取り出し装置１２の一例を示す側面図である。基板取り出し装置１２は、カセット３内に収納された基板２を取り出して処理装置８（図１参照）内に挿入し、または処理の完了した基板を処理装置から取り出してカセット３内に収納する装置であり、昇降装置１０は、基板取り出し装置１２によって基板２を取り出すために、カセット３を載置した台を昇降させてカセット３の高さを調整する装置である。
【００５７】
昇降装置１０は、底面に設けられた基台３０の両端に、クロスして設けられた２つの支持部材３１を備えている。支持部材３１は、中央でクロスした状態で軸支されて回動可能に連結されており、片方の支持部材３１が水平移動可能に昇降駆動部３４に接続されている。昇降駆動部３４は、モータ３２とボールネジ軸３３とを備えており、モータ３２が回転することによりボールネジ軸３３が図４において左右方向に直線的に移動する。ボールネジ軸３３が左右に移動することにより、接続されている支持部材３１の下端を左右に移動させる。支持部材３１の下端が左右に移動すると、１対の支持部材３１は、クロスしている回動軸を中心に屈伸し、上部に備える昇降台３５が上下に昇降する。
【００５８】
昇降装置１０の隣には、基板取り出し装置１２が設けられている。基板取り出し装置１２は、カセット３から基板２を取り出して処理装置８（図１参照）に搬入し、または処理装置８から加工処理済みの基板２を取り出してカセット３内に収納する。基板取り出し装置１２は、胴体部３６の上の水平面内で回動可能である下アーム３７と、下アーム３７の上面において回動可能である上アーム３８と、上アーム３８の上面に回動可能に支承されている基板保持アーム３９を備えている。
【００５９】
基板取り出し装置１２よりカセット３内の基板２を各処理装置８へと搬送する手順を説明する。まず、図４（ａ）に示すように、上アーム３８上に支承されている基板保持アーム３９を直線運動させることにより、カセット３の棚段４０上に載置されている基板２の下方に基板保持アーム３９の先端を挿入（移動）する。次に昇降装置１０を降下させて、基板保持アーム３９により基板２が支持されるまでカセット３を下げる。基板保持アーム３９により基板２が支持された状態で、基板支持アーム３９をカセット３から引き出すことにより、基板２をカセット３から取り出して、処理装置８（図１参照）へ搬送する。
【００６０】
このように、基板取り出し装置の動作と連動させて、昇降装置１０を上下動させることにより、カセット３内の基板を取出す。昇降装置１０を上下動させてカセット３を上下動させることにより、基板保持アーム３９の上面（位置Ｓで示す）が、カセット３の最下段から最上段の範囲をカバーできれば、基板取り出し装置３６を上下動させることなく、カセット３内に収納されている基板２をすべて取り出すことが可能となる。図４（ｂ）は昇降装置１０を最も低い位置まで降下させた状態を示す図である。
【００６１】
図５に、第２の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｂを示し、そのAーA’線断面図を図２４に示す。尚、第１の実施形態と共通する部分は、第２の実施形態においても同じ番号を使用する。第１の実施形態にかかるカセット搬送システム１ａでは、屈曲動作可能な２つのアーム２４，２８からなる移送アーム５ａ〜５ｃの第２アーム２８の先端にカセット保持部２０ａを備えているのに対して、本実施形態のカセット搬送システム１ｂでは、一部の移送アーム５ｄ、５ｅが、水平可動部材１９ｂで構成されている。図２４に示すように、水平可動部材１９ｂの上部先端にはカセット保持部２０ａが設けられており、他端は水平駆動部のボールネジ軸２２に接続されている。これにより、ボールネジ軸が回転駆動されることにより、水平可動部材１９ｂは水平方向に移動して、カセット３を搬送する。
【００６２】
図６に第３の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｃを示す。図５と同様に、第１及び第２の実施形態と共通する部分は、第３の実施形態においても同じ番号を使用する（以下の実施形態においても同じ）。図５のカセット搬送システム１ｂでは、少なくとも岐路４（９）においては、第１アーム２４、第２アーム２８を備える移送アーム５ａ、５ｃを備えているのに対して、このカセット移送システム１ｃでは、第１、第２アームを備える移送アーム５ａ、５ｃが存在していない。代わりに、移送アーム５ｅ、５ｆが設けられている。この移送アーム５ｅ、５ｆは、カセットを本線４（７）に受け渡すために本線側に伸びるカセット保持アーム８５を備えている。
なお、移送アーム５ｅ、５ｆを岐路４（９ａ）、４（９ｂ）に沿って移動させる水平駆動部１８ｃ、１８ｄは、岐路４（９ａ）、４（９ｂ）の側部下方に設けられている。
【００６３】
図７に第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｄを示す。第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｄにおいては、各移送アーム５ｊ、５ｋは、カセット保持アーム８６の両端にそれぞれ第１のカセット保持部４３、第２のカセット保持部４７を備えている点で異なっている。このように、左右に伸びるカセット保持アーム８６の両端に第１、第２のカセット保持部４３、４７を設けて、搬送路上で左右の第１、第２のカセット保持部４３、４７でカセット３を持ち替えることにより、移送アーム５ｊ、５ｋの水平方向の移動距離を、図６の移送アーム５ｅ、５ｆを使用する場合に比べて短くすることができる。
【００６４】
図６の岐路４（９ｂ）に設けられている移送アーム５ｆと比較して説明する。図６の実施形態では、岐路４（９ｂ）の側部に設けられている水平駆動部１８ｄが、カセット３の昇降装置１０の側部まで伸びている。図７の実施形態では、水平駆動部１８ｅは昇降装置１０の側部にまでは伸びておらず、図６の水平駆動部１８ｄに比べて水平移動距離が短い。これは、図６の実施形態では、移送アーム５ｆが、カセット３を持ち帰ることなくそのまま移送アーム５ｄへと受け渡すため、移送アーム５ｆは、カセット３の特定の保持用凹部４４を把持するのに対して、図７の移送アーム５ｊでは、カセット３を搬送路上に一旦載置し、カセット３を左右のカセット保持部４３，４７で持ち替えて搬送するという搬送方法の違いにより生じるものである。このため、図７の実施形態の場合、図６の実施形態の持ち替えなしで受け渡す方法をそのまま採用した場合に比べて、水平駆動部１８ｅの水平駆動距離を短くすることができる。
【００６５】
図７乃至図１０を用いて、第４の実施形態において、昇降装置１０上にあるカセット３を、搬送路４の岐路９ｃを経由して、搬送路４の本線７上の位置Ｆまで搬送する搬送手順を、より詳しく説明する。図８及び図９は、昇降装置１０、搬送路４及び水平駆動部１８ｅの側面部分を表す断面図であり、カセット３が移送アーム５ｊにより昇降装置１０から搬送路４の岐路９ｃを経由して本線７の上まで搬送される状態を示している。図１０は、カセット３が移送アーム５ｊにより昇降装置１０から本線７まで搬送される手順を示すフローチャートである。
【００６６】
図１０のフローチャートに従って説明する。まず、図８（ａ）に示すように、岐路４（９ｃ）左端の位置Ａに移送アーム５ｊを移動する（Ｓ１０１）。次に、昇降装置１０上のカセット３の下部に設けられている第１の保持用凹部４４ａに、第１のカセット保持部４３を挿入する（Ｓ１０２）。その後、水平駆動部１８ｅを駆動させて、カセット３を図８ｂに示す位置Ｂへと右方向に移動する。次に、ピン昇降装置４５によりカセット用ピン４６を上昇させる（Ｓ１０４）。カセット３がピン４６で支えられることにより図８ｃに示す所定の位置に係止されると、第１のカセット保持部４３による保持を解除する（Ｓ１０５）。
【００６７】
その後、図９（ａ）に示すように、移送アーム５ｊを左側の位置Ｃに移動して（Ｓ１０６）、第２の保持用凹部４４ｂに反対側の第２のカセット保持部４７を挿入してカセット３を保持する（Ｓ１０７）。カセット３を保持したら、図９（ｂ）に示すように、カセット３を係止していたカセット用ピン４６を降下させる（Ｓ１０８）。次に図９（ｃ）に示すように、本線４（７）上の移送アーム５ｋがカセット３を保持できる位置Ｄまで、移送アーム５ｊをさらに右に移動させる（Ｓ１０９）。同時に、移送アーム５ｋを、第１のカセット保持部４３によりカセット３を保持できる位置Ｅ（図７参照）に移動し（Ｓ１１０）、移送アーム５ｋの第１のカセット保持部４３によりカセット３を保持する（Ｓ１１１）。その後、移送アーム５ｊの第２のカセット保持部４７によるカセット３の保持を解除して（Ｓ１１２）、移送アーム５ｊを待機位置（例えば、位置Ｃ）まで移動させる（Ｓ１１３）。カセット３は、移送アーム５ｋにより本線７上の位置Ｆまで搬送される。
【００６８】
図７乃至図９に示す例では、移送アーム５ｊの第２カセット保持手段４７と移送アーム５ｋの第一カセット保持手段４３とが衝突しないように、カセット保持手段の高さをずらしてある。これに合わせて、高さの異なるいずれの移送アームのカセット保持手段によってもカセット３を保持できるように、カセット３の下部に設けられている保持用凹部４４ａ、４４ｂは高さ方向に伸びる長い縦溝形状に形成されている。
【００６９】
図１１(ａ)は、昇降装置１０の昇降台３５内部に備える偏移機構１１の一例を示す断面図であり、図１１（ｂ）はその斜視図である。偏移機構１１は、カセット３の向きを変えるための機構であり、昇降台３５の内部に設けられた上下可動基台４９上と、昇降台３５の中心部を軸にして回転可能なリング形状の載置台５１を備えている。載置台５１は、可動基台４９に固定されたモータ５０により回転駆動される。上下可動基台４９は、可動基台４９自身を僅かに上方へ持ち上げることのできるエアシリンダ等の基台昇降装置４８により支持されている。基台持ち上げ装置４８によりリング形状の載置台５１を持ち上げることにより、載置台５１が昇降台３５から上方に突出し、その上にカセット３を載置することができる。この状態で載置台５１を回転させることにより、カセット３の向きを希望する方向に偏移させることができる。
【００７０】
載置台５１の上面には、カセット３の下側縁部と当接してカセット３を所定の位置に位置決めするための位置決めピン５２を備える。位置決めピン５２は、ほぼ円錐形状をしており、カセット底面の所定の位置に設けられた穴に位置決めピン５２落とし込み、カセットの位置決めを行う。そのため、位置決めピン５２の上面及び側面には、カセット３が当接した際に滑りやすくなるような表面加工が施されている。また、偏移機構１１は、コンプレッサ（圧縮ポンプ）１３と圧力調整室１４を備えており、天井部材１４に設けられた孔１６から高圧気体を噴出して、カセット３を浮上させる。
【００７１】
図１１（ｂ）を参照して偏移機構１１によりカセット３の向きを調整する動作を説明する。浮上しているカセット３を、カセット搬送ロボットにより昇降装置１０上に移動させた後、エアシリンダ４８等の基台昇降装置４８を作動させて位置決めピン５２を上昇させる。その後コンプレッサ１３を停止することにより、カセット３（破線で示す）を昇降装置１０の載置台５１上に下ろす。このとき、基台昇降装置４８により載置台５１は上昇しているので、載置台５１の上面は、天井部材１５の上面より高い位置となっている。従って、モータ５０を作動して載置台５１の上に載置したカセット３を回動することができる。
【００７２】
このように、カセット３を搬送路上等に載置する際に、カセット３を浮上させた状態のままピン４６を上昇して、カセット３を保持することが可能となるので、載置に伴う震動を抑制することができ、大型基板の振動による破損を防止することができる。
【００７３】
図１４に本発明の第５の実施形態にかかるカセット搬送システム１eを示す。第５の実施形態は、カセット３を浮上させる機構が大きく異なる。第１の実施形態乃至第４の実施形態のカセット搬送システム１ａ乃至１ｄが搬送路４の上面に浮上装置６を備えるのに対して、第５の実施形態では、浮上装置６ｅをカセット３ｅの下部に備える点で異なっている。このように第５の実施形態では、第１乃至第４の実施形態とは、カセット及び浮上装置等の構造が異なるので、この構造のカセット及び浮上装置等の各部の番号には“３ｅ”、“６ｅ”のように、数字の後ろに“ｅ”を付して、第１乃至第４のカセット３とは区別して表す。
【００７４】
このカセット搬送システム１eに備える移送アーム５ｍ〜５ｐは、カセット保持手段２０ｅの突出部材５３ｅがカセット３ｅを保持した際に、浮上装置６ｅに気体を供給するコネクタとなるカプラ５５（図１６参照）を備える。カセット保持部２０ｅについては、図１６を用いて後ほど説明する。また、カセット３ｅの下側部には、カセット保持部２０ｅの突出部材５３ｅと当接する凹形状の保持用凹部４４ｅを備えている。
【００７５】
尚、図１４のカセット搬送システム１eは、図１のカセット３及び搬送路４を、浮上装置６ｅを備えるカセット３ｅ及び天井部材に孔１６の無い搬送路４ｅに置き換えたものである。同様に、第２乃至第４の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｂ乃至１ｄの搬送路４及びカセット３を、第５の搬送路４ｅ及びカセット３ｅに置き換えることも可能である。
【００７６】
図１５に第６の実施形態にかかるカセット搬送システム１ｆを示す。第６の実施形態では、図１４に示すカセット搬送システム１eの搬送路本線４ｅ（７）の移送アーム５ｎに比べて、カセット搬送ロボット５ｑのアームが長く、かつ、図１４のような水平駆動部１８ａを備えていない点で異なる。すなわち、図１５に示すように、移送アーム５ｐの長いアームを伸縮することにより、遠距離までカセットを搬送することができるので、水平駆動部１８ａを不要としたものである。このような長いアームを備える移送アーム５ｑは、既に説明したすべての実施形態の搬送路本線４（７）について使用することができる。
【００７７】
図１６は、第５及び第６の実施形態にかかる移送アーム５ｍ〜５ｑのカセット保持手段２０ｅの構造の一例を示す断面図である。以下の説明では、図１４の移送アーム５ｎのカセット保持手段２０ｅを用いて説明する。移送アームの第２アーム２８の先端付近に、カセット保持手段２０ｅが設けられる。カセット保持手段２０ｅは、カセット３ｅに接合する突出部材５３ｅ、及び突出部材５３ｅをカセット３ｅの保持用凹部４４ｅに向かって突出させる駆動手段であるエアシリンダ４８ｅを備えている。
【００７８】
エアシリンダ４８ｅは電磁弁５６ａにより駆動され、電磁弁５６ａを開放することにより電磁弁５６ａ及び配管５７ａを介して圧縮ポンプ（コンプレッサ）１３から高圧気体が供給される。エアシリンダ４８ｅが駆動されると、突出部材５３ｅはカセット３の保持用凹部４４ｅ（図中白抜きの矢印方向）に向かって直線駆動し、これにより突出部材５３ｅを保持用凹部４４ｅに挿入し接続する。カセット３ｅの保持用凹部４４ｅには、カプラ５５と当接する際にカプラ５５と係合するカプラ受け７０を備えている。
【００７９】
突出部材５３ｅの先端には、カセット３ｅの浮上装置６ｅへと気体を供給するカプラ５５を備えている。このカプラ５５には、配管５７ｂが接続されており、配管５７ｂには他の電磁弁５６ｂを介して圧縮ポンプ１３から高圧気体が供給される。
【００８０】
カセット３ｅの保持用凹部４４ｅにはカプラ受け７０が設けられており、突出部材５３ｅのカプラ５５がカプラ受け７０に接続される。なお、図中の破線は、突出部材５３ｅ及びカプラ５５が保持用凹部４４ｅに接続された状態を示している。カプラ受け７０より供給された高圧気体は、浮上装置６ｅの圧力調整室１４ｅへと送られ（図２１（ａ）参照）、圧力調整室１４ｅの底部材に有する噴出口から平板状の搬送路４ｅに向かって噴出される。これにより、カセット３ｅを浮上させることができる。なお、カプラ５５とカプラ受け７０については、公知の技術を使用することができる。
【００８１】
配管５７ｂの途中には、圧力センサ７３を設けることが望ましい。カセット保持手段２０ｅがカセット３ｅを保持し損ねたことによりカプラ５５がカプラ受け７０に正しく接続されない場合には、高圧気体がカプラ受け７０の配管７１へ流れず漏れが生じて圧力が低下する。この圧力低下を圧力センサ７３で検知することにより、カプラ５５が適切に接続されているか否かを判定することが可能となる。
【００８２】
また、図２５に示すように、突出部材５３ｅの先端円周部分にコイル８６を設け、カセット３ｅに永久磁石（コイルでも良い）８７を設けることも可能である。図２５は、第５及び第６の実施形態にかかる移送アーム５ｍ〜５ｑの他の実施形態にかかるカセット保持部２０ｅの構造の一例を示す断面図である。この構成により、突出部材５３ｅを突出させてカプラ５５を装着したときに、コイル８６に電流を流すことにより、コイル８６と永久磁石８７とが密着して、移送アームによりカセット３ｅを強固に保持することができ、微細な位置ずれを防止することができる。
【００８３】
図１７に、基板取り出し装置１２を内部に備えるミニエンバイロメント装置（高清浄環境維持装置）５８の一例を示す。基板取り出し装置１２は、カセット３ｅ（カセット３の場合も同様である）から基板２を取出し、ミニエンバイロメント装置５８内を経由して処理装置８へと搬送する。ミニエンバイロメント装置５８は、内部雰囲気を高清浄な状態に保つために外部雰囲気と隔離された密封された構造体となっている。ミニエンバイロメント装置５８の上部には、清浄な気体を装置内部に供給するためのＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）５９を備えており、ミニエンバイロメント装置５８の上部のＦＦＵ５９からグレーチング（複数の穴を有する床）６０へと清浄な気体を流している。
【００８４】
このミニエンバイロメント装置５８は、処理装置８及び搬送路４ｅ（９ａ、９ｂ）との間に設けられ、処理装置８の方に処理装置用ドア６１を備え、搬送路４ｅ（９ａ、９ｂ）側に載置台用ドア６２を備えている。なお、カセット３ｅは、１つの側面に開口部６３（図１９参照）を備え、この開口部６３を蓋６４で密閉することによりカセット内部を清浄に保ち、内部に基板を収容する収容具である。
【００８５】
なお、基板取り出し装置１２は横移動部８３により横方向に移動可能であり、カセット３ｅの載置された位置に応じて横方向の位置を調整可能である。この横移動部８３は、既に説明したカセット搬送ロボット５を搬送路４（７）に沿って直線移動させる水平駆動部１８ａと同じようなボールネジ軸等を回転させる機構等を用いることにより実施することが可能である。
【００８６】
図１８及び図１９は、カセット３ｅを図１７に示す搬送路岐路４ｅ（９ｂ）の載置台上に載置し、カセット３ｅの蓋６４及び載置台側ドア６２を開放する際のカセット３ｅの蓋６４及び載置台側ドア６４の構造及び動きを示す側面図である。図１８（ａ）→図１８（ｂ）→図１９（ａ）→図１９（ｂ）という順序でカセット３ｅの蓋６４が取り外される。
【００８７】
図２０は、カセット３ｅ内の基板２をミニエンバイロメント装置５８に搬送する手順の一例を示すフローチャートである。以下図１８乃至図２０を参照して、カセット３ｅから基板２を取出す手順を説明する。
【００８８】
搬送路４ｅの岐路９ｂ上で浮上しているカセット３ｅは、図１８（ａ）に示すように、移送アーム５ｐのカセット保持部２０ｅにより保持されている。移送アーム５ｐは、カセット３ｅを所定の位置に載置するため、アームを伸ばし、カセット３ｅを所定の位置まで移動（前進）させる（Ｓ２０１）。尚、図１８、図１９の符号６７は、カセット３の蓋６４を開錠するためのラッチキー受けであり、符号６８は載置台側ドア６４に設けられているラッチキーである。ラッチキー６８は、ラッチキー受け６７に挿入されて蓋６４を開錠する。
【００８９】
カセット３を図１８ｂに示す載置台側ドア６２と蓋６４とが当接する所定の位置まで移動させると、移送アーム５ｐはアームの動きを停止させる（Ｓ２０２）。このとき、ラッチキー６８は、蓋６４のラッチキー受け６７に挿入されている。この後、ラッチキー６８を回転させることにより、載置台側ドア６２と蓋６４とを合体させる（Ｓ２０３）。
【００９０】
この後、図１９（ａ）に示すように、移送アーム５ｐによりカセット３ｅを僅かに後退させることにより、カセット本体部６５から蓋６４を取り外す（Ｓ２０４）。
【００９１】
次に、図１９（ｂ）に示すように、蓋６４と載置台側ドア６２を合体した状態のまま、ドア昇降装置６６を作動させて、下方の空間にドア６２を下降させることにより、ミニエンバイロメント装置５８の内部とカセット３ｅ内部とを連通させる（Ｓ２０５）。なお、ドア昇降装置６６は、エアシリンダ、モータとボールネジ軸、直動軸受け等の組合せにより昇降動作を行うよう構成することができる。次に、カセット本体部６５をさらにミニエンバイロメント装置５８の内部方向へ移動させ、基板受け渡しのための所定の位置（図１９ｂの位置）で停止する（Ｓ２０６）。
【００９２】
本願発明のミニエンバイロメント装置５８では、カセット３ｅとミニエンバイロメント装置５８の開口部７２との間には２ｍｍから１０ｍｍ（望ましくは５ｍｍ）程度の隙間を有している。しかし、本願発明のミニエンバイロメント装置５８の内部圧力を外部より高くしていることから、その隙間には内部から外部への気流（図中白抜き矢印）が生じている。これにより外部の清浄度が低く若しくは塵埃を含む空気をミニエンバイロメント装置５８内部に流入することを防ぐことができる。また、この気流の流量が充分でないと塵埃を含む外気を内部に巻き込む気流が生じて、装置内部に汚染を生じさせるおそれがある。前述の工程Ｓ２０６においてカセット３を前進移動したのは、カセット３ｅをミニエンバイロメント装置５８の内部側に移動することで、前述の隙間付近の塵埃を含む外気からの気流の影響を受けにくくするためである。また、このように奥に移動することで、装置内部から隙間に向かう気流により、カセット３内部を循環して下方へ向かう気流が生じやすく、これによりカセット３内部を高清浄に保つことができる。
【００９３】
尚、前述の例では、カセット本体部６５を僅かに後退させることによりカセット本体部６５から蓋６４を取り外していたのに対して、載置台側ドア６２を内部に移動することでも可能である。しかし、この方法は、高清浄な領域に、塵埃が付着した蓋６４を持ち込むこととなり、装置内部に汚染が生じるおそれがあることに留意する必要がある。
【００９４】
図２１は、浮上装置６ｅを備えるカセット３ｅを、底部方向からみた斜視図である。図２１（ａ）に示す符号６５はカセット本体部であり、通常は蓋６４により密封されている。カセット本体部６５の内部の図示しない棚段上に、複数の基板２が所定の間隔を空けて収納される。カセット本体部６５の下部に浮上装置６ｅが設けられている。浮上装置６ｅは、圧縮された高圧気体を供給するカプラ５５を接続するためのカプラ受け７０と、４つの圧力調整室１４ｅと、高圧気体を４つの圧力調整室１４ｅへ送るカセット配管７１とを備えている。圧力調整室１４ｅの底部には多数の噴出孔１６ｅがあり、カセット３ｅの裏面の噴出口１６ｅから高圧気体を下方に噴出することでカセット３を浮上させるものである。
【００９５】
圧力調整室１４ｅは１つであっても良いが、搬送路４上に凹凸のうねりがあって平面状でない場合等に、噴出口１６ｅと搬送路面との距離（隙間）の差により気体の噴出にムラが生じ。距離の短い箇所ではカセット３裏面が搬送路４ｅを擦るおそれが生じる。このような可能性をできるだけ少なくするため、本実施形態では圧力調整室１４ｅを４つに分割して、安定した状態で気体を噴出できるようにした。尚、圧力調整室１４ｅにさらに細かく分割することや、２個または３個の圧力調整室に分割することも可能である。
【００９６】
図２１（ｂ）に、他の実施形態にかかるカセット３ｆを示す。このカセット３ｆの浮上装置６ｆでは、圧力調整室１４ｆの形状が天井部を有する大きな円筒形となっており、カセット３ｆの底部側は開放された形状となっている。その他、カプラ５５等は図２１（ｂ）と同様である。
【００９７】
図２２は、カプラ５５とカプラ受け７０の一例を示す断面図である。図示しないポンプより気体を供給する供給部の先端部には浮上装置６ｅ、６ｆと接続するためのカプラ５５が設けられている。図２２（ａ）は、カプラ５５とカプラ受け７０が当接する前の状態を示す。このカプラ５５を、浮上装置６ｅ，６ｆに設けられるカプラ受け７０に挿入することにより、両者は接続される。図２２（ｂ）は、図２２（ｂ）の状態からカプラ５５を少し移動して、カプラ５５をカプラ受け７０に当接した状態を示している。カプラ５５の内部には横方向に押圧する弾性部材７４を介して設けられた弁部材７５を備えている。弁部材７５の外周にはシール部材７７を備えており、弁部材７５がカプラ受け７０本体の内壁に固設された弁部材受け７６と当接したときに、カプラ５５から気体が漏れるのを防止している。
【００９８】
図２２Ｃは、カプラ５５をカプラ受け７０内にさらに挿入して、完全に接続された状態を示している。カプラ本体部７８と弁部材７５との間にある弾性部材７４を押し縮めるともに、カプラ本体部７８は、カプラ受け本体部７９の内壁とその内壁に当接する可動弁部材８０の間に備える弾性部材７４を押し縮めることで、カプラ５５とカプラ受け７０と連通可能に連結することができる。
【００９９】
図２２（ａ）を参照してカプラ５５について以下に説明する。カプラ本体部７８は配管５７を通って供給される高圧気体を外部へ排出するためのものである。弁部材７５は、カプラ５５をカプラ受け７０に結合されていない状態のときに、カプラ本体７５から気体を放出させないようにするための弁である。カプラ本体部７８は、内部が有底筒状となっており、高圧気体を配送するための配管５７が取り付けられている。弁部材７５は、その一端が、弾性部材７４ａにより前方向に押圧された状態で、カプラ本体部７８の内部に取り付けられている。これにより、弁部材７５の先端が、該カプラ本体部７８の開口部に押圧されて配管５７の出口部分を塞ぎ、弁の役割を果たしている。なお、カプラ５５が結合されていない状態においては、弁部材７５とカプラ本体部７８とは、弁部材７５に取り付けられてシール部材７７ａにより気密性が維持されている。
【０１００】
カプラ受け７０では、カプラ５５が挿入されたときに、可動弁部材８０が、カプラ受け本体部７９内部であって弁部材受け７６の外部を左右に移動可能な構成とすることで、弁の機能を果たしている。可動弁部材８０は弁部材受け７６に弾性部材７４ｂを介して、外側に押圧された状態で取り付けられている。これにより、カプラ５５が接続されていないときには可動弁部材８０は外側に押圧されてカプラ受け７０と弁部材受け７６との双方に当接しており、弁部材受け７６に取り付けられたシール部材７７ｂにより可動弁部材８０と弁部材受け７６の気密性を保っている。
【０１０１】
カプラ５５とカプラ受け７０が挿入されて、高圧気体が供給される状態を以下に説明する。図２２（ｂ）は、図２２（ａ）の状態から突出部材５３をカセット３側に少し移動して、カプラ本体部７８と可動弁部材８０の先端を当接させた状態を示している。カプラ本体部７８がカプラ受け本体部７９の内部に一部挿入された状態である。カプラ本体部７８の先端は凸形状をしており、可動弁部材８０の先端部は凹形状をしていることから、互いに嵌合する。
【０１０２】
なお、可動弁部材８０には、カプラ本体部７８と当接する箇所にはシール部材７７ｃが取り付けられており、これにより当接時における両者の当接部分の気密性を維持している。図２２（ｂ）において、可動弁部材７５と弁部材受け７６とは当接しているがこの時点ではカプラ本体部７８の内部と可動弁部材８０の内部とは連通していない（カプラ本体部７８の内部に備える弾性部材７４ａと、可動弁部材８０の内部に備える弾性部材７４ｂは共に図２２（ａ）で示す状態から縮んでおらず、変化していない）
【０１０３】
図２２（ｃ）は、突出部材５３がさらに奥に移動することにより、突出部材５３がカセット３ｅの保持用凹部４４ｅに挿入され、結合された状態を示している。カプラ本体部７８が、可動弁部材８０を左方に押し動かすことで、可動弁部材８０と弁部材受け７６との間に備える弾性部材７４ｂを押し縮めた状態となる。なお、可動弁部材８０と弁部材受け７６とは、弁部材受け７６の外側に設けられたシール部材７７ｄにより気密性が維持される。
【０１０４】
また、突出部材５３を奥に挿入する際に、弁部材受け７６の先端により弁部材７５が押圧されるので、弁部材７５とカプラ本体部７８との間に備える弾性部材７４ａが押し縮められた状態となる。これにより、弁部材７５及び可動弁部材８０の双方の弁機能が解放状態となり、配管５７から供給された気体は、カプラ本体７８の内部を通り、連通可能となった可動弁部材の内部（弁部材７５の外周及び弁部材受け７６の外周部分）を通り、弁部材受け８０に設けられた穴部８４を介して、弁部材８０の内部に備えられた配管７１へと流れることとなる。
【０１０５】
カプラ５５はカプラ受け７０に完全に挿入された際に、カプラ受け本体７９に備える固定部材８１が、カプラ本体７８の外側部に備える凹部８２に嵌り込むことでロックされる。これによりカプラ受け７０からカプラ５５を引き抜く方向に軽い力がかかっても容易に引き抜くことができない構造となっている。
カプラ５５からカプラ受け７０を外すときには、固定部材８１を凹部８２から外すことで容易に取り外せるように、固定部材８１は、電磁マグネット、弾性部材を用いた簡易のロック機構を備える構造としてもよい。
【０１０６】
図２３は、カセット３ｅ及びカセット３ｅの下部に設けられる浮上装置６ｅの一例を示す断面図である。この浮上装置６ｅは、圧縮ポンプ１３から移送アーム内の配管５７を介して流量ＱＡの高圧気体が供給される。
【０１０７】
今、カセット３ｅの下部に設けられた浮上手段６ｅの底面にあるｍ個の孔から流量ｑｎ（ｎ＝１，２，３…ｍ）の気体が噴出されるとすると、ｍ個の孔から均等に気体を噴出するには、ＱＡ≧ｑ１＋ｑ２＋ｑ３…＋ｑｎとなるようにポンプ、配管５７の径、孔の面積（ａ１＋ａ２＋ａ３…＋ａｎ）を選択する必要がある。なお、カセット３の下部から噴出する高圧気体による浮力Ｆは、気体密度ρ（空気：ρ＝１．２９２９［ｋｇ／ｃｍ３］）、流量Ｑ（ｑ１＋ｑ２＋ｑ３…＋ｑｎ［ｍ３／ｓ２］）、流速ｖ＝Ｑ／Ａ［ｍ／ｓ２］からＦ＝ρ×Ｑ×ｖ［ｋｇ・ｍ／ｓ２］で求めることができる。浮上装置６はカセット３の重量に応じた浮力を出力する必要がある。
【０１０８】
図２６は、カセット３ｅ及びカセット３ｅの下部に設けられる浮上装置の他の実施形態を示す断面図である。図２６に示すように、カセットを密封式にしなくとも、移送アームの先端２０ｅから、清浄な高圧気体の一部を減圧してカセット本体部６５内に送ることにより、基板収納スペース内を常に清浄に保つことができる。清浄な気体はカプラ５５を介してカセット本体部６５内の配管を通して清浄気体が吹き出し口８８から吹き出され、吸気口８９を通り排気口９７からカセット外部へ排出される。この際、左右の圧力調整室１４ｅの気圧が均一となるように、清浄な気体を左右双方の移送アームの先端２０ｅからカセット本体部６５内に供給し、カセット底部に排気口（図示せず）を設けるようにしてもよい。
【０１０９】
図２７は、カセットを浮上させた状態で停止させる構造を説明するための搬送路４とカセット３ｅの断面図である。カセット３ｅの底面に永久磁石９８を設け、搬送路の上面のカセット停止位置に電流を流すことにより磁界を発生させる停止コイル９９を設けることができる。これにより、カセット３ｅが停止位置を通過するときに停止コイル９９に電流を流して、永久磁石９８を磁力で引きつけて、カセット３ｅを浮上させた状態のまま停止状態に維持することが可能となる。カセット３ｅを浮上させたまま停止して、移送アームの受け渡しを行うことができ、受け渡し完了後停止状態から即座に移動を開始することが可能となる。停止アーム等のメカによる停止機構を設けることも可能であるが、停止機構が複雑で大がかりとなり、フットスペースも問題となる可能性がある。これに対して、永久磁石９８及び停止コイル９３によれば、構造が簡単であり低コストとなる。また、余分なフットスペースを必要としないという利点もある。尚、カセット３ｅの底部に永久磁石９８を設けると、鉄粉等のゴミを拾うおそれがあるので、永久磁石に代えて鉄等の磁性体９８とすることも可能である。この場合、軽い磁性体を採用することが望ましい。また、永久磁石又は磁性体９８をカセット３ｅの底部の側部に設け、停止コイル９３を搬送路の側壁に設けることも可能である。
【０１１０】
以上説明したように、本発明のカセット搬送システムでは、カセットを浮上して移動するため、カセットを横方向の駆動するための駆動出力を小さくすることができ、カセット搬送システムを小型化することが可能となる。また、本発明のカセット搬送システムでは、カセットの底面全体に気体を吹き付け、またはカセットの底面全体から気体を噴出することによりカセットを浮上させるので、カセットの底面全体でカセットの荷重を受けることとなり、底面の一部に集中荷重がかからない。すなわち、浮上手段により底面全体を持ちあげるので、カセット自体が撓まない。そのため、リフトで持ちあげるのと異なり、重量のある大型カセットを蓋で密閉しても隙間ができる等の不具合が生じない。また、撓みを抑制するために、カセットの剛性を大きくする等の特別の設計を必要としない。
【０１１１】
本願発明のカセット搬送システムでは、浮上手段により搬送路とカセットとを接触することなく移動することができるため、摺動摩擦によるパーティクル等の塵埃の発生を抑制可能となる。
【０１１２】
一方、移送アームを用いて水平方向の搬送移動を行う場合には、移送アームでカセットを常時保持しているので、外力による横方向への位置ずれを防止することができる。さらに、カセットの重量が重くなると移動に伴う慣性力が大きくなるが、移送アームでカセットをしっかり保持しているので、慣性力の正確な制御が可能になり、所望の位置へ正確に搬送し確実に停止させることが可能となる。これにより、ロードポートに重量のある大型カセットを正確に位置決めすることが可能となる。さらに、上述のように大型基板では特に振動の抑制が重要であるが、噴出気体による微少な振動をアームで保持することにより低減することが可能である。
【０１１３】
さらに移送アームでカセットを順次受け渡して運搬する場合、一つの搬送路上に複数のカセットを同時に搬送することも可能である。また、搬送路に岐路を設けることにより、緊急時にはカセットを岐路内または搬送路端に一時退避させることが可能となる。これにより、急を要するロットを処理するためには、使用中の生産ラインの一つを緊急ロット処理用のラインとして開放することも可能となる。
【０１１４】
本明細書は、２００５年４月２２日出願の特願２００５−１２５７６５および２００５年６月１７日出願の特願２００５−１７８６３０に基づく。この内容はすべてここに含めておく。
Claims (13)
- 清浄環境下において、内部に大型搬送対象物を収容する大型カセットを、所定の搬送路に沿って所望の位置に搬送するカセット搬送システムであって、
気体を圧縮して高圧気体を生成する圧縮部と、前記圧縮した高圧気体を複数の噴出口から噴出させる噴出部とを備え、高圧気体の噴出により前記カセットを前記搬送路上で浮上させる浮上装置と、
前記カセットを保持及び解放可能な少なくとも１個の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路上に沿って水平方向に移送するカセット移送装置と、
前記浮上装置による気体の噴出及び前記カセット移送装置による前記カセットの移送を制御して、前記カセットを目的位置に搬送する搬送制御装置と、
を備えるカセット搬送システム。 - 前記移送アームの少なくとも一つは、少なくとも２個のアーム部材がリンク結合されており、該２以上のアーム部材を該リンク結合部により屈伸駆動させることにより、前記移送アームの先端で保持した前記カセットを水平方向に移送することを特徴とする請求項１に記載のカセット搬送システム。
- 前記移送アームの少なくとも一つは、前記カセットを保持した状態で前記搬送路に沿って水平移動する水平移動部を備えることを特徴とする請求項１に記載のカセット搬送システム。
- 前記カセット移送装置の前記移送アームは、前記搬送路に沿って前記搬送路の両側部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のカセット搬送システム。
- 前記浮上装置は、前記噴出部が前記搬送路の上面に設けられ、該噴出部から上方に向かって高圧気体を噴出させることにより、該搬送路上に載置された前記カセットを浮上させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカセット搬送システム。
- 前記浮上装置は、前記噴出部が前記搬送路に沿って所定の単位で区割して配置され、該区割された単位毎に前記高圧気体を噴出可能に構成されており、
前記搬送制御装置は、前記搬送路上の前記カセットの移動位置にあわせて、前記浮上装置の高圧気体の噴出位置を順次切り替えるよう制御することを特徴とする請求項５に記載のカセット搬送システム。 - 前記カセット移送装置は、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で該移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする請求項５に記載のカセット搬送システム。
- 前記浮上装置の前記噴出部が前記カセットの下面に設けられ、該噴出部から前記搬送路に対して高圧気体を噴射することにより前記カセットを浮上させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカセット搬送システム。
- 前記浮上装置は、前記圧縮部から前記移送アーム内に設けられた配管及び前記カセットを保持するための保持部を介して前記カセットの下部に設けられた前記噴射部に高圧気体を供給することを特徴とする請求項８に記載のカセット搬送システム。
- 前記カセット移送装置は、前記搬送路に沿って複数の移送アームを備えており、浮上させた前記カセットを前記移送アームにより保持した状態で前記移送アームを前記搬送路に沿って水平方向に移動させて、隣接する他の前記移送アームに前記カセットを浮上させた状態のまま受け渡すことにより、前記カセットを目的位置まで移送することを特徴とする請求項９に記載のカセット搬送システム。
- 前記搬送制御装置は、前記移送アームによる前記カセットの受け渡しに応じて、前記圧縮部から前記高圧気体を供給する前記移送アームを順次切り替えるよう制御することを特徴とする請求項１０に記載のカセット搬送システム。
- 前記搬送路は、一つの本線と、前記本線から所定の角度で延在する岐路とを備え、前記本線及び岐路のそれぞれに前記移送アームを備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカセット搬送システム。
- 前記搬送路上のいずれかに、前記カセットを載置して昇降させるための昇降装置を備え、該昇降装置は、前記カセットを載置する載置台に前記浮上装置を備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカセット搬送システム。
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