JP4803422B2 - 窒化ホウ素系多孔体およびその製造方法 - Google Patents
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に関する。より詳細には、本発明は、大きな孔容積および比表面積を有する窒化ホウ素系多孔体、および、その製造方法に関する。
非特許文献1に記載される技術では、活性炭テンプレート置換反応が開示されている。詳細には、ホウ酸粉末をグラファイト製のるつぼに配置し、ホウ酸粉末を活性炭で覆う。次いで、窒素をフローしながら1580℃で45分保持し、ホウ素、炭素および窒素からなる中間生成物BxCyNzを得る。その後、大気中600℃30分間、さらに保持するこ
とによって、未反応の炭素が除去されるか、または、中間生成物BxCyNzから完全な窒
化ホウ素多孔体BNが得られる。
窒化ホウ素多孔体および炭窒化ホウ素多孔体)すべてを含むことに留意されたい。
ラスカーボンとホウ素源とを混合する工程と、前記混合する工程によって得られた混合物を、窒素雰囲気中、1300℃〜1800℃の温度で、30分〜60分間、加熱する工程とを包含し、これにより上記目的を達成する。
00℃〜1800℃の温度で、30分〜60分間、加熱し得る。
0℃〜1700℃の温度で、30分〜60分間、加熱し得る。
ラスカーボンとホウ素源と窒素源とを混合する工程と、前記混合する工程によって得られた混合物を、不活性雰囲気中、500℃〜1200℃の温度で、0.5時間〜12時間、加熱する工程とを包含し、これにより上記目的を達成する。
前記窒素源は、アミン類またはニトリル類の含窒素化合物であり得る。
0℃〜1000℃の温度で、6時間〜12時間、加熱し得る。
00℃〜1200℃の温度で、0.5時間〜6時間、加熱し得る。
定の孔径Dを有するように結合しており、前記所定の孔径Dは、2.5≦D(nm)≦5.0の範囲であり、これにより上記目的を達成する。
前記窒化ホウ素系多孔体の孔容積Vは、0.5≦V(cm3/g)≦0.9の範囲であ
り得る。
前記複数のロッドのそれぞれは、sp2結合をした炭素原子をさらに含み得る。
め、得られる窒化ホウ素系多孔体は、従来よりも大きな比表面積および孔容積を有することができる。
である。工程ごとに説明する。
00℃の温度(ここでは、1700℃以上1800℃以下の温度を意図する)で30分〜50分間加熱すればよい。混合物を上記加熱条件で加熱すれば、メソポーラスカーボン中の炭素はすべて二酸化炭素となり、窒化ホウ素を製造することができる。
の温度(ここでは、1300℃以上1700℃未満の温度を意図する)で、30分〜60分間加熱すれば、メソポーラスカーボン中の炭素原子がすべて二酸化炭素となることなく、炭素濃度を変化させた炭窒化ホウ素を製造することができる。なお、含有される炭素量は、上記加熱条件をさらに詳細に設定することによって調整することができる。
図2は、本発明の別の窒化ホウ素系多孔体BCXN(0≦X≦1)の製造工程を示す図
である。工程ごとに説明する。
されたB/N比を満たす窒素源およびホウ素源の混合物が、炭素源中の炭素原子(C)量の10%〜100%増しとなるように混合される。このように、本発明の別の方法では、炭素源中の炭素原子量に基づいて、窒素源とホウ素源とが加えられる。この場合、反応率が必ずしも100%とならないため、炭素源に対して窒素源およびホウ素源を多く添加することが必要である。
0℃の温度(ここでは、500℃以上1000℃以下の温度を意図する)で6時間〜12時間(ここでは、6時間以上12時間以下の時間を意図する)加熱すればよい。混合物を上記加熱条件で加熱すれば、メソポーラスカーボン中の炭素はすべて二酸化炭素となり、窒化ホウ素を製造することができる。このように比較的加熱温度を低く設定し、長時間加熱することにより、窒素原子が炭素原子と置換される前に、窒素源が分解するのを防ぎ得る。その結果、メソポーラスカーボン中の炭素原子と、分解された窒素源中の窒素原子との置換が促進され、窒化ホウ素多孔体が得られる。
の温度(ここでは、1000℃を超え1200℃以下の温度を意図する)で、0.5時間〜6時間(ここでは、0.5時間以上6時間未満の時間を意図する)加熱すれば、炭素濃度を変化させた炭窒化ホウ素を製造することができる。このように比較的高温に設定し、短時間加熱することにより、窒素原子が炭素原子と置換される前に、一部の窒素源の分解を促進し得る。その結果、ホウ素原子、窒素原子、および、炭素原子を含む炭窒化ホウ素多孔体を製造することができる。
なお、含有される炭素量は、上記加熱条件をさらに詳細に設定することによって調整することができる。
これは、得られる窒化ホウ素系多孔体の耐熱性、強度、静電容量等の物性を用途に応じて
容易に変化させることができるので、材料設計に有利であり得る。また、従来のような2段階の加熱工程を必要としないので、製造コストの削減および製造時間の短縮も可能である。
窒化ホウ素系多孔体300は、図1または図2の製造方法においてメソポーラスカーボンとしてCMK−3を用いた場合の例示であるが、CMK−1を用いた場合も、実質的に同様であり得る。
炭窒化ホウ素多孔体である場合、これらロッド310および小片320は、sp2結合を
した窒素原子とホウ素原子、および、グラファイト構造(すなわちsp2結合)をした炭
素原子を含む。
電子材料の設計に有利であり得る。
比表面積・細孔分布測定装置(Autosorb 1、Quantachrome、USA)を用いて窒素吸脱着等温線を測定した。BCN1450を523Kで圧力10-5hPa以下で3時間脱気した後に77K(−196℃)にて測定した。吸脱着等温線を測定することにより、細孔の有無、細孔の形状および大きさが分かる。Barrett−Jayner−Halenda法およびKelvin式の補正項を用いて、孔径分布を求めた。なお、結果を図8および図9に示し、メソポーラスカーボンの吸脱着等温線とBCN1450の吸脱着等温線とを比較した。
図5に示される、ホウ素元素(B)、炭素元素(C)および窒素元素(N)それぞれの元素マッピングから、他の元素のトレースは検出されなかった。また、ホウ素元素、炭素元素および窒素元素は、BCN1450中のいずれの箇所においても均一に結合して存在していることが示される。
特徴を有しており、B/C比は、それぞれ、0.2および0.08であった。特に、炭素
含有量の多いBCXN(例えば、BCN1450)では、グラファイト様の構造内にホウ素原
子が取り込まれた状態であった。このことは、炭素含有量が多いほど、グラファイト構造の特性が優位となり、導電性が増大することを示唆している。このような状態のBCXN
は、導電性材料または半導体材料として有効である。なお、これらのK殻励起スペクトルの吸収端は、主に、1s−π*電子遷移によるものであることが分かった。
図7(b)および(c)の外観は、図7(a)の外観に類似している。詳細には、BCN1450およびBNのいずれも、メソポーラスカーボン同様の表面粗さを有したロッドの集合体を示し、それらロッドは、ロッド長およびロッド径ともに一様であり、規則的に配列している。
いずれの窒素吸脱着等温線においても、ヒステリシスが確認された。このような形状を有する等温線は、IUPAC分類によればVI型であることが分かった。すなわち、得られたBCN1450、BCN1550およびBN中には、メソポア(2〜50nmの細孔)が存在することを示唆している。メソポーラスカーボンでは、相対圧力p/p0=0.35にお
いて毛管凝縮に起因する窒素吸着が見られた。一方、BCN1450、BCN1550およびBNでは、相対圧力p/p0=0.45において毛管凝縮に起因する窒素吸着が見られた。
図8のBCN1450、BCN1550およびBNの等温線それぞれに基づいて細孔径分布を求めた。細孔径は、図8の各等温線のヒステリシスに見られる細孔の容積の分布から求めた。BCN1450およびBCN1550は、3.1nmに細孔径分布の中心を有することが分かった。一方、BNは2.7nmに細孔径分布の中心を有することが分かった。用いたメソポーラスカーボンの細孔径分布の中心は、3.0nmであったことから、得られた窒化ホウ素系多孔体は、いずれも、メソポーラスカーボンの細孔径分布をほぼ維持していることが示された。
310 ロッド
320 小片
Claims (7)
- 窒化ホウ素多孔体を製造する方法であって、
メソポーラスカーボンとホウ素源とを混合する工程と、
前記混合する工程によって得られた混合物を、窒素雰囲気中、1700℃以上1800℃以下の温度で、30分〜60分間、加熱し、前記メソポーラスカーボンの構造を維持しつつ前記メソポーラスカーボン中の炭素原子の全部を前記ホウ素源中のホウ素原子および前記窒素雰囲気中の窒素原子と置換する工程と
を包含する、方法。 - 前記ホウ素源は、酸化ホウ素、ホウ酸、および、四ホウ化炭素からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記メソポーラスカーボンは、CMK−1またはCMK−3である、請求項1に記載の方法。
- 前記窒素雰囲気は、入口流量が2.5〜3.5L/分であり、出口流量が1.5〜2.5L/分で窒素ガスをフローする、請求項1に記載の方法。
- 炭窒化ホウ素系多孔体を製造する方法であって、
メソポーラスカーボンとホウ素源とを混合する工程と、
前記混合する工程によって得られた混合物を、窒素雰囲気中、1450℃以上1550℃以下の温度で、30分〜60分間、加熱し、前記メソポーラスカーボンの構造を維持しつつ前記メソポーラスカーボン中の炭素原子の一部を前記ホウ素源中のホウ素原子および前記窒素雰囲気中の窒素原子と置換する工程と
を包含する、方法。 - メソポーラスカーボンの構造を維持しつつ、前記メソポーラスカーボン中の炭素原子の全部をホウ素原子および窒素原子で置換することによって得られる、窒化ホウ素多孔体であって、
前記メソポーラスカーボンの構造を有し、
規則的に配列された複数のロッドを含み、
前記複数のロッドのそれぞれは、sp 2 結合をした窒素原子およびホウ素原子を含み、
前記複数のロッドのそれぞれは、互いに所定の孔径Dを有するように結合しており、
前記所定の孔径Dは、2.5≦D(nm)≦5.0の範囲であり、
500≦A(m 2 /g)≦900m 2 /gの範囲の比表面積Aを有し、
0.5≦V(cm 3 /g)≦0.9の範囲の孔容積Vを有する、
窒化ホウ素多孔体。 - メソポーラスカーボンの構造を維持しつつ、前記メソポーラスカーボン中の炭素原子の一部をホウ素原子および窒素原子で置換することによって得られる、炭窒化ホウ素多孔体であって、
前記メソポーラスカーボンの構造を有し、
規則的に配列された複数のロッドを含み、
前記複数のロッドのそれぞれは、sp 2 結合をした炭素原子、窒素原子およびホウ素原子を含み、
前記複数のロッドのそれぞれは、互いに所定の孔径Dを有するように結合しており、
前記所定の孔径Dは、2.5≦D(nm)≦5.0の範囲であり、
500≦A(m 2 /g)≦900m 2 /gの範囲の比表面積Aを有し、
0.5≦V(cm 3 /g)≦0.9の範囲の孔容積Vを有する、
炭窒化ホウ素多孔体。
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