JP4796359B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
61a,61b エピタキシャル層
62a〜64a,62b〜64b 半導体領域
65a,65b 酸化膜
66a,66b ポリシリコンゲート層
67a,67b メタル層
68a,68b 保護膜
69a,69b 半導体領域
MP PMOSトランジスタ
MN NMOSトランジスタ
DP ダイパッド
BW ボンディングワイヤ
GG,SS,DD 外部リード
S ソース端子
G ゲート端子
D ドレイン端子
Claims (12)
- 第1パワートランジスタを含み、第1主面に前記第1パワートランジスタの第1ソース端子と第1ゲート端子、前記第1主面とは反対側の第1裏面に前記第1パワートランジスタの第1ドレイン端子を備えた第1半導体チップと、
第2パワートランジスタを含み、第2主面に前記第2パワートランジスタの第2ソース端子と第2ゲート端子、前記第2主面とは反対側の第2裏面に前記第2パワートランジスタの第2ドレイン端子を備えた第2半導体チップと、
第3パワートランジスタを含み、第3主面に前記第3パワートランジスタの第3ソース端子と第3ゲート端子、前記第3主面とは反対側の第3裏面に前記第3パワートランジスタの第3ドレイン端子を備えた第3半導体チップと、
第4パワートランジスタを含み、第4主面に前記第4パワートランジスタの第4ソース端子と第4ゲート端子、前記第4主面とは反対側の第4裏面に前記第4パワートランジスタの第4ドレイン端子を備えた第4半導体チップと、
上面に前記第1半導体チップと前記第3半導体チップとが搭載された第1ダイパッドと、
上面に前記第2半導体チップと前記第4半導体チップとが搭載された第2ダイパッドと、
前記第1ダイパッドと前記第2ダイパッドの周囲に配置され、前記第1、第2、第3、および第4半導体チップと電気的に接続された複数の外部リードと、
平面視において、第1辺、前記第1辺と対向する第2辺、前記第1辺と交差する第3辺、および前記第3辺と対向する第4辺を有し、前記第1、第2、第3、第4半導体チップ、および前記複数の外部リードのそれぞれの一部を封止する封止体と、を備え、
前記複数の外部リードは、第1ソースリード、第2ソースリード、第1ゲートリード、第2ゲートリード、第3ゲートリード、および第4ゲートリードを含み、
前記第1ソースリード、前記第1ゲートリード、および前記第2ゲートリードは、前記第1辺に沿って配置され、
前記第1ソースリードは、前記第1ゲートリードと前記第2ゲートリードとの間に位置しており、
前記第2ソースリード、前記第3ゲートリード、および前記第4ゲートリードは、前記第2辺に沿って配置され、
前記第2ソースリードは、前記第3ゲートリードと前記第4ゲートリードとの間に位置しており、
前記第1ダイパッドは、前記第1辺と前記第2辺の間において、前記第4辺よりも前記第3辺に近くなるように配置され、
前記第2ダイパッドは、前記第1辺と前記第2辺の間において、前記第1ダイパッドと前記第4辺との間に配置され、
前記第1半導体チップは、前記第1ダイパッド上に前記第2辺よりも前記第1辺に近くなるように、かつ前記第1ゲート端子より前記第1ソース端子の方が前記第2ダイパッドに近くなるように搭載され、
前記第2半導体チップは、前記第2ダイパッド上に前記第2辺よりも前記第1辺に近くなるように、かつ前記第2ゲート端子より前記第2ソース端子の方が前記第1ダイパッドに近くなるように搭載され、
前記第3半導体チップは、前記第1ダイパッド上に前記第1半導体チップと前記第2辺との間に位置し、かつ前記第3ゲート端子より前記第3ソース端子の方が前記第2ダイパッドに近くなるように搭載され、
前記第4半導体チップは、前記第2ダイパッド上に前記第2半導体チップと前記第2辺との間に位置し、かつ前記第4ゲート端子より前記第4ソース端子の方が前記第1ダイパッドに近くなるように搭載され、
前記第1ソース端子と前記第2ソース端子は、前記第1ソースリードとボンディングワイヤにより電気的に接続され、
前記第3ソース端子と前記第4ソース端子は、前記第2ソースリードとボンディングワイヤにより電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記第1半導体チップは、第5ソース端子をさらに備え、
前記第2半導体チップは、第6ソース端子をさらに備え、
前記第3半導体チップは、第7ソース端子をさらに備え、
前記第4半導体チップは、第8ソース端子をさらに備え、
前記第1ゲート端子は、前記第1ソース端子と前記第5ソース端子との間に配置され、
前記第2ゲート端子は、前記第2ソース端子と前記第6ソース端子との間に配置され、
前記第3ゲート端子は、前記第3ソース端子と前記第7ソース端子との間に配置され、
前記第4ゲート端子は、前記第4ソース端子と前記第8ソース端子との間に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
前記第1パワートランジスタ、および前記第2パワートランジスタは、縦型のPMOSトランジスタであり、
前記第3パワートランジスタ、および前記第4パワートランジスタは、縦型のNMOSトランジスタであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置において、
前記第1、第2、第3、および第4半導体チップは、それぞれシリコン単結晶からなる半導体基板を備え、
前記半導体基板上にはシリコン単結晶からなるエピタキシャル層が形成され、
前記エピタキシャル層は、第1半導体領域、第2半導体領域、およびその厚さ方向に複数のトレンチが形成され、
前記複数のトレンチのそれぞれの内壁面にはゲート酸化膜が形成され、
前記ゲート酸化膜を介してポリシリコンゲート層が埋め込まれていることにより、前記第1半導体領域はソース領域、前記第2半導体領域はチャネル形成領域、前記エピタキシャル層および前記半導体基板はドレイン領域となるトレンチゲート構造であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記第1、第2、第3、および第4ゲート端子のそれぞれは、前記ポリシリコンゲート層と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記複数の外部リードは、第1ドレインリードと第2ドレインリードとをさらに含み、
前記第1ドレインリードは、前記第1ダイパッドと連結され、前記第1辺に沿って配置され、
前記第2ドレインリードは、前記第2ダイパッドと連結され、前記第2辺に沿って配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項6に記載の半導体装置において、
前記第1ドレインリードは、前記第1ゲートリードと前記第2ゲートリードとの間に配置され、
前記第2ドレインリードは、前記第3ゲートリードと前記第4ゲートリードとの間に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記第1ゲート端子は、前記第1ゲートリードとボンディングワイヤにより電気的に接続され、
前記第2ゲート端子は、前記第2ゲートリードとボンディングワイヤにより電気的に接続され、
前記第3ゲート端子は、前記第3ゲートリードとボンディングワイヤにより電気的に接続され、
前記第4ゲート端子は、前記第4ゲートリードとボンディングワイヤにより電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置において、
前記半導体装置内には、Hブリッジ回路が構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記第1ドレイン端子と前記第3ドレイン端子は、前記第1ダイパッドを介して電気的に接続され、
前記第2ドレイン端子と前記第4ドレイン端子は、前記第2ダイパッドを介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項10に記載の半導体装置において、
前記第1半導体チップの前記第1裏面と前記第3半導体チップの前記第3裏面のそれぞれは、前記第1ダイパッドと半田を介して電気的に接続され、
前記第2半導体チップの前記第2裏面と前記第4半導体チップの前記第4裏面のそれぞれは、前記第2ダイパッドと半田を介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記半導体装置のパッケージ形状は、SOPであることを特徴とする半導体装置。
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