JP4776321B2 - 間隔測定方法及び間隔測定装置 - Google Patents
間隔測定方法及び間隔測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4776321B2 JP4776321B2 JP2005282292A JP2005282292A JP4776321B2 JP 4776321 B2 JP4776321 B2 JP 4776321B2 JP 2005282292 A JP2005282292 A JP 2005282292A JP 2005282292 A JP2005282292 A JP 2005282292A JP 4776321 B2 JP4776321 B2 JP 4776321B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- thin film
- substrate
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Lasers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
5 レジスト膜 6 マスク基板
10A 第1のレーザ光源 10B 第2のレーザ光源
21 対物レンズ 22 光検出器
Claims (6)
- 光透過性の基板の表面に形成された透明性を有する薄膜の膜厚を測定する方法であって、
2つのレーザ光源から、夫々異なる波長のレーザ光を同時に出射させてレーザ光学系により集光し、かつコリメータレンズにより平行光となし、
これら2つのレーザ光源からの波長の異なる第1,第2のレーザ光を光合流手段により合流させて、合流レーザ光を斜方から基板に入射し、
前記基板に入射された合流レーザ光の前記薄膜の表面で反射した反射光と、前記薄膜裏面と前記基板との境界部で反射した反射光とを光検出器で検出し、
前記光検出器により、前記薄膜表面からの反射光と前記薄膜裏面からの反射光とを受光させ、これらの反射光の光検出器での受光位置の差に基づいて、薄膜の厚みを測定する
ことを特徴とする間隔測定方法。 - 前記基板の上部に一部に透明部を有するマスク基板を配置し、前記マスク基板の透明部及び前記薄膜に対して前記合流レーザ光を斜方から入射させ、前記マスク基板の裏面で反射したマスク基板裏面反射光、前記薄膜表面反射光、前記薄膜裏面反射光又は前記基板の裏面で反射した基板裏面反射光のうち2つの反射光の受光位置を光検出器により検出することにより、検出した反射光の2つの境界面の間隔を測定することを特徴とする請求項1記載の間隔測定方法。
- 前記第1のレーザ光の波長と前記第2のレーザ光の波長とで発振波長に差を持たせるようになし、この発振波長に差を持たせることによって、一方のレーザ光に薄膜干渉が生じたとしても、他方の光には薄膜干渉が生じさせないようにし、かつこれら第1,第2のレーザ光の光量を等しくすることを特徴とする請求項1または請求項2記載の間隔測定方法。
- 前記光合流手段はダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の間隔測定方法。
- 光透過性の基板の表面に形成された透明性を有する薄膜の膜厚を測定する間隔測定装置であって、
第1のレーザ光と第2のレーザ光とを射出する2つのレーザ光源と、
前記各レーザ光源から射出した夫々異なる波長のレーザ光を集光させるレーザ光学系と、
集光した第1のレーザ光及び第2のレーザ光を平行光とするコリメータレンズと、
前記第1,第2のレーザ光を合流させて、この合流レーザ光を前記基板に入射する光合流手段と、
前記基板に入射した合流レーザ光の、前記薄膜の表面で反射させた反射光と、前記薄膜裏面と前記基板との境界部で反射させた反射光とを検出する光検出器と、
前記薄膜表面からの反射光と薄膜裏面からの反射光との光検出器での受光位置の差に基づいて前記薄膜の厚みを測定する測定手段と
を備える構成としたことを特徴とする間隔測定装置。 - 前記光合流手段はダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項5記載の間隔測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005282292A JP4776321B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 間隔測定方法及び間隔測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005282292A JP4776321B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 間隔測定方法及び間隔測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007093357A JP2007093357A (ja) | 2007-04-12 |
JP4776321B2 true JP4776321B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=37979259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005282292A Expired - Fee Related JP4776321B2 (ja) | 2005-09-28 | 2005-09-28 | 間隔測定方法及び間隔測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4776321B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63140940A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-13 | Ricoh Co Ltd | 屈折率・膜厚測定方法 |
JPH02170008A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-06-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ヘテロ薄膜多層構造の半導体多層薄膜の膜厚測定法 |
JP3391030B2 (ja) * | 1992-03-23 | 2003-03-31 | 株式会社日立製作所 | 電子デバイスの製造方法及びパターン露光方法 |
JPH07140042A (ja) * | 1993-11-16 | 1995-06-02 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | マスク板とガラス基板のギャップ測定光学系 |
JP3953841B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2007-08-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ギャップ測定方法及びギャップ測定装置、並びに露光装置 |
JP2006023183A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Sharp Corp | 段差測定装置、段差測定方法、段差測定装置を制御するコンピュータプログラム及びそれを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
2005
- 2005-09-28 JP JP2005282292A patent/JP4776321B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007093357A (ja) | 2007-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2913984B2 (ja) | 傾斜角測定装置 | |
US10319088B2 (en) | Inspection apparatus of EUV mask and its focus adjustment method | |
JP4104924B2 (ja) | 光学的測定方法およびその装置 | |
JP4928859B2 (ja) | 光学式データインプット方法、装置及び当該装置の分光式のレンズモジュール | |
CN106483777A (zh) | 一种具有调焦功能的对准***及对准方法 | |
TWI358529B (en) | Shape measuring apparatus, shape measuring method, | |
RU2517979C1 (ru) | Оптический солнечный датчик | |
TWI522608B (zh) | 光罩用穿透率測定裝置及穿透率測定方法 | |
JP6682263B2 (ja) | 検出装置、露光装置および物品の製造方法 | |
JP4776321B2 (ja) | 間隔測定方法及び間隔測定装置 | |
JPS5954908A (ja) | 表面位置検出方法 | |
JP4653898B2 (ja) | 傾斜検出装置 | |
CN115031629A (zh) | 一种检测立方体分光棱镜胶合前定位的装置和方法 | |
KR20190059411A (ko) | 다기능 광학 검사장치 | |
US11221565B2 (en) | Level sensor and lithographic apparatus | |
JP2677351B2 (ja) | 立体状被検体外面検査装置 | |
JP4596801B2 (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
JPS62140418A (ja) | 面位置検知装置 | |
KR980010412A (ko) | 이물질 검사 장치 | |
CN112859528B (zh) | 一种套刻误差测量装置及测量方法 | |
JP2006132972A (ja) | 光学部品の欠陥検出方法および欠陥検出装置 | |
JPS6083326A (ja) | 投影式アライメント方法及びその装置 | |
JPH07311009A (ja) | 位置検出装置 | |
JPH06281452A (ja) | 光学式距離測定装置 | |
JP6313552B2 (ja) | 計測装置、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100728 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110607 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110628 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |