JP4768305B2 - 固体撮像装置 - Google Patents

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Description

この発明は、CMOSイメージセンサなどの固体撮像装置に関する。
デジタルカメラやカメラ付き携帯電話には、CMOSイメージセンサが用いられている。この種の機器に好適な、低電圧動作で且つ低消費電力のCMOSイメージセンサについて、例えば特許文献1に記載されている。CMOSイメージセンサには、単位セルがマトリックス状に配置されている。各々の単位セルは、画素に対応するフォトダイオード、転送トランジスタ、リセットトランジスタ、アドレストランジスタ及び駆動トランジスタなどを含んで構成されている。
上記フォトダイオードは正方格子状に配置されている。これらフォトダイオードにて発生し蓄積された信号電荷は、転送トランジスタ(転送ゲート)のゲートに転送パルスを供給してチャネルを形成する(転送ゲートを開く)ことにより、フローティングジャンクションに転送されて蓄積される。この際、転送パルスが供給される同一行の転送ゲートも同様に開くため、これらの転送ゲートに接続されているフォトダイオードの信号電荷もフローティングジャンクションに転送される。
この信号電荷の転送に先だって、各フローティングジャンクションの電位はリセットトランジスタ(リセットゲート)によりリセットドレイン電圧に初期化(リセット)されている。このフローティングジャンクションの電圧レベルは、上記信号電荷が流入することにより変化する。上記フローティングジャンクションは、駆動トランジスタ(駆動ゲート)のゲートに接続されており、その電位変化はチャネル電位の変調を引き起こす。
次に、アドレストランジスタ(アドレスゲート)のゲートにアドレス信号を供給し、チャネル電位が変調されている駆動トランジスタを信号線に接続する。これらの信号線には負荷トランジスタが接続されており、信号電荷に対応した信号が水平読み出し回路から外部に時系列的に出力される。
1ラインの読み出しが完了した後、フローティングジャンクションは、再度リセットドレイン電圧にリセットされる。しかる後に、転送ゲートを開き、フォトダイオードにて発生し蓄積された信号電荷をフローティングジャンクションに転送する。そして、上述した動作を繰り返し、1ラインの信号電荷を読み出す。
次の画素列のフォトダイオード、及び更に次の画素列のフォトダイオードの信号電荷の読み出しは、共にフローティングジャンクションを共通に使用し、上記と同じ動作を繰り返すことにより全画素の読み出しを行う。
ところで、上記特許文献1では垂直方向に並んだ2つの画素の出力回路を共通にしている。すなわち、上下方向に隣接して配置された2つのフォトダイオードの信号電荷を、共通のフローティングジャンクションに転送して出力回路で読み出すため、高集積化に適している。
しかしながら、垂直方向の高集積化には向いているものの、水平方向に画素と出力回路が配置されているため高集積化が難しくなる。特に、デジタルカメラへ応用する際は、水平、垂直方向の画素ピッチを同じにする必要があるため、垂直方向のみの高集積化はセルのパターンレイアウト的に不利となる。また、水平方向に対しては、出力回路の部分に相当する水平方向の画素間の情報を拾うことはできない。
しかも、従来のイメージセンサでは、水平方向に画素と出力回路が並んでいるため、画素の開口は縦長状になる。CCDエリアセンサでも、画素の水平方向にCCDレジスタが存在するために、やはり画素の開口は縦長になる。
一方、一般に、カメラの光学系の縦横比は3:4と横長である。よって、レンズからセンサの感光面に入射される光は、感光面の周辺部の画素で考えた際に、水平方向の画素端の方が垂直方向よりも、より斜めから入ってくる。このため、通常、周辺画素の出力は中央部の画素よりも感度が下がり、いわゆるシェーディングが生ずる。この画素開口が縦長の場合には、このシェーディングの影響をより受けやすくなる。
U.S.P.6,091,449
この発明は上記のような事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、水平方向の高集積化が図れる固体撮像装置を提供することにある。
この発明の一態様によると、画素が垂直方向、水平方向に夫々所定ピッチで2次元的に配置され、垂直方向に隣接した画素が対をなす画素群と、対を成す前記垂直方向に隣接した画素と画素との間隙部から、当該画素対に水平方向に隣接する画素と画素との間隙部に亙って設けられ、当該画素対における選択された一方の画素から読み出された信号電荷に対応する情報を外部に出力する出力回路とを具備し、一つの画素対と、前記一つの画素対に対応する前記出力回路とからなる単位セルが市松状に配置され、且つ斜め方向に隣接する前記単位セルにおける画素対の一方は同一の水平ライン上に沿って配置される固体撮像装置が提供される。
この発明によれば、水平方向の高集積化が図れる固体撮像装置が得られる。
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施形態]
図1は、この発明の第1の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、CMOSイメージセンサの要部の構成例を示す回路図である。このCMOSイメージセンサは、2つの画素と1つの出力回路で単位セルUC11〜UC24を構成し、これらの単位セルUC11〜UC24が市松状に配置されている。上記市松状に配置された単位セルのうち、同一ライン上に隣接して配置された4つの画素と、この4画素に対応する4つの出力回路で1つの繰り返しユニットが形成される。
各々の単位セルUCは、画素としてのフォトダイオード対PD、これらフォトダイオード対PDの信号電荷のフローティングジャンクションFJへの転送制御を行う転送トランジスタ対TG、及び出力回路OUTを含んで構成されている。斜め方向に隣接する単位セルUC中のフォトダイオードPDは、同一の水平ライン上に配置されている。上記出力回路OUTは、リセットトランジスタRS、アドレストランジスタAD及び駆動トランジスタDを備えている。
フォトダイオードPD11〜PD45は、垂直方向、水平方向に夫々所定ピッチで2次元的に配置されている。垂直方向に隣接したフォトダイオードは、対をなしている。出力回路OUT11〜OUT24はそれぞれ、上記垂直方向に隣接した対をなす2つのフォトダイオード(フォトダイオード対)で共用される。これら出力回路OUT11〜OUT24は、フォトダイオード対の垂直方向の間隙部に互い違いに配置されている。
次に、1つの繰り返しユニットに着目してその構成を詳細に説明する。ここでは、繰り返しの都合上、3ライン目(フォトダイオードPD31,PD32,PD33,PD34)を例にとる。出力回路OUT21にはフォトダイオード対PD31,PD41が対応し、出力回路OUT22にはフォトダイオード対PD22,PD32が対応し、出力回路OUT23にはフォトダイオード対PD33,PD43が対応し、出力回路OUT24にはフォトダイオード対PD24,PD34が対応する。上記フォトダイオードPD31,PD32,PD33,PD34にそれぞれ隣接して転送ゲートTG31,TG32,TG33,TG34が設けられており、フローティングジャンクションFJ21,FJ22,FJ23,FJ24への信号電荷の転送を制御するようになっている。
上記出力回路OUT21は、駆動トランジスタD21、アドレストランジスタAD21及びリセットトランジスタRS21の電流通路が直列接続されて構成されている。上記出力回路OUT22は、駆動トランジスタD22、アドレストランジスタAD22及びリセットトランジスタRS22の電流通路が直列接続されて構成されている。上記出力回路OUT23は、駆動トランジスタD23、アドレストランジスタAD23及びリセットトランジスタRS23の電流通路が直列接続されて構成されている。上記出力回路OUT24は、駆動トランジスタD24、アドレストランジスタAD24及びリセットトランジスタRS24の電流通路が直列接続されて構成されている。リセットドレインRDは、アドレストランジスタAD21,AD22,AD23,AD24のドレインを兼ねている。駆動トランジスタD21,D22,D23,D24のソースはそれぞれ、信号線S1,S2,S3,S4に接続されている。
上記CMOSイメージセンサの基本的な駆動方法は従来と同様である。読み出し配線LTG3に転送パルスを供給すると、フォトダイオードPD31,PD32,PD33,PD34からの信号電荷が、斜め方向に隣接した2列の出力回路OUT21,OUT22,OUT23,OUT24のフローティングジャンクションFJ21,FJ22,FJ23,FJ24に一斉に転送され、各出力回路OUT21,OUT22,OUT23,OUT24から一斉に信号線S1,S2,S3,S4に信号が出力される。
この際、斜め方向に隣接した2列の出力回路OUT21,OUT22,OUT23,OUT24を同時に駆動するため、アドレスパルスはアドレストランジスタAD21,AD23に接続されたアドレス配線ADD34と、アドレストランジスタAD22,AD24に接続されたアドレス配線ADD23の2列に同時に供給される。
同様に、リセットパルスはリセットトランジスタRS21,RS23に接続されたリセット配線RSL34と、リセットトランジスタRS22,RS24に接続されたリセット配線RSL23の2列に同時に供給される。
次に、上記図1に示したCMOSイメージセンサの動作を説明する。まず、転送動作に先立ち、リセットパルスを入力してリセットトランジスタRS21〜RS24をオンし、フローティングジャンクションFJ21〜FJ24をリセットドレイン電圧にリセットする。その後、信号電荷をフローティングジャンクションFJ21〜FJ24に転送する前に、リセットトランジスタRS21〜RS24をオフし、フローティングジャンクションFJ21〜FJ24をフローティング状態にしておく。信号電荷がフローティングジャンクションFJ21〜FJ24へ転送されると、その電位が変化し、それぞれのジャンクションに接続されている駆動トランジスタD21〜D24のチャネル電位を変調する。そして、出力回路OUT21〜OUT24を働かせるために、アドレス配線ADD23,ADD34にアドレスパルスを供給し、アドレストランジスタAD21〜AD24をオンする。これによって、フォトダイオードPD31〜PD34の信号電荷に対応する電位が信号線S1〜S4に出力される。
図2は、上記図1に示したCMOSイメージセンサの具体的なパターンレイアウト例を示している。画素としてのフォトダイオードPD11〜PD44は2次元的に配列され、垂直方向、水平方向に夫々所定ピッチで配置されている。各フォトダイオードPD11〜PD44は、水平方向が素子分離領域によって分離されている。垂直方向に隣接するフォトダイオード対PD11とPD21、PD12とPD22、PD13とPD23、PD14とPD24、PD31とPD41、PD32とPD42、PD33とPD43、PD34とPD44の間隙部から、それぞれこれらフォトダイオード対に水平方向に隣接するフォトダイオード対の間隙部に亙って、転送ゲートTG11〜TG44、フローティングジャンクションFJ11,FJ21,…及び出力回路OUT11〜OUT14,OUT21〜OUT24が配置されている。上記転送ゲートTG11〜TG44とフローティングジャンクションFJ11,FJ21は、読み出しの対象となるフォトダイオード対の垂直方向の間隙部に配置されている。また、上記出力回路OUT11〜OUT14,OUT21〜OUT24は、読み出すフォトダイオード対の水平方向に隣接したフォトダイオード対の垂直方向の間隙部に隣接した位置に存在し、水平方向に隣接するフォトダイオードの垂直方向への読み出し方向が互い違いになっている。これら出力回路OUT11〜OUT14,OUT21〜OUT24は、上記垂直方向に隣接したフォトダイオード対で共用され、上記フォトダイオード対の一方から選択的に情報を外部に出力する。
以降の説明も3ライン目に着目して詳しく説明する。垂直方向に並んだフォトダイオード対(画素対)PD31,PD41の間隙部には転送ゲートTG31,TG41とフローティングジャンクションFJ21が配置されている。このフォトダイオード対PD31,PD41の信号電荷は、転送ゲートTG31,TG41を介してフローティングジャンクションFJ21に蓄積される。出力回路OUT21を構成する各トランジスタRS21,AD21,D21は、斜め方向に隣接したフォトダイオード対PD22,PD32とフォトダイオード対PD42,PD52(図示せず)の間隙部(フォトダイオード対PD32,PD42の垂直方向の間隙部)に形成されている。このため、フォトダイオードPD31と水平方向に隣接するフォトダイオードPD32の転送トランジスタTG32は、フォトダイオード対PD22,PD32の間隙部に設けられる。すなわち、水平方向に隣接したフォトダイオードにおける信号電荷の転送方向は、互い違いに上下を繰り返すようになっている。
上記のような構成によれば、フォトダイオードを垂直方向、水平方向に夫々所定ピッチで2次元的に配置し、垂直方向に隣接したフォトダイオード対の間隙部、及び斜め方向に隣接するフォトダイオード対の間隙部に出力回路を設けたので、水平方向にフォトダイオード(画素)を狭いピッチで配置でき、水平方向の高集積化が図れる。
[第2の実施形態]
図3は、この発明の第2の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、上記図1に示した回路構成の他の具体的なパターンレイアウト例を示している。図3において、図1及び図2と同一構成部には同じ符号を付してその詳細な説明は省略する。
すなわち、本第2の実施形態に係るCMOSイメージセンサは、前述した第1の実施形態の各出力回路OUT11〜OUT14,OUT21〜OUT24におけるアドレストランジスタ(アドレスゲート)AD11〜AD14,AD21〜AD24を省略したものである。このアドレスゲートを省略する構造については、例えばIEEE Journal of Solid States Circuits vol.39,No.12,Dec.2004 P.2408〜2416に開示されている。
このCMOSイメージセンサの動作は、リセットドレインRDにローレベルのパルスを印加した状態で、リセット配線RSLにハイレベルのリセットパルスを与え、フローティングジャンクションFJをローレベルにする。例えば、3ライン目のフォトダイオード対PD31〜PD34を読み出す際には、リセット配線RSL23,RSL34に同時にリセットパルスを印加する。引き続き、駆動トランジスタDのゲートをローレベルにした状態で、リセットドレインRDを通常駆動のハイレベルにし、選択したいラインのリセットトランジスタRSのゲートをハイレベルにしてフローティングジャンクションFJをリセットする。その後、選択したいフォトダイオード対PDの転送ゲートTGを開き、駆動トランジスタDのゲート電圧を信号電荷で変調させる。この際、選択されていない駆動トランジスタDのゲートはローレベルになっており、選択された駆動トランジスタDの出力が信号線S1〜S4に出力される。
このような駆動方式を採用することにより、アドレストランジスタAD11〜AD14,AD21〜AD24を省略することができる。
そして、上記のような構成であっても、第1の実施形態と同様に水平方向の高集積化が図れる。
[第3の実施形態]
図4は、この発明の第3の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、上記図1に示した回路構成の更に他の具体的なパターンレイアウト例を示している。図4において、図1乃至図3と同一構成部には同じ符号を付してその詳細な説明は省略する。
すなわち、本第3の実施形態に係るCMOSイメージセンサは、各転送ゲート対TG11とTG21、TG13とTG23、TG22とTG32、TG24とTG34、TG31とTG41、TG33とTG43、TG42とTG52、TG44とTG54を水平方向に対して対向するように略45度傾け、各フローティングジャンクションFJを上記転送ゲート対の交差部付近とリセットトランジスタRSで囲まれる領域に配置している。
この配置により、各フォトダイオード対の垂直方向の間隙部が素子分離領域だけになり、フォトダイオード対を素子分離領域方向に伸ばして、フォトダイオード対の占有面積を増やすことができる。
図4に示すパターンレイアウトでは、フォトダイオード対の3方向が素子分離領域で囲まれ、一方向のみに出力回路の素子分離領域が配置される。この3方向の素子分離領域には、例えばイオン注入で形成した不純物領域を用いることができる。従来のイメージセンサで広く採用されている、各画素に対応して形成されたマイクロレンズで入射光を集光した場合、画素の斜め方向の隅は入射光が結像されないので、図4に示す斜め方向に配置された転送ゲートの部分による画質劣化は、従来の構成に比べて少ない。
なお、図4では、転送ゲートを斜め方向に配置しているが、斜め方向に限られるものではなく、図2及び図3に示したパターンレイアウトにおいて、転送ゲートをフォトダイオードの隅に配置し、フローティングジャンクションの長さを短くし、フォトダイオードの斜め方向の間隙部に配置する構造であれば良い。
[第4の実施形態]
図5は、この発明の第4の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、上記図1に示した回路構成の別の具体的なパターンレイアウト例を示している。図5において、図1乃至図4と同一構成部には同じ符号を付してその詳細な説明は省略する。
すなわち、本第4の実施形態に係るCMOSイメージセンサは、水平方向に延びる出力回路の長さが、画素の水平方向のピッチに比べ小さく設計できる場合に有効であり、垂直方向に隣接する出力回路の間隙部の一部を素子分離の幅だけにするレイアウトである。本構造にすることにより、画素の電荷蓄積部分の面積を更に増やすことができる。
本第4の実施形態では、水平方向の素子分離に加え、垂直方向も出力回路以外の画素間隙部は素子分離領域のみになる。この素子分離領域はイオン注入で形成できる。また、出力回路は画素の隅の部分に集中して配置できるため、出力回路の素子分離も厚い酸化膜を形成した構造にしなくても、イオン注入による素子分離領域のみで形成可能である。
[第5の実施形態]
図6は、この発明の第5の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、CMOSイメージセンサの要部を抽出して示す回路図である。このCMOSイメージセンサは、単位セルUC、負荷トランジスタLT、選択トランジスタST、水平レジスタ11、垂直レジスタ12、タイミング発生回路13及び増幅器(amp)14などを備えている。上記単位セルUCは2n〜2(n+1)+2行、m〜M+2列に配置されている。各々の単位セルUCは、フォトダイオードPD、転送トランジスタTG、リセットトランジスタRS、アドレストランジスタAD及び駆動トランジスタDなどを含んで構成されている。
上記フォトダイオード対PDのアノードは接地され、カソードは転送トランジスタ対TGの電流通路の一端にそれぞれ接続される。上記転送トランジスタ対TGのゲートにはそれぞれ読み出し信号線READが接続され、垂直レジスタ12から読み出し信号が供給される。上記転送トランジスタ対TGの電流通路の他端は、駆動トランジスタDのゲートに共通接続される。この駆動トランジスタDのゲートと電位供給源間には、リセットトランジスタRSの電流通路が接続される。このリセットトランジスタRSのゲートはリセット信号線RESETが接続され、上記垂直レジスタ12からリセット信号が供給される。上記駆動トランジスタDの電流通路の一端と電位供給源間には、アドレストランジスタADの電流通路が接続される。このアドレストランジスタADのゲートにはアドレス信号線ADRESが接続され、上記垂直レジスタ12からアドレス信号が供給される。上記駆動トランジスタDの電流通路の他端は、垂直信号線Vsigに接続される。この垂直信号線Vsigは、上記リセット信号線RESET、上記アドレス信号線ADRES、及び上記読み出し信号線READと交差する方向に配置されている。
上記垂直信号線Vsigの一端と接地点間には負荷トランジスタLTの電流通路が接続されている。上記垂直信号線Vsigの他端と増幅器14の入力端子間には選択トランジスタSTの電流通路が接続されている。これらのトランジスタSTのゲートには、水平レジスタ11の出力信号が供給されて制御される。そして、上記垂直レジスタ12と水平レジスタ11の動作タイミングが上記タイミング発生回路13の出力信号で制御されるようになっている。
すなわち、本第5の実施形態に係るCMOSイメージセンサは、横方向に走るアドレス線ADRESとリセット線RESETを、2ライン毎に1本にしたことにある。本構造にすることにより、横方向に走る駆動線の数を、1ライン辺り3本から2本に節約することが可能である。従って、画素を微細化した場合に起こりやすい、“メタル配線に光が遮られて感度が低下する”現象に対して有利である。
図7は、この発明の第5の実施形態に係る固体撮像装置の駆動例を示すタイミングチャートである。図7を用いて、本第5の実施形態に係るCMOSイメージセンサの2n+1ラインと2(n+1)ラインの画素(フォトダイオードPD)から信号電荷を読み出す時の動作を例にとって説明する。まず、リセット信号線RESET[2n]とリセット信号線RESET[2(n+1)]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応するフローティングジャンクションをリセットする。次に、アドレス信号線ADRES[2n+1]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2n+1ラインの画素のダーク(Dark)レベルを読み出す。
そして、読み出し信号線READ[2n+1]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応する転送トランジスタTGをオンし、画素に蓄積された信号電荷をフローティングジャンクションに読み出す。次に、アドレス信号線ADRES[2n+1]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2n+1ラインの画素の信号を読み出す。この信号は、ダークレベルとシグナル(Signal)レベルの和となっている。従って、画素の外において、先に読み出したダークレベルとの差をとることにより、2n+1ラインのシグナルレベルのみを取り出すことが可能である。
次に、リセット信号線RESET[2(n+1)]とリセット信号線RESET[2(n+2)]をハイレベルにすることにより、2(n+1)ラインの画素に対応するフローティングジャンクションをリセットする。次に、アドレス信号線ADRES[2(n+1)+1]をハイレベルにすることにより、2(n+1)ラインの画素のうち、偶数列に対応する画素のソースフォロワ回路を活性化し、2(n+1)ラインの偶数列の画素のダークレベルを読み出す。次いで、アドレス信号線ADRES[2n+1]をハイレベルにすることにより、2(n+1)ラインの画素のうち、奇数列に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2(n+1)ラインの画素の奇数列のダークレベルを読み出す。
そして、読み出し信号線READ[2(n+1)]をハイにすることにより、2(n+1)ラインの画素に対応する転送トランジスタTGをオンし、画素に蓄積された信号電荷をフローティングジャンクションに読み出す。次に、アドレス信号線ADRES[2(n+1)+1]をハイにすることにより、2(n+1)ラインの偶数列の画素に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2(n+1)ラインの画素の偶数列の信号を読み出す。次に、アドレス信号線ADRES[2n+1]をハイレベルにすることにより、2(n+1)ラインの奇数列の画素に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2(n+1)ラインの画素の奇数列の信号を読み出す。これらの信号は、ダークレベルとシグナルレベルの和となっている。従って、画素の外において、先に読み出したダークレベルとの差をとることにより、2(n+1)ラインのシグナルレベルのみを取り出すことが可能である。
図8は、上記図6に示したCMOSイメージセンサのパターンレイアウト例を示す平面図である。横方向に走るメタル配線(第2層アルミ)は、1ライン辺り2本であり、光を遮りにくい構成となっている。
この構成においては、水平方向の構成要素はフォトダイオードと素子分離領域であり、素子分離領域上を配線が走っているものの、メタル配線で良く、且つこれらのメタル配線は光遮蔽に使われるものである。従って、実質的には基板表面付近の水平方向のフォトダイオード間には素子分離領域しか存在しない。この素子分離領域上にはゲート配線がないので、従来のような厚い酸化膜を用いる素子分離領域は必要なく、不純物のイオン注入による素子分離領域を形成すれば良いので高集積化が図れる。
また、垂直方向のピッチについても、前述したように、画素間隙部の構成が、“2本の読み出しゲート(転送ゲート)+1つのフローティングジャンクション”で構成される読み出し部分か、若しくは“アドレストランジスタ+駆動トランジスタ+リセットトランジスタ”で構成される出力回路部分かのいずれかで構成される。これらの幅は略同程度にでき、且つ単位セルを市松状に配置することにより、この読み出し部分と出力回路部分を水平方向に隣接し配置できる。画素垂直間隙部のこうした有効活用は高集積化に都合が良い。
特にデジタルカメラやカメラ付き携帯電話のカメラへの応用の際は、画素セルサイズを正方格子にする必要があり、これに伴い画素の開口部の寸法は、極力等間隔が要求される。この発明による高集積化はセルのレイアウト的に有利となる。
[第6の実施形態]
なお、上記図6に示した回路を前述した第2の実施形態で説明したアドレストランジスタを省略した構造にすれば、出力回路の占める面積は更に小さくできる。このとき、省略したアドレストランジスタに対応するアドレス信号線ADRES(アドレス信号)を減らし、減らした分だけリセット信号線RESET(リセット信号)の本数を増やすと良い。
図9は、この発明の第6の実施形態に係わる固体撮像装置について説明するための回路図であり、図6と同一の構成部には同一の符号を付して示す。図6に示した第5の実施形態との違いは、各単位セル内のアドレストランジスタADが省略され、駆動トランジスタDの電流通路の一端が直接的に電位供給源(Drain)に接続されている点にある。
このCMOSイメージセンサは、図6の回路と同様に、単位セルUC、負荷トランジスタLT、選択トランジスタST、水平レジスタ11、垂直レジスタ12、タイミング発生回路13及び増幅器(amp)14などを備えている。上記単位セルUCは2n〜2(n+1)+1行、m〜m+2列に配置されている。各々の単位セルUCは、フォトダイオードPD、転送トランジスタTG、リセットトランジスタRS、及び駆動トランジスタDなどを含んで構成されている。
上記フォトダイオード対PDのアノードは接地され、カソードは転送トランジスタ対TGの電流通路の一端にそれぞれ接続される。上記転送トランジスタ対TGのゲートにはそれぞれ読み出し信号線READが接続され、垂直レジスタ12から読み出し信号が供給される。上記転送トランジスタ対TGの電流通路の他端は、駆動トランジスタDのゲートに共通接続される。この駆動トランジスタDのゲートと電位供給源間には、リセットトランジスタRSの電流通路が接続される。このリセットトランジスタRSのゲートはリセット信号線RESETが接続され、上記垂直レジスタ12からリセット信号が供給される。上記駆動トランジスタDの電流通路の他端は、垂直信号線Vsigに接続される。この垂直信号線Vsigは、上記リセット信号線RESET、上記アドレス信号線ADRES、及び上記読み出し信号線READと交差する方向に配置されている。
すなわち、本第6の実施形態に係るCMOSイメージセンサは、アドレス信号線ADRES線を省略し、横方向に走るリセット信号線RESETを、1ライン毎に1本にしたことにある。本構造にすることにより、横方向に走る駆動線の数は、1ライン当たり2本であることには変わりない。
図10は、この発明の第6の実施形態に係る固体撮像装置の駆動例を示すタイミングチャートである。図10を用いて、本第6の実施形態に係るCMOSイメージセンサの2n+1ラインと2(n+1)ラインの画素(フォトダイオードPD)から信号電荷を読み出す時の動作を例にとって説明する。まず、リセット信号線RESET[2n]とリセット信号線RESET[2(n+1)]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応するフローティングジャンクションをリセットする。この際、フローティングジャンクションに接続された駆動トランジスタDはハイレベルになり、2n+1ラインの画素に対応するソースフォロワ回路を活性化し、2n+1ラインの画素のダーク(Dark)レベルを読み出す。
そして、読み出し信号線READ[2n+1]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応する転送トランジスタTGをオンし、画素に蓄積された信号電荷をフローティングジャンクションに読み出す。この際、フローティングジャンクションに接続された駆動トランジスタDは信号電荷で変調が掛かるもののハイレベルの状態であり、2n+1ラインの画素に対応するソースフォロワ回路が活性化されたままで、2n+1ラインの画素の信号が読み出される。この信号は、ダークレベルとシグナル(Signal)レベルの和となっている。従って、画素の外において、先に読み出したダークレベルとの差をとることにより、2n+1ラインのシグナルレベルのみを取り出すことが可能である。
次に、電源供給源Drainの電位をローレベルにする。この状態で、リセット信号線RESET[2n]とリセット信号線RESET[2n+1]をハイレベルにすることにより、2n+1ラインの画素に対応するフローティングジャンクションがローレベルになり、駆動トランジスタDがカットオフし、2nラインの単位セルUC[m,2n]、UC[m+2,2n]と、2n+1ラインの単位セルUC[m+1,2n+1]に対応するソースフォロワ回路が非活性状態に変化する。2nラインの単位セルのソースフォロワ回路が活性状態に戻るのは、1フレームに相当した時間後に2nラインの画素読み出しのために、RESET[2n]がハイレベルになるになる時であり、その間は非活性状態で保たれる。次に、RESET[2n+1]、RESET[2(n+1)]をハイレベルにすることにより、単位セルUC[m+1,2n+1]が再び活性化し、単位セルUC[m,2(n+1)]、単位セルUC[m+2,2(n+1)]が活性化する。そして、読み出し信号線READ[2(n+1)]をハイレベルにすることにより、2(n+1)ラインの画素に蓄積された信号電荷をフローティングジャンクションに読み出す。以降は2n+1のラインの画素と同様の読み出しシーケンスを繰り返す。
単位セルをこのような構成にすることにより、図7で説明したように複雑なタイミング、すなわち1つの水平ブランキング期間に、複数回のアドレス動作をして、複数回に分けて信号を読み出す必要もなく、従来と同等の駆動方法で画素を駆動することが可能である。また、この発明による高集積化はセルのレイアウト的に有利となる。
なお、この発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、第3,第4の実施形態で説明したように、フローティングジャンクション部分を画素の斜め方向の間隙部に配置し、読み出しゲートを斜め方向に配置することにより、更に高集積化ができる。すなわち、斜め方向に隣接する画素間隙部を有効に利用することにより、出力回路がない垂直方向の画素間隙部は素子分離領域だけになり、該素子分離領域の垂直方向に隣接する画素面積を増やすことができる。
出力回路が画素の隅にある構造では、マイクロレンズにて画素に入射光を結像させる場合、画素部において円形状に集光するため、この画素の隅の部分に出力回路があっても、出力回路部による入射光のケラレは少ない。
また、水平方向には出力回路部がないため、水平方向の開口が広くとれ、開口が横長状になる。画素数が通常は横:縦が4:3の比率又は16:9の比率の横長構造であるため、画素の開口形状としては横長の方がシェーディングに対し影響を受けにくい構成を実現できる。これは、出力回路が画素の横に配置されている従来のCMOSエリアセンサ、または垂直CCDレジスタが画素の横に配置せざるを得ないCCDエリアセンサの縦長状の画素開口に比べ、大きなメリットになる。
また、本実施形態では2×2の4画素で1つの繰り返しユニットを形成する。この構造は現状のベイヤー配列の色フィルタが2×2の4画素単位で色の3原色のR、G、Bが配置されている繰り返しユニットと同じであるため、繰り返し配置の違いによる周期的な不規則性を生じない。しかも、ベイヤー配列の2つのグリーン(Green)は市松状に配置され、本構造でも、市松状の位置にある画素は同じ構造をしており、2つのグリーンでも配置による不規則性は生じない。
更に、イオン注入での素子分離領域の形成方法は、CCDエリアセンサで実績があるように、厚い酸化膜を形成するものに比べて半導体基板に結晶欠陥が発生するのを抑制でき、ジャンクションリークに起因したキズを抑制して画質改善が期待できる。
以上第1乃至第6の実施形態を用いてこの発明の説明を行ったが、この発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、上記各実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件の適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば各実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題の少なくとも1つが解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果の少なくとも1つが得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
この発明の第1の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、CMOSイメージセンサの要部の構成例を示す回路図。 図1に示したCMOSイメージセンサの具体的なパターンレイアウト例を示す平面図。 この発明の第2の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、図1に示したCMOSイメージセンサの他の具体的なパターンレイアウト例を示す平面図。 この発明の第3の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、図1に示したCMOSイメージセンサの更に他の具体的なパターンレイアウト例を示す平面図。 この発明の第4の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、上記図1に示した回路構成の別の具体的なパターンレイアウト例を示す平面図。 この発明の第5の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、CMOSイメージセンサの要部を抽出して示す回路図。 図6に示したCMOSイメージセンサの駆動例を示すタイミングチャート。 図6に示したCMOSイメージセンサのパターンレイアウト例を示す平面図。 この発明の第6の実施形態に係る固体撮像装置について説明するためのもので、CMOSイメージセンサの要部を抽出して示す回路図。 図9に示したCMOSイメージセンサの駆動例を示すタイミングチャート。
符号の説明
PD,PD11〜PD44…フォトダイオード、FJ,FJ11〜FJ23…フローティングジャンクション、RS,RS11〜RS23…リセットトランジスタ、RSL,RSL01〜RSL45…リセット配線、D,D11〜D23…駆動トランジスタ、AD,AD11〜AD23…アドレストランジスタ、ADD,ADD01〜ADD34…アドレス配線、RD…リセットドレイン、TG,TG11〜TG44…転送ゲート(読み出しゲート)、LTG,LTG1〜LTG5…読み出し配線、OUT11〜OUT14,OUT21〜OUT24…出力回路、S1〜S4…信号線。

Claims (5)

  1. 画素が垂直方向、水平方向に夫々所定ピッチで2次元的に配置され、垂直方向に隣接した画素が対をなす画素群と、
    対を成す前記垂直方向に隣接した画素と画素との間隙部から、当該画素対に水平方向に隣接する画素と画素との間隙部に亙って設けられ、当該画素対における選択された一方の画素から読み出された信号電荷に対応する情報を外部に出力する出力回路とを具備し、
    一つの画素対と、前記一つの画素対に対応する前記出力回路とからなる単位セルが市松状に配置され、且つ斜め方向に隣接する前記単位セルにおける画素対の一方は同一の水平ライン上に沿って配置される
    ことを特徴とする固体撮像装置。
  2. 前記各単位セルにおける画素対の間隙部に配置され、前記画素対から対応する前記出力回路への信号電荷の転送を制御する転送ゲート対と、前記各単位セルにおける前記画素対の間隙部に配置され、前記転送ゲート対を介して前記信号電荷が転送されるフローティングジャンクションとを更に具備し、
    前記各単位セルにおける前記出力回路は、前記各単位セルの斜め方向に隣接する4つの単位セルの内、垂直方向に隣接する2つの単位セルの間隙部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 前記各単位セル内における画素対の間隙部で、且つ前記各単位セルの出力回路が配置されている側の端部に配置されるフローティングジャンクションと、前記フローティングジャンクションに対向して画素隅に配置される前記画素対に対応する転送ゲート対とを更に具備し、
    前記各単位セルにおける前記出力回路は、前記各単位セルの斜め方向に隣接する4つの単位セルの内、垂直方向に隣接する2つの単位セルの間隙部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  4. 前記同一の水平ライン上に配置された画素は、前記転送ゲート対における一方の転送ゲートを同時に開いて対応する前記出力回路に転送して読み出すことを特徴とする請求項1乃至3いずれか1つの項に記載の固体撮像装置。
  5. 前記出力回路は、リセットトランジスタと、駆動トランジスタとを備えることを特徴とする請求項1乃至4いずれか1つの項に記載の固体撮像装置。
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