JP4748353B2 - 異物検査装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板の一面側に配設された、表示装置用のカラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、その異物の検査を行う異物検査装置に関する。

近年、フラットディスプレイとして、カラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに使用されている。
カラーの液晶ディスプレイは、構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカラー表示が行われるもので、３原色の制御を行うためにアクティブマトリックス方式および単純マトリックス方式とがあるが、いずれの方式においてもカラーフィルタ（以下ＣＦとも言う）が用いられている。
このカラーフィルタは、例えば、透明基板上にＲ，Ｇ，Ｂの各着色パターンからなる着色層、各画素の境界部分に位置するブラックマトリックス、保護層および透明電極層からなるカラーフィルタ層を備えた、カラーフィルタ形成基板の形態で、液晶ディスプレイに供されている。
このようなカラーフィルタの作製方法としては、染色基材をガラス基板上に塗布し、フォトマスクを介して露光・現像して形成したパターンを染色する染色法、感光性レジスト内に予め着色顔料を分散させておき、フォトマスクを介して露光・現像する顔料分散法や、印刷インキで各色を印刷する印刷法、基板上にパターンニングされた透明電極を使用して電着により各色の着色層を形成する電着法等が知られているが、現在は、顔料分散法が主流となっている。
顔料分散法により作製されるカラーフィルタの作製においては、製造コストの低減の要求やディスプレイの大サイズ化要求等から製造段階での多面付化が進み、処理基板の大型化が進んでいる。

このような、顔料分散法により作製されるカラーフィルタの作製における露光は、通常、プロキシミティ露光方式で、露光用マスク（原版とも言う）の絵柄を、カラーフィルタ形成用のガラス基板の一面に塗布形成された、感光性レジスト内に予め着色顔料を分散させた感光性の着色層に、転写露光する。
しかし、露光マスクとカラーフィルタ形成用の基板のギャップが狭いプロキシミティ露光方式では、何らかの理由によりカラーフィルタ形成用の基板上の着色層に異物が存在すると、露光時に露光用マスクを傷つけてしまうという問題があった。
カラーフィルタ形成用のガラス基板の大サイズ化に伴い、露光マスクも大型化し、非常に高価になってきており、傷つきによる露光用マスクの再作製のコストが問題になっていた。
露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の着色層の異物を検知する装置が望まれていた。
しかし、露光機で露光する直前にカラーフィルタ形成用の基板上の着色層の異物を検知する異物検査をしたい場合、露光機で露光する前の検査であり、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことが必要であり、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約が多くなる。

尚、本願出願人は、特開平１０−４８１４４号公報（特許文献１）において、コンベア等の水平搬送手段で搬送中の、カラーフィルタ層を形成したカラーフィルタ形成基板をラインセンサカメラで撮影した画像を、画像処理して異物を検査する異物検査装置を提案している。
しかし、ここに記載のものは、露光、現像等の工程後に、多面付けで作製されたものを各カラーフィルタ形成基板に切断する切断工程を経た各カラーフィルタ形成基板の異物の検査を行う異物検査装置に関するものである。
特開平１０−４８１４４号公報 露光機で露光する直前にカラーフィルタ形成用の基板上の着色層の異物を検知する異物検査をしたい場合、製造ラインのレイアウトや機器構成の都合上、上記のようなコンベア搬送等の仕組みを露光直前に設けられない場合がある。

上記のように、近年、カラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに使用されており、該カラーの液晶ディスプレイに供されるカラーフィルタ層を備えたカラーフィルタ形成基板のカラーフィルタの形成方法としては、現在では、プロキシミティ露光を用いた顔料分散法によるカラーフィルタの作製が、現在、主流になっているが、製造コストの低減の要求やディスプレイの大サイズ化要求等から製造段階での多面付化が進み、処理基板の大型化が進んでいる。
このような中、最近では、カラーフィルタ形成のための未露光の着色層のパターニングのためのプロキシミティ露光における、露光用マスクの異物による傷つきが問題となってきて、種々の制約はあるが、プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する装置が望まれていた。
本発明はこれに対応するもので、プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査装置で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査装置を提供しようとするものである。

本発明の異物検査装置は、基板の一面側に配設された、カラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、その異物の検査を行う異物検査装置であって、前記未露光の着色層を配設した基板を被検査基板として、被検査基板を水平状態で載置する載置台と、被検査基板の側面側に、未露光の着色層の所望の検査領域を、傾けた角度でレーザ光を照射する、複数のレーザ光照射部と、被検査基板の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配され、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、前記検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する、複数の撮影手段と、前記複数の撮影手段の各撮影手段にて取得された各撮影画像データを画像処理し、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部とを、備えており、各レーザ光照射部は、前記被検査基板の未露光の着色層に対し、線状領域を照射領域とするもので、各レーザ光照射部と前記載置台との天地方向の位置を相対的に変化させることにより、線状照射領域を未露光の着色層面に沿い一次元的に走査して、所定の面領域を照射するものであることを特徴とするものである。
そして、上記の異物検査装置であって、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に均一に広げて出射光とするもので、平面的に広げた状態で、前記未露光の着色層を照射するものであることを特徴とするものである。
あるいは、上記の異物検査装置であって、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に均一に広げて出射光とするもので、平面的に広がったレーザ光を、レンズ系を通して、あるいは、凹面鏡からなる反射ミラーで反射させて平面的な平行光として、前記未露光の着色層を照射するものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの異物検査装置であって、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の感光波長からずれたものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの異物検査装置であって、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の分光透過率が低い波長であることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの異物検査装置であって、前記載置台が、前記プロキシミティ露光を行う際の露光装置のプリアライメントステージであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの異物検査装置であって、前記載置台が、冷却プレートであることを特徴とするものである。
尚、ここで、「傾けた角度でレーザ光を照射する」とは、水平状態の被検査基板に対して直交する方向でない、未露光の着色層側に傾いた方向で、且つ、各レーザ光照射部にて被検査基板に照射された正反射光が各撮影手段にて撮影されない範囲の角度で、レーザ光を照射することを意味する。
また、「その光源からの光を平面的に均一に広げて出射光とする」とは、光源から末広がりに平面的に均一に広げて出射光とすることを意味し、ここでは、末広がりに広がる形状を扇状とも言う。
また、ここでの着色層とは、先に述べた顔料分散法等によるカラーフィルタの作製に用いられる感光性の着色層で、通常は、ＵＶ光に感光性のものである。

本発明に関わる異物検査方法は、基板の一面側に配設された、カラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、その異物の検査を行う異物検査方法であって、前記未露光の着色層を配設した基板を被検査基板として、被検査基板を水平状態で載置台に載置し、被検査基板の側面側から、傾けた角度で、未露光の着色層の所定の検査領域にレーザ光を照射し、被検査基板の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配された、１以上の撮影手段により、前記照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、前記検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得し、取得した撮影画像データを画像処理して、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出することを特徴とするものである。
そして、上記の異物検査方法であって、照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の感光波長からずれたものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの異物検査方法であって、照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の分光透過率が低い波長であることを特徴とするものである。

（作用）
本発明の異物検査装置は、このような構成にすることにより、プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査装置で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査装置の提供を可能としている。
具体的には、未露光の着色層を配設した基板を被検査基板として、被検査基板を水平状態で載置する載置台と、被検査基板の側面側に、未露光の着色層の所望の検査領域を、傾けた角度でレーザ光を照射する、複数のレーザ光照射部と、被検査基板の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配され、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、前記検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する、複数の撮影手段と、前記複数の撮影手段の各撮影手段にて取得された各撮影画像データを画像処理し、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部とを、備えており、各レーザ光照射部は、前記被検査基板の未露光の着色層に対し、線状領域を照射領域とするもので、各レーザ光照射部と前記載置台との天地方向の位置を相対的に変化させることにより、線状照射領域を未露光の着色層面に沿い一次元的に走査して、所定の面領域を照射するものであることにより、これを達成している。
即ち、レーザ光照射部からのレーザ光が、異物に当たる散乱光が発生するが、被検査基板の未露光の着色層の所望領域全域にわたり、レーザ光の照射が行え、未露光の着色層の所望領域全域の異物からの散乱光を撮影することが可能で、更に、画像処理部を備えており、散乱光により撮影された撮影画像データから、未露光の着色層の所望領域全域における異物有無を検知することを可能としている。
レーザ光としては、撮影手段（カメラ）で異物での散乱光を検知できる強度が得られ、未露光の着色層の感光波長を避けたものであれば、特に、限定されない。
ここでは、レーザ光を用いることにより、散乱が起こり易く、レーザ光は直進性が高いので比較的低出力でも光量がかせげる。
更に具体的には、各レーザ光照射部は、前記被検査基板の未露光の着色層に対し、線状領域を照射領域とするもので、各レーザ光照射部と前記載置台との天地方向の位置を相対的に変化させることにより、線状照射領域を未露光の着色層面に沿い一次元的に走査して、所定の面領域を照射するものであり、レーザ光照射部を一体的にして天地方向の相対的位置を管理することは容易で、一次元的走査を精度良く安定的に行うことが容易に可能となる。
この場合、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に広げて出射光とするもので、平面的に広げた状態で、前記未露光の着色層を照射するものである請求項２の発明の形態、あるいはまた、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に広げて出射光とするもので、平面的に広がったレーザ光を、レンズ系を通して、あるいは、凹面鏡からなる反射ミラーで反射させて平面的な平行光として、前記未露光の着色層を照射するものである請求項３の発明の形態が挙げられるが、このようにすることにより、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の重なりを少なくでき、強度的に均一な光で検査領域の殆んど全部を照射することができ、これにより、精度の良く、異物の抽出を可能としている。
また、レーザ光は波長の選択性が高いので、レーザ光の波長（ピーク波長のこと）をある程度感光波長からはずした請求項４の発明の形態とすることにより、レーザ光照射による未露光の着色層の感光を無いものとできる。
例えば、感光波長を避け、波長が６５５ｎｍの赤色レーザを使うこともできる。
また、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、未露光の着色層の分光透過率が低い波長である請求項５の発明の形態とすることにより、未露光の着色層を透過して、反射される光の影響を少なくすることが可能である。
Ｇ色（緑色）あるいはＢ色（青色）の未露光の着色層を、波長が６５５ｎｍの赤色レーザで検査する場合は、これに相当する。
尚、レーザ光を扇状に均一に平面的に広げてビーム整形した光源は、市販されている。画像処理部としては、例えば、撮影画像データを所定の閾地で２値化し、画素の連結度
合を計算し、所定画素数連結していたら、異物欠陥ありと認識する処理を有するものが挙げられる。
現実的には、異物が未露光の着色層から突出した高さ、異物のサイズ、形状によって、散乱光を撮影手段（カメラ）でとらえた場合の輝度とサイズが影響をうけることから、散乱光の強度とサイズが大きいものを、突出した高さが大のものと想定する。
尚、定性的には、異物の形状がギザギザしているほど散乱光強度が強い。
また、通常、異物のサイズが大きいものほど、着色層から突出しており、転写用マスクの傷発生に関係するため、このような画像処理による異物の抽出は有効である。

また、載置台が、前記プロキシミティ露光を行う際の露光装置のプリアライメントステージである請求項６の発明の形態とすることにより、プロキシミティ露光を行う際の露光装置における露光動作を効率的に行うことを可能としている。
尚、カラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する場合、生産性の面から、通常、露光する際のステージに露光用のカラーフィルタ形成用の基板を載置する前に、予め、プリアライメントを行っておくが、このプリアライメントを行うためのステージがプリアライメントステージである。
また、載置台が、冷却プレートであることにより、精度的に良い異物の検出を可能とし、更に、載置台が、露光装置のプリアライメントステージである場合には、精度の良い露光を可能とするものである。

本発明に関わる異物検査方法は、このような構成にすることにより、プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査方法で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査方法の提供を可能としている。

本発明は、上記のように、プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査装置で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査装置の提供を可能とした。

本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明の異物検査装置の実施の形態の１例の概略構成斜視図で、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ２における断面図で、図２は図１に示す異物検査装置のブロック図で、図３は散乱光による撮影を説明するための概略図で、図４（ａ）はレーザ光の照射と照射領域を説明するための平面図で、図４（ｂ）は図４（ａ）のＢ１側から見た図で、図５は複数のレーザ照射部によるレーザ照射を示した図で、図６（ａ）はミラーを用いてレーザ光を平行光とする場合の図で、図６（ｂ）はレンズを用いてレーザ光を平行光とする場合の図で、図７は反射ミラーを用いて反射したレーザ光を照射させる形態の図で、図８は反射ミラーを用いて両側からレーザ光を照射する形態の図である。
図１〜図８中、１０はプリアライメントステージ（載置台とも言う）、２０は被検査基板、３０は撮影手段（ＣＣＤカメラ）、４０はレーザ光照射部、４５はレーザ光、４５Ａは散乱光、４７、４８はレーザ光照射領域、５０は（上下移動できる）レーザ支持台、６０は制御兼処理用パソコン（制御部兼画像処理部とも言う）、８０は異物、９０は凹面反射ミラー、９１、９２は平面反射ミラー、９５はレンズ系である。

はじめに、本発明の異物検査装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例の異物検査装置は、基板の一面側に配設された、カラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、その異物の検査を行う異物検査装置で、プロキシミティ露光を行う露光機（図示していない）用のプリアライメントステージ１０を、異物検査を行う未露光の着色層を配した基板（以下、被検査基板と言う）を載置する載置台とするものである。
尚、先にも述べたが、通常、プロキシミティ露光を行う露光機（図示していない）の露光用のステージに、露光のために未露光の着色層を配した露光用基板を載置する際に、予め、専用のプリアライメントステージにおいてプリアライメントを行い、プリアライメントがなされた後に、露光用基板を露光機（図示していない）の露光用のステージに載せて、露光処理を行う。
そして、未露光の着色層を配設した基板を被検査基板２０として、被検査基板２０を水平状態で載置するプリアライメントステージ１０の他に、被検査基板２０の側面側に、未露光の着色層の所望の検査領域を、傾けた角度でレーザ光４５を照射する、複数のレーザ光照射部４０と、被検査基板２０の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配され、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する、ＣＣＤエリアセンサカメラからなる複数の撮影手段３０と、各撮影手段３０にて撮影した各撮影画像データを画像処理し、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部と各部を制御する制御部を兼ねる制御兼処理用パソコン６０とを、備えている。
本例では、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長を、被検査基板２０の着色層の感光波長からずれたものとしている。
図２に示すブロック図のように、本例の異物検査装置は、制御兼処理用パソコン６０の制御のもと、各部が関連付けて制御されている。

プリアライメントステージ１０は、プロキシミティ露光を行う露光機（図示していない）の露光用のステージに、露光のために未露光の着色層を配した基板を載置する際に、予め、プリアライメントを行っておくためのステージで、若干の、Ｘ、Ｙ位置補正や回転補正を行う機能を有する。
撮影手段３０としては、プロキシミティ露光を行う露光機（図示していない）のプリアライメントステージ１０を載置台としているため、ＣＣＤエリアセンサカメラを用いている。
複数の撮影手段３０により、検査領域全体を撮影でき、検査領域全体の画像データを得ることができる。
撮像手段３０は、図３に示すように、異物８０に照射されたレーザ光４５の散乱光４５Ａを異物箇所として受光して、撮影するもので、併せて、検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する。
尚、角度θは、レーザ光４５と被検査基板とのなす角度で、レーザ光４５は、水平状態の被検査基板に対して直交する方向でない、未露光の着色層側に傾いた方向で、且つ、各レーザ光照射部にて被検査基板２０に照射された正反射光が各撮影手段３０にて撮影されない範囲の角度で、照射される。
レーザ支持台５０は、複数のレーザ光照射部４０を固定して保持し、一体的に上下移動（天地方向移動）できるものである。
制御用パソコン６０は、各撮影手段３０にて撮影した撮影画像データを画像処理し、被検査基板２０の未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部と各部を制御する制御部とを兼ねている。

レーザ光照射部４０は、ここでは、扇状に平面的に均一に広げた状態でレーザ光を照射するもので、複数のレーザ光照射部４０からの照射を併せて、被検査基板２０の未露光の着色層の所定の検査領域を照射するものである。
レーザ光照射部４０は、上下移動（天地方向移動）できるレーザ支持台５０上に固定して保持され、レーザ支持台５０により、上下移動ができる。
各レーザ光照射部４０からのレーザ光は、レーザ光照射部４０位置が固定されている場合には、斜めから着色層の線状領域を照射するもので、例えば、図４（ａ）、図４（ｂ）に示すように、Ｐｈ１位置では、被検査基板２０のＰ１−Ｐ２の線状領域を照射し、また、Ｐｈ２位置では、被検査基板２０のＰ３−Ｐ４の線状領域を照射する。
そして、Ｐｈ１位置からＰｈ２位置まで鉛直方向にレーザ光照射部４０を移動することにより、領域Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４、Ｐ３全体を照射する。
各レーザ光照射部４０のＰｈ１位置からＰｈ２位置までの上下移動中に、各撮影手段３０を撮影状態にしておけば、領域Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４、Ｐ３全体について異物検査を行うことができる。
１つのレーザ光照射部４０では、所望の検査領域全体を検査できず、複数のレーザ光照射部４０を、上下移動できるレーザ支持台５０に載せて、これらを一体にに上下移動させて、所望の検査領域全体を検査できるようにしている。
図５に示すように、各レーザ光照射部４０からの照射領域は、被検査基板２０の着色層上でオーバーラップしている。

レーザ光４５としては、撮影手段（カメラ）３０で異物での散乱光を検知できる強度が得られ、未露光の着色層の感光波長を避けたものであれば、特に、限定されない。
レーザ光４５の波長（ピーク波長のこと）をある程度感光波長からはずすことにより、レーザ光４５照射による未露光の着色層の感光を無いものとできる。
また、未露光の着色層を透過して、反射される光の影響を少なくする面から、各レーザ光照射部４０から照射されるレーザ光４５の波長が、未露光の着色層の分光透過率が低い波長とすることが好ましい。
例えば、着色層として、Ｒ色（赤色）、Ｇ色（緑色）、Ｂ色（青色）の各色のものを検査対象とする場合、レーザ光としては、各色の感光波長をはずした波長が６５５ｎｍの赤色レーザを用いることができる。
特に、Ｇ色（緑色）着色層あるいはＢ色（青色）着色層を検査対象として、波長が６５５ｎｍの赤色レーザを用いる場合には、レーザ光４５の波長が、未露光の着色層の分光透過率が低い波長となり、好ましい。

次いで、本例の異物検査装置の処理フローの１例を、以下、簡単に説明する。
尚、これを以って、本発明に関わる異物検査方法の実施の形態例の説明に代える。
ここでは、図４に示す、被検査基板２０の線状領域Ｐ１−Ｐ２を含むその延長線と、線状領域Ｐ３−Ｐ４を含むその延長線との間、所定幅を検査するものとする。
先ず、被検査基板２０を、プリアライメントステージ１０上、所定の位置に載せる。
レーザ支持台５０を上下移動し、各レーザ光照射部４０を一体として、Ｐｈ１位置まで移動し、Ｐ１−Ｐ２の線状領域を照射する状態とし、更に、照射しながら、各レーザ光照射部４０を一体として、Ｐｈ２位置まで移動する。
Ｐｈ１位置からＰｈ２位置への移動の際には、各撮影手段３０を、引き続き撮影できる状態に設定しておき、この移動の間中撮影する。
各撮影手段３０は、それぞれの撮影領域に異物があれば、レーザ光照明部４０から照射されたレーザ光の散乱光を撮影する。
各撮影手段３０により撮影された撮影画像データは、制御用パソコン６０に送られ、画像処理が施される。
画像処理としては、例えば、撮影画像データを所定の閾地で２値化し、画素の連結度合を計算し、所定画素数連結していたら、異物欠陥ありと認識する処理を行う。
尚、異物が未露光の着色層から突出した高さ、異物のサイズ、形状によって、散乱光を撮影手段（カメラ）でとらえた場合の輝度とサイズが影響をうけることから、散乱光の強度とサイズが大きいものを、突出した高さが大のものと評価しても良い。
このようにして、プロキシミティ露光の際に転写用マスクの傷の原因となる、被露光基板２０の未露光の着色層の異物を抽出することができる。

尚、カラーフィルタ形成用基板は、ブラックマトリクスを配設した基板を除いては透過性を有するので、検査の際、カラーフィルタ形成用基板を透過した光が、載置台（ステージとも言う）上の反射物で反射し明るく光ることにより、２値化画像上に残ってしまい誤情報の原因となる場合がある。
このような反射物の位置は固定化されているので、あらかじめその周囲を非検査領域として登録しておくことにより、該当箇所に所定連結数以上の２値化画像が残っていても欠陥として検出されないようにする。
カラーフィルタ形成用基板に配設されている着色層の分光透過率の低い波長帯のレーザー光を照射光として選択すると、上記の反射物の影響を軽減できる。
即ち、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、未露光の着色層の分光透過率が低い波長とすることにより、未露光の着色層を透過して、反射される光の影響を少なくすることが可能である。

本例は１例で、本発明はこれに限定されるものではない。
本例の場合、各レーザ光照射部は、その光源からの光を扇状に平面的に広げて出射光とし、それをそのまま、被検査基板に照射しているが、図６（ｂ）のように、扇状に平面的に広がったレーザ光を、レンズ系９５を通して、あるいは、図６（ａ）のように、扇状に平面的に広がったレーザ光を、凹面鏡からなる凹面反射ミラー９０で反射させて平面的な平行光として、被検査基板に照射する形態としても良い。
この形態の場合、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の重なりを少なくでき、強度的に均一な光で検査領域の殆んど全部を照射することができ、これにより、精度良く、異物の抽出を可能としている。
また、図７に示すように、レーザ光照射部４０からのレーザ光４５を平面反射ミラー９１で反射させて照射する形態もある。
また、図８に示すように、平面反射ミラー９２を用いて、両側から照射する形態も挙げることができる。

図１（ａ）は本発明の異物検査装置の実施の形態の１例の概略構成斜視図で、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ２における断面図である。 図１に示す異物検査装置のブロック図である。 散乱光による撮影を説明するための概略図である。 図４（ａ）はレーザ光の照射と照射領域を説明するための平面図で、図４（ｂ）は図４（ａ）のＢ１側から見た図である。 複数のレーザ照射部によるレーザ照射を示した図である。 図６（ａ）はミラーを用いてレーザ光を平行光とする場合の図で、図６（ｂ）はレンズを用いてレーザ光を平行光とする場合の図である。 反射ミラーを用いて反射したレーザ光を照射させる形態の図である。 反射ミラーを用いて両側からレーザ光を照射する形態の図である。

符号の説明

１０ プリアライメントステージ（載置台とも言う）
２０ 被検査基板
３０ 撮影手段（ＣＣＤカメラ）
４０ レーザ光照射部
４５ レーザ光
４５Ａ 散乱光
４７、４８ レーザ光照射領域
５０ （上下移動できる）レーザ支持台
６０ 制御兼処理用パソコン（制御部兼画像処理部とも言う）
８０ 異物
９０ 凹面反射ミラー
９１、９２ 平面反射ミラー
９５ レンズ系

Claims (7)

1. 基板の一面側に配設された、カラーフィルタを形成するための未露光の着色層に対し、プロキシミティ露光により転写用マスクの絵柄を転写露光する前に、その異物の検査を行う異物検査装置であって、前記未露光の着色層を配設した基板を被検査基板として、被検査基板を水平状態で載置する載置台と、被検査基板の側面側に、未露光の着色層の所望の検査領域を、傾けた角度でレーザ光を照射する、複数のレーザ光照射部と、被検査基板の前記未露光の着色層形成面と直交する方向、上側に配され、前記レーザ光照射部から照射されたレーザ光の、異物における散乱光を撮影し、前記検査領域全体にわたり、散乱光による撮影画像データを取得する、複数の撮影手段と、前記複数の撮影手段の各撮影手段にて取得された各撮影画像データを画像処理し、前記検査領域全体の、前記未露光の着色層における異物を抽出する画像処理部とを、備えており、各レーザ光照射部は、前記被検査基板の未露光の着色層に対し、線状領域を照射領域とするもので、各レーザ光照射部と前記載置台との天地方向の位置を相対的に変化させることにより、線状照射領域を未露光の着色層面に沿い一次元的に走査して、所定の面領域を照射するものであることを特徴とする異物検査装置。
2. 請求項１に記載の異物検査装置であって、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に均一に広げて出射光とするもので、平面的に広げた状態で、前記未露光の着色層を照射するものであることを特徴とする異物検査装置。
3. 請求項１に記載の異物検査装置であって、各レーザ光照射部は、その光源からの光を平面的に均一に広げて出射光とするもので、平面的に広がったレーザ光を、レンズ系を通して、あるいは、凹面鏡からなる反射ミラーで反射させて平面的な平行光として、前記未露光の着色層を照射するものであることを特徴とする異物検査装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項に記載の異物検査装置であって、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の感光波長からずれたものであることを特徴とする異物検査装置。
5. 請求項１ないし４のいずれか１項に記載の異物検査装置であって、各レーザ光照射部から照射されるレーザ光の波長が、前記未露光の着色層の分光透過率が低い波長であることを特徴とする異物検査装置。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項に記載の異物検査装置であって、前記載置台が、前記プロキシミティ露光を行う際の露光装置のプリアライメントステージであることを特徴とする異物検査装置。
7. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の異物検査装置であって、前記載置台が、冷却プレートであることを特徴とする異物検査装置。

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