JP4743038B2 - エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法に関する。

一般的に、表示装置には、表示データに即した画像を表示するエレクトロルミネッセンス装置（以下単に、「ＥＬ装置」という。）が知られている。ＥＬ装置は、各画素内に陰極と陽極を有し、陰極と陽極との間に発光層、正孔輸送層、電子輸送層等からなる機能層を備えている。ＥＬ装置は、機能層に供給する駆動電流やその駆動時間を制御して表示データに即した画像を表示する。

ＥＬ装置には、高輝度化と低消費電力化を図るために、機能層を有機系の材料によって構成する有機ＥＬ装置が知られている。有機ＥＬ装置に利用する有機形の材料は、フォトリソグラフィに対する耐性が低い。そのため、有機ＥＬ装置の製造工程では、マスクを用いた蒸着法によって機能層のパターニングを行っていた。しかし、蒸着法は、蒸着粒子（有機低分子）の飛行制御が困難であるため、機能層の加工精度を得難く、有機ＥＬ装置の生産性を著しく低下させる問題があった。

そこで、有機ＥＬ装置には、機能層のパターニングを容易にして、ＥＬ装置の生産性を向上させる提案がある。特許文献１は、陽極を囲む撥液性の隔壁を形成し、隔壁で囲まれる領域（陽極上）に発光材料を含む液状体の液滴を吐出させる。そして、特許文献１は、吐出した液状体を乾燥することによって、所定膜厚の機能層を自己整合的に形成させる。これによって、特許文献１は、機能層のパターニングを容易にしてＥＬ装置の生産性を向上させる。
特開２００５−１１６３１３号公報

しかしながら、有機ＥＬ装置の製造工程では、高い生産性と有機材料の安定性を確保するために、全ての画素について成膜工程（例えば、吐出工程、乾燥工程、上層成膜工程等）を共通させている。

そのため、ＥＬ装置のサイズを大型化すると、一度の成膜工程で成膜する機能層の成膜領域が拡大する。この結果、液滴を乾燥させるときに、各画素内の液滴が、より広範囲の液滴と相互作用して（例えば、溶媒分圧を上昇して）、乾燥速度を変動させる。ひいては、各画素内の液滴が、対応する機能層の膜厚均一性を劣化させる。また、一部の画素をサイズ変更する場合にも、既存する画素内の液滴が、サイズの変更された画素内の液滴と相互作用して、対応する機能層の膜厚均一性を劣化させる。さらには、一部の機能層を材料変更する場合にも、既存する画素内の液滴が、材料の変更された画素内の液滴と相互作用して、対応する膜厚均一性を劣化させる。

この結果、上記ＥＬ装置では、各種の設計を変更するたびに、全ての機能層について成膜条件を見直さなければならず、ＥＬ装置の生産性を著しく低下させる問題を招いていた。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、装置サイズや画素サイズ、機能層の種別などの各種設計変更を容易にして生産性を向上したエレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法を提供することである。

本発明のエレクトロルミネッセンス装置は、透明基板と、前記透明基板の一側面に配列された複数の透明電極と、棒状の対向電極と前記対向電極の外側面に積層された発光層を含む機能層とからなる複数の発光棒と、前記複数の発光棒の各々を保持する複数の凹溝が形成された保持手段としての封止基板と、互いに積層された前記透明基板と前記封止基板との隙間を前記封止基板の外縁にて封止する封止層と、を備え、前記複数の発光棒の各々の前記機能層は、前記複数の透明電極に接続してなり、前記封止基板は、複数の前記透明電極が配列された前記透明基板の一側面と対向する保持面に複数の凹溝を有してなり、前記発光棒は、前記凹溝に配置されるとともに、前記機能層を露出しつつ前記保持面から突出するように前記封止基板によって保持され、前記保持面から突出する前記発光棒によって前記透明基板と前記封止基板との間に前記隙間が形成され、前記封止層は、大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを前記隙間に封止する。

本発明のエレクトロルミネッセンス装置（以下単に、「ＥＬ装置」という。）によれば、透明基板に取り付ける発光棒の本数を増加するだけで、ＥＬ装置のサイズの大型化を図ることができる。したがって、機能層の膜厚均一性を維持した状態で、ＥＬ装置の大型化を図ることができる。この結果、ＥＬ装置の大型化を容易にして、その生産性を向上させることができる。
そして、封止基板が備える凹溝から突出するように保持される発光棒によって互いに積層された透明基板と封止基板との間に形成される隙間に対して、大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを封入するようにした。その結果、透明基板と封止基板とが大気圧によって互いに密着するように押圧される。すなわち、透明基板と封止基板との隙間において、各透明電極が大気圧によって各発光棒に押圧される。それゆえに、各機能層と各透明電極とを、より確実に電気的に接続させることができる。さらにまた、透明基板と封止基板との間の空間に不活性ガスを封入させるため、発光棒の電気的安定性を確保することができる。そして封止層によって、水分や酸素等の機能層への侵入を遮断することができ、ＥＬ装置を長寿命化することができる。

このＥＬ装置において、前記複数の発光棒は、それぞれ異なる色の光を発光する前記発光層を有した構成であってもよい。
このＥＬ装置によれば、色再現範囲を拡張する場合に、既存する発光層を維持させて、追加する種別の発光棒（機能層）についてのみ、新たに膜厚や膜厚分布を調整すればよい。したがって、発光層の種類を容易に増加させることができ、ＥＬ装置の色再現範囲を容易に拡張できる。ひいては、ＥＬ装置の生産性を向上させることができる。

このＥＬ装置において、前記複数の発光棒は、それぞれ前記対向電極の太さに応じて予め規定された色の光を発光する前記発光層を有した構成であってもよい。
このＥＬ装置によれば、画素のサイズを変更する場合に、既存の発光層の製造工程を維持させて、サイズ変更する種別の発光棒（機能層）についてのみ、膜厚や膜厚分布を調整すればよい。したがって、画素のサイズを容易に変更させることができ、ＥＬ装置の色再現性を容易に向上させることができる。ひいては、ＥＬ装置の生産性を向上させることができる。

このＥＬ装置において、前記複数の発光棒は、赤色の光を発光する赤色用発光層を有した発光棒と、緑色の光を発光する緑色用発光層を有した発光棒と、青色の光を発光する青色用発光層を有した発光棒と、を含む構成であってもよい。

このＥＬ装置によれば、ＥＬ装置の色再現範囲を、加法混色によって、容易に拡張できる。
このＥＬ装置において、前記赤色用発光層を有する前記発光棒は、前記青色用発光層を有する前記発光棒よりも太く、前記緑色用発光層を有する前記発光棒は、前記青色用発光層を有する前記発光棒よりも太い構成であってもよい。

このＥＬ装置によれば、赤色用の画素サイズと緑色用の画素サイズの双方を、青色用の画素サイズよりも大きくすることができる。したがって、各色用の画素サイズを人間の視覚特性に合わせることができ、同じ視覚画像を表示させる場合に、より少ない画素数によって構成させることができる。

このＥＬ装置において、前記複数の発光棒は、赤色、緑色、青色のいずれか１つの補色の光を発光する補色発光層を有した発光棒をさらに含む構成であってもよい。
このＥＬ装置によれば、ＥＬ装置の色再現範囲を、光の３原色と補色関係にある光によって、容易に拡張させることができる。

このＥＬ装置において、前記発光棒は、前記透明電極に沿う前記機能層を有した構成であってもよい。
このＥＬ装置によれば、透明電極と機能層を面接触させることができ、ＥＬ装置の電気的特性を安定化させることができる。

このＥＬ装置において、前記発光棒は、軸心方向から見て断面矩形状に形成されて、前記透明電極に沿う前記対向電極有した構成であってもよい。
このＥＬ装置によれば、対向電極と透明電極との間の空間を均一にさせることができ、対向電極と透明電極との間に、均一な膜厚の機能層を挟入させることができる。したがって、各画素内の発光輝度を均一にさせることができる。

このＥＬ装置において、前記機能層は、少なくとも正孔輸送層、正孔障壁層、電子輸送層、電子障壁層のいずれか１つを含むようにしてもよい。
このＥＬ装置によれば、少なくとも正孔輸送層、正孔障壁層、電子輸送層、電子障壁層のいずれか１つを有する分だけ、ＥＬ装置の発光特性を向上させることができる。

本発明のＥＬ装置の製造方法は、透明基板の一側面に複数の透明電極を配列形成する透明電極形成工程と、棒状に形成された対向電極の外側面に発光層を含む機能層を積層して複数の発光棒を形成する発光棒形成工程と、封止基板が有する複数の凹溝の各々に対して、前記複数の凹溝が形成された前記封止基板の保持面から前記発光棒が突出するように前記発光棒を配置した後、前記複数の発光棒の各々の前記機能層が前記複数の前記透明電極に接続されるように前記封止基板と前記透明基板とを互いに積層させる発光棒取付け工程と、前記保持面から突出する前記発光棒によって前記透明基板と前記保持基板との間に隙間が形成され、前記隙間に対して大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを封入する不活性ガス封入工程と、を備えた。

本発明のＥＬ装置の製造方法によれば、発光棒取付け工程で取付ける発光棒の本数を増加させるだけで、ＥＬ装置の大型化を図ることができる。したがって、機能層の膜厚均一性を維持した状態でＥＬ装置の大型化を図ることができる。この結果、ＥＬ装置の大型化を容易にして、その生産性を向上させることができる。
そして不活性ガス封入工程において、封止基板が備える凹溝から突出するように配置される発光棒によって互いに積層された透明基板と封止基板との間に形成される隙間に対して、大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを封入するようにした。その結果、透明基板と封止基板とが大気圧によって互いに密着するように押圧される。すなわち、透明基板と封止基板との間において、各透明電極が大気圧によって各発光棒に押圧される。それゆえに、各機能層と各透明電極とを、より確実に電気的に接続させることができる。さらにまた、透明基板と封止基板との間の隙間に不活性ガスを封入させるため、発光棒の電気的安定性を確保することができる。そして不活性ガスの封入によって、水分や酸素等の機能層への侵入を遮断することができ、ＥＬ装置を長寿命化することができる。

このＥＬ装置の製造方法において、前記発光棒形成工程は、複数の前記対向電極に、それぞれ異なる色の光を発光する発光層を積層して前記複数の発光棒を形成する構成であってもよい。

このＥＬ装置の製造方法によれば、異なる発光層を有した発光棒を透明基板に取付けるだけで、発光する光の色数を増加させることができる。したがって、色再現範囲を拡張する場合に、既存の発光棒形成工程を維持させて、追加する種別の発光棒（機能層）についてのみ、新たに膜厚や膜厚分布を調整すればよい。したがって、発光層の種類を容易に増加させることができ、ＥＬ装置の色再現範囲を容易に拡張できる。ひいては、ＥＬ装置の生産性を向上させることができる。

このＥＬ装置の製造方法において、前記発光棒形成工程は、複数の前記対向電極に、それぞれ前記対向電極の太さに応じて予め規定された色の光を発光する前記発光層を積層して前記複数の発光棒を形成する構成であってもよい。

このＥＬ装置の製造方法によれば、発光棒形成工程で形成する発光棒の太さを変更する
だけで、ＥＬ装置の画素サイズを変更させることができる。したがって、画素のサイズを変更する場合に、既存の発光層の製造工程を維持させて、サイズ変更する種別の発光棒（機能層）についてのみ、膜厚や膜厚分布を調整すればよい。したがって、画素のサイズを容易に変更させることができ、ＥＬ装置の色再現性を容易に向上させることができる。ひいては、ＥＬ装置の生産性を向上させることができる。

（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図６に従って説明する。
図１に示すように、ＥＬ装置１０は、四角板状に形成された透明基板１２を有している。透明基板１２は、無アルカリガラス等の透明無機材料、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート等の透明樹脂材料からなる基板である。透明基板１２のサイズ（Ｘ方向の幅×Ｙ方向の幅）は、約２４００ｍｍ×約２２００ｍｍで形成される大型の基板であるが、このサイズに限定されるものではない。

透明基板１２の一側面（走査線形成面１２ａ）には、透明電極を構成する複数（ｍ本）の走査線１３が配設されている。各走査線１３は、それぞれＸ方向に延びる帯状に形成されて、Ｙ方向に沿って等間隔に配列されている。走査線１３は、仕事関数の高い光透過性の導電材料（例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ））で形成された陽極である。各走査線１３は、それぞれ透明基板１２の一側端に接続されたＦＰＣ（フレキシブル基板）１４によって走査線駆動回路１５に電気的に接続されている。走査線駆動回路１５は、図示しない制御回路の出力する各種制御信号やクロック信号に基づいて走査信号を生成する。走査線駆動回路１５は、複数の走査線１３の中から所定の走査線１３を所定のタイミングで順次選択し、選択した走査線１３に走査信号を出力する。

各走査線１３の上側には、発光棒としての複数（ｎ本）のエレクトロルミネッセンス棒（以下単に、「ＥＬ棒」という。）２０が配設されている。各ＥＬ棒２０は、それぞれＹ方向に延びる四角柱状に形成されて、各走査線１３と交差するように、Ｘ方向に沿って等間隔に配列されている。

本実施形態では、これらｎ本のＥＬ棒２０と、前記ｍ本の走査線１３と、が交差するｍ個×ｎ個の領域を、「画素領域Ｓ」という。
図２に示すように、各ＥＬ棒２０には、それぞれ対向電極としてのデータ線２１が備えられている。各データ線２１の外側面２１ａには、それぞれデータ線２１側から順に、発光層２２と正孔輸送層２３が積層されている。

各データ線２１は、Ｙ方向に延びる四角柱状に形成された陰極であって、仕事関数の低い導電性材料（例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂの金属元素単体等）によって形成されている。各データ線２１のサイズ（Ｘ方向の幅×Ｙ方向の幅×Ｚ方向の幅）は、１ｍｍ×２０００ｍｍ×０．５ｍｍであるが、このサイズに限られるものではない。

図１に示すように、各データ線２１は、それぞれＦＰＣ１４によってデータ線駆動回路２４に電気的に接続されている。データ線駆動回路２４は、図示しない制御回路からの各種制御信号や表示データに基づいてデータ信号を生成する。データ線駆動回路２４は、各データ線２１に、対応するデータ信号を所定のタイミングで出力する。

図２に示すように、各発光層２２は、データ線２１の外側面２１ａの全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層であって、発光層材料としてのフルオレン−ジチオフェンコ
ポリマー（以下単に、「Ｆ８Ｔ２」という。）で形成されている。各発光層２２には、それぞれ対応するデータ線２１に入力されたデータ信号に対応する電子が注入される。

発光層材料は、「Ｆ８Ｔ２」に限らず、以下に示す公知の低分子系の発光層材料、あるいは高分子系の発光層材料を利用することができる。
低分子系の発光層材料としては、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、クマリン誘導体物、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等の金属錯体等を利用することができる。

高分子系の発光層材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレノン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、ポリビニレンスチレン誘導体、及びそれらの共重合体、トリフェニルアミンやエチレンジアミン等を分子核とした各種デンドリマー等を利用することができる。

各正孔輸送層２３は、発光層２２の外側面２２ａの全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層であって、正孔輸送層材料としてのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（以下単に、「ＰＥＤＯＴ」という。）で形成されている。正孔輸送層２３は、それぞれ交差するｍ本の走査線１３と面接触で接続されて、各走査線１３から注入された正孔を、対応する画素領域Ｓの発光層２２まで輸送する。

正孔輸送層材料は、「ＰＥＤＯＴ」に限らず、以下に示す公知の低分子系の発光層材料、あるいは高分子系の発光層材料を利用することができる。
低分子系の正孔輸送層材料としては、ベンジジン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチリルアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ピラゾリン誘導体、カルバゾール誘導体、ポルフィリン化合物等を利用することができる。

高分子系の正孔輸送層材料としては、上記低分子構造を一部に含む（主鎖あるいは側鎖にする）高分子化合物、あるいはポリアニリン、ポリチオフェンビニレン、ポリチオフェン、瘁|ナフチルフェニルジアミン、「ＰＥＤＯＴ」とポリスチレンスルホン酸との混合
物（Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ、バイエル社商標）、トリフェニルアミンやエチレンジアミン等を分子核とした各種デンドリマー等を利用することができる。

図２の２点鎖線で示すように、各ＥＬ棒２０の上側には、保持手段を構成する保持基板としての封止基板２５が配設されている。封止基板２５は、ガスバリヤ性を有した基板であって、その透明基板１２側の側面（保持面２５ａ）には、Ｙ方向に沿う複数の凹溝（案内溝２５ｂ）が、Ｘ方向に沿って等間隔に形成されている。各案内溝２５ｂは、それぞれＥＬ棒２０の配列位置と対応する位置に形成されている。各案内溝２５ｂは、それぞれＥＬ棒２０のＸ方向の幅と略同じ大きさの溝幅で形成されて、対応するＥＬ棒２０をＹ方向に沿って案内する。

図１に示すように、封止基板２５と透明基板１２との間であって、封止基板２５及び透明基板１２の外縁には、四角枠状の封止層２６が形成されている。封止層２６は、ガスバリヤ性を有した光透過性の無機あるいは有機高分子膜であって、封止基板２５（ＥＬ棒２０）を透明基板１２（走査線１３）に密着させる。また、封止層２６は、封止基板２５と透明基板１２との間の空間（各データ線２１、各発光層２２、各正孔輸送層２３及び各走査線１３）を封止して、該空間内への水分や酸素等の侵入を遮断する。

そして、走査線駆動回路１５の線順次走査に基づいて各走査線１３が１本ずつ順次選択されて、データ線駆動回路２４からのデータ信号が対応するデータ線２１に順次入力される。すると、選択された各走査線１３に対応する各画素領域Ｓで、それぞれ走査線１３からの走査信号に対応した正孔と、データ線２１からのデータ信号に対応した電子が発光層２２に注入される。走査線１３からの正孔とデータ線２１からの電子が発光層２２に注入されると、各画素領域Ｓに対応する発光層２２内で正孔と電子の再結合によるエキシトン（励起子）が生成されて、このエキシトンが基底状態に戻るときのエネルギー放出によって、蛍光あるいは燐光の光Ｌが発光される。各画素領域Ｓで発光した光Ｌは、対峙する走査線１３と透明基板１２を通過して、走査線形成面１２ａと相対向する透明基板１２の一側面（表示面１２ｂ）から出射される。これによって、表示データに基づく表示画像が、透明基板１２の表示面１２ｂに表示される。

次に、上記ＥＬ装置１０を製造する製造方法について、以下に説明する。
まず、図３に示すように、透明基板１２の走査線形成面１２ａに、複数の走査線１３を形成する（透明電極形成工程としての走査線形成工程）。すなわち、光透過性の導電性材料を利用したスクリーン印刷法やインクジェット法等の液相プロセス、あるいは蒸着法やスパッタ法等の気相プロセスを利用して、透明基板１２の走査線形成面１２ａに、Ｘ方向に延びる複数の走査線１３を形成する。

走査線１３を形成すると、発光棒形成工程を構成する発光層形成工程を行う。すなわち、図４に示すように、透明基板１２に組み付けられていない状態のデータ線２１を、前記「Ｆ８Ｔ２」を含む液状体（発光層形成液２２Ｌ）に浸漬して引き出す。そして、データ線２１の外側面２１ａに堆積した発光層形成液２２Ｌの液状膜２２Ｆを乾燥することによって発光層２２を形成する。これによって、各発光層２２は、それぞれ透明基板１２から独立した製造工程によって形成される。

発光層２２を形成すると、発光棒形成工程を構成する正孔輸送層形成工程を行なう。すなわち、図５に示すように、発光層２２を形成した状態のデータ線２１を、前記「ＰＥＤＯＴ」を含む液状体（正孔輸送層形成液２３Ｌ）に浸漬して引き出す。そして、前記発光層２２の外側面２２ａに堆積した正孔輸送層形成液２３Ｌの液状膜２３Ｆを乾燥することによって正孔輸送層２３を形成する。これによって、各正孔輸送層２３は、発光層２２と同じく、それぞれ透明基板１２から独立した製造工程によって形成される。発光層２２は、ＥＬ棒２０を透明基板１２（各走査線１３）に組み付けることによって機能する。

発光層２２及び正孔輸送層２３を形成してＥＬ棒２０を形成すると、透明基板１２にＥＬ棒２０を取付ける発光棒取付け工程を行う。すなわち、図６に示すように、まず、封止基板２５の保持面２５ａを上側にして、各案内溝２５ｂ内に、複数の前記ＥＬ棒２０を配置する。封止基板２５に各ＥＬ棒２０を配置すると、封止基板２５の外縁に沿って紫外線硬化性樹脂２６Ｌを塗布し、封止基板２５及び透明基板１２を、不活性ガスの減圧雰囲気下に搬送して、各ＥＬ棒２０と各走査線１３が交差するように、前記透明基板１２を前記封止基板２５上に載置して貼り合せる。そして、貼り合せた状態の透明基板１２及び封止基板２５を大気に解放し、紫外線硬化性樹脂２６Ｌに紫外線を照射して硬化する。

これによって、透明基板１２と封止基板２５との間に、走査線１３及びＥＬ棒２０を挟入させて、透明基板１２と封止基板２５を密着させることができる。また、各走査線１３が大気圧によって各ＥＬ棒２０（正孔輸送層２３）に押圧されるため、各正孔輸送層２３と各走査線１３を、より確実に電気的に接続させることができる。さらにまた、透明基板１２と封止基板２５との間の空間に不活性ガスを封入させるため、ＥＬ棒２０の電気的安定性を確保させることができる。

次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、データ線２１の外側面２１ａに発光層２２と正孔輸送層２３を積層して四角柱状のＥＬ棒２０を形成した。また、複数のＥＬ棒２０を透明基板１２の走査線１３上に配列して、配列した各ＥＬ棒２０をそれぞれ走査線１３に押圧する封止基板２５を設けた。そして、封止基板２５と透明基板１２の外縁に、封止基板２５と透明基板１２との間の空間、すなわち各データ線２１、各発光層２２、各正孔輸送層２３及び各走査線１３を封止する封止層２６を設けた。

したがって、発光層２２と正孔輸送層２３の膜厚の均一性を損なうこと無く、配列するＥＬ棒２０の本数を増加させるだけで、ＥＬ装置１０のサイズの大型化を図ることができる。その結果、ＥＬ装置１０のサイズを大型化する場合に、既存の製造工程を流用させることができ、ＥＬ装置１０の大型化を容易にさせることができる。ひいては、ＥＬ装置１０の生産性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、発光層２２や正孔輸送層２３等を成膜するための製造装置や付帯設備の大型化を要しない。そのため、ＥＬ装置１０のサイズの大型化を、さらに容易にすることができる。

（３）上記実施形態によれば、データ線２１（ＥＬ棒２０）を四角柱状に形成するため、正孔輸送層２３を各走査線１３に面接触させることができ、正孔輸送層２３と走査線１３との電気的接続を安定させることができる。ひいては、ＥＬ装置１０の電気的特性を安定させることができる。

（４）上記実施形態によれば、データ線２１の外側面２１ａの全体に、発光層２２及び正孔輸送層２３を形成した。したがって、ＥＬ棒２０の配置方向に関わらず、データ線２１と走査線１３との間に、確実に発光層２２及び正孔輸送層２３を介在させることができる。その結果、ＥＬ棒２０の配置位置に位置ズレを来たす場合であっても、データ線２１と走査線１３との間に、確実に発光層２２及び正孔輸送層２３を介在させることができる。よって、データ信号に基づく光Ｌを、対応する発光層２２から出射させることができる。
（第２実施形態）
以下、本発明を具体化した第２実施形態を図７〜図１０に従って説明する。第２実施形態は、第１実施形態のＥＬ棒２０の発光色やサイズなどを変更したものである。そのため、以下では、ＥＬ棒２０の変更点について説明する。

図７に示すように、走査線１３の上側には、Ｙ方向に延びる四角柱状に形成された複数（ｎ本）のＥＬ棒２０が各走査線１３と交差するように配設されている。各ＥＬ棒２０は、それぞれＸ方向に沿って配列されている。

ＥＬ棒２０は、赤色用ＥＬ棒２０Ｒ、緑色用ＥＬ棒２０Ｇ及び青色用ＥＬ棒２０Ｂによって構成されて、赤色用、緑色用、青色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの順に繰り返し配列されている。各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの軸心には、それぞれ対向電極としての赤色用データ線２１Ｒ、緑色用データ線２１Ｇ及び青色用データ線２１Ｂが備えられている。赤色用データ線２１Ｒの横幅（Ｘ方向の幅）と、緑色用データ線２１Ｇの横幅は、青色用データ線２１Ｂの横幅よりも大きく形成されている。各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂは、それぞれ前記データ線駆動回路２４（図１参照）に電気的に接続されている。データ線駆動回路２４は、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂに、それぞれ対応するデータ信号を所定のタイミングで出力する。

各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの外側面には、それぞれ赤色用発光層２２Ｒ、緑色用発光層２２Ｇ及び青色用発光層２２Ｂが形成されている。各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの外側面の全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層である。赤色用発光層２２Ｒの横幅と、緑色用発光層２２Ｇの横幅は、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇの太さによって、青色用発光層２２Ｂの横幅よりも大きく形成されている。

各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、それぞれ発光する光の波長領域が光の三原色に対応する発光層材料で構成されている。そして、赤色用発光層２２Ｒ、緑色用発光層２２Ｇ及び青色用発光層２２Ｂは、それぞれ赤色、緑色及び青色に対応する波長領域の光を発光する。本実施形態では、赤色用発光層２２Ｒにポリ（３−メトキシ６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）を用い、緑色用発光層２２Ｇにジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体を用い、青色用発光層２２Ｂにポリジオクチルフルオレンを用いている。

各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの外側面には、それぞれ正孔輸送層２３が形成されている。各正孔輸送層２３は、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの外側面の全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層である。各正孔輸送層２３は、第１実施形態と同じく、それぞれ交差する走査線１３と面接触で接続されている。赤色用ＥＬ棒２０Ｒの正孔輸送層２３の横幅と、緑色用ＥＬ棒２０Ｇの正孔輸送層２３の横幅は、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇの太さによって、青色用ＥＬ棒２０Ｂの正孔輸送層２３の横幅よりも大きく形成されている。

これによって、赤色用データ線２１Ｒの正孔輸送層２３と緑色用データ線２１Ｇの正孔輸送層２３は、それぞれ青色用データ線２１Ｂの正孔輸送層２３よりも広い面積で各走査線１３と接続する。

すなわち、図８に示すように、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの画素領域Ｓのサイズは、対応する各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの横幅によって規定される。画素領域Ｓのサイズは、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの横幅を拡大縮小させるだけで、その大きさを変更できる。本実施形態では、赤色用ＥＬ棒２０Ｒの横幅と、緑色用ＥＬ棒２０Ｇの横幅が、青色用ＥＬ棒２０Ｂの横幅よりも太く形成されている。そのため、赤色に対応する画素領域Ｓと、緑色に対応する画素領域Ｓのサイズが、青色に対応する画素領域Ｓのサイズよりも大きく設定されている。

図７に示すように、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの上側には、第１実施形態と同じく、保持手段を構成する封止基板２５が配設されている。封止基板２５の保持面２５ａには、Ｙ方向に沿う複数の案内溝２５ｂが、Ｘ方向に配列形成されている。各案内溝２５ｂは、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの横幅と略同じ大きさの溝幅で形成されている。各案内溝２５ｂは、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの配列位置と対応する位置に形成されて、対応する各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０ＢをそれぞれＹ方向に沿って案内する。

各走査線１３からの正孔と各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂからの電子は、それぞれ対応する各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに注入される。画素領域Ｓに対応する各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、それぞれ正孔と電子の再結合によるエキシトン（励起子）を生成し、このエキシトンが基底状態に戻るときのエネルギー放出によって、各色に対応した波長領域の光Ｌを発光する。各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの発光した光Ｌは、対峙する走査線１３と透明基板１２を通過して、走査線形成面１２ａと相対向する透明基板１２の一側面（表示面１２ｂ）から出射される。

したがって、ＥＬ装置１０は、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの横幅を変更させるだけで、各色の出射領域（画素領域Ｓ）のサイズを変更させることができる。そのため、画素サイズを設計変更する場合には、既存するＥＬ棒２０を流用させることができ、画素サイズの変更対象となるＥＬ棒２０についてのみ横幅を変更させるだけでよい。この結果、ＥＬ装置１０の生産性と表示画像の色再現性を向上させることができる。

次に、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｇの製造方法について以下に説明する。
図９に示すように、まず、透明基板１２に組み付けられていない状態の各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを、それぞれ対応する色用の発光層形成液２２Ｌに浸漬して引き出す。そして、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの外側面に堆積した発光層形成液２２Ｌの液状膜２２Ｆを乾燥することによって、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成する。

この際、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、それぞれ透明基板１２を利用することなく、対応する各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂごとに成膜される。しかも、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの膜厚や膜質は、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂに対する発光層形成液２２Ｌの後退接触角θ１と、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂのサイズに依存する。よって、画素領域Ｓのサイズを変更する場合には、変更対照となるデータ線（例えば、青色用データ線２１Ｂ）についてのみ、成膜条件を見直すだけでよい。

図１０に示すように、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成すると、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを、それぞれ正孔輸送層形成液２３Ｌに浸漬して引き出す。そして、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの外側面に堆積した正孔輸送層形成液２３Ｌの液状膜２３Ｆを乾燥することによって正孔輸送層２３を形成する。

この際、各正孔輸送層２３は、それぞれ透明基板１２を利用することなく、対応する各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂごとに成膜される。しかも、各正孔輸送層２３の膜厚や膜質は、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに対する正孔輸送層形成液２３Ｌの後退接触角θ２と、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂのサイズに依存する。よって、各画素領域Ｓのサイズを変更する場合には、変更対照となるデータ線（例えば、青色用データ線２１Ｂ）についてのみ、成膜条件を見直すだけでよい。

次に、上記のように構成した第２実施形態の効果を以下に記載する。
（５）上記実施形態によれば、透明基板１２の各走査線１３に、横幅の異なる四角柱状の各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂを接続した。そして、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂの横幅を変更することによって、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂごとに、画素領域Ｓのサイズを変更する構成にした。

したがって、各画素領域Ｓのサイズを変更する場合には、変更対象となるデータ線についてのみ、成膜条件を見直すだけでよい。この結果、画素サイズの変更を簡便にすることができ、ＥＬ装置１０の色再現性の向上を容易にすることができる。

（６）上記実施形態によれば、各色用データ線２１を四角柱状に形成し、正孔輸送層２３と各走査線１３とを面接触させる構成にした。したがって、正孔輸送層２３と走査線１３との間の電気的接続を安定させることができ、画素領域Ｓのサイズを正確に規定することができる。この結果、各画素領域Ｓからの発光輝度を、所望の輝度に安定制御することができる。

（７）上記実施形態では、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを設け、光の三原色に対応する色の光Ｌを発光する構成にした。そして、赤色用及び緑色用の画素領域Ｓが、青色用の画素領域Ｓよりも大きくなる構成にした。したがって、各画素領域Ｓのサイズを人間の視覚特性に合わせることができ、加法混色を利用した色再現性を向上させることができる。
（第３実施形態）
以下、本発明を具体化した第２実施形態を図１１に従って説明する。第３実施形態は、第１実施形態のＥＬ棒２０の発光色を変更したものである。そのため、以下では、ＥＬ棒２０の変更点について説明する。

図１１に示すように、走査線１３の上側には、Ｙ方向に延びる四角柱状に形成された複数（ｎ本）のＥＬ棒２０が各走査線１３と交差するように配設されている。各ＥＬ棒２０は、それぞれＸ方向に沿って等間隔に配列されている。

ＥＬ棒２０は、赤色用ＥＬ棒２０Ｒ、イエロ（黄色）用ＥＬ棒２０Ｙ、緑色用ＥＬ棒２０Ｇ、補色発光層であるシアン（青緑色）用ＥＬ棒２０Ｃ、青色用ＥＬ棒２０Ｂ、マゼンタ（赤紫色）用ＥＬ棒２０Ｍ、によって構成されている。ＥＬ棒２０は、赤色用、イエロ用、緑色用、シアン用、青色用、マゼンタ用の順に繰り返し配列されている。

これら各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍ，の軸心には、それぞれ対向電極としての赤色用データ線２１Ｒ、黄色用データ線２１Ｙ、緑色用データ線２１Ｇ、青緑色用データ線２１Ｃ、青色用データ線２１Ｂ、赤紫色用データ線２１Ｍ、が備えられている。各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍは、それぞれ前記データ線駆動回路２４（図１参照）に電気的に接続されている。データ線駆動回路２４は、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍに、それぞれ対応するデータ信号を所定のタイミングで出力する。

各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍの外側面には、それぞれ赤色用発光層２２Ｒ、黄色用発光層２２Ｙ、緑色用発光層２２Ｇ、青緑色用発光層２２Ｃ、青色用発光層２２Ｂ、赤紫色用発光層２２Ｍ、が形成されている。各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍは、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍの外側面の全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層である。各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍは、それぞれ発光する光の波長領域が、光の三原色と色の三原色に対応する有機系の発光層材料で構成されている。すなわち、赤色用発光層２２Ｒ、黄色用発光層２２Ｙ、緑色用発光層２２Ｇ、青緑色用発光層２２Ｃ、青色用発光層２２Ｂ、赤紫色用発光層２２Ｍ、が、それぞれ赤色、黄色、緑色、青緑色、青色、赤紫色に対応する波長領域の光を発光するように構成されている。

各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍの外側面には、それぞれ正孔輸送層２３が形成されている。各正孔輸送層２３は、各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍの外側面の全体にわたって均一な膜厚で積層された有機層である。各正孔輸送層２３は、それぞれ交差する走査線１３と面接触で接続される。

各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍの上側には、２点鎖線で示すように、保持手段を構成する封止基板２５が配設されている。封止基板２５の保持面２５ａには、Ｙ矢印方向に沿う複数の案内溝２５ｂがＸ矢印方向に等間隔で配列形成されている。各案内溝２５ｂの形成位置は、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｃ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍの配列位置に対応する位置に形成されて、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０ＭをＹ矢印方向に沿って案内支持する。

各走査線１３からの正孔と各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍからの電子は、それぞれ対応する各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍに注入される。画素領域Ｓに対応する各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍは、正孔と電子の再結合によるエキシトン（励起子）を生成する。そして、このエキシトンが基底状態に戻るときのエネルギー放出によって、各色に対応した波長領域の光Ｌを発光する。各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍの発光した光Ｌは、対峙する走査線１３と透明基板１２を通過して、走査線形成面１２ａと相対向する透明基板１２の一側面（表示面１２ｂ）から出射される。

したがって、ＥＬ装置１０は、走査線１３上に配列させた赤色用ＥＬ棒２０Ｒ、緑色用ＥＬ棒２０Ｇ及び青色用ＥＬ棒２０Ｂによって、加法混色に基づく表示画像を表示することができ、さらに青緑色用ＥＬ棒２０Ｃ、赤紫色用ＥＬ棒２０Ｍ及び黄色用ＥＬ棒２０Ｙによって、減法混色に基づく表示画像を表示することができる。この結果、ＥＬ装置１０は、走査線１３上に配列させるＥＬ棒２０の色種の分だけ表示画像の色再現範囲を拡張させることができる。そして、所望する色種の光を発光するＥＬ棒２０を他色種（例えば白色等）のＥＬ棒２０と交換するだけで、表示画像の色再現範囲を拡張させることができる。

各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍは、第２実施形成と同じく、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍを、それぞれ対応する色用の発光層形成液２２Ｌに浸漬し、液状膜２２Ｆを乾燥することによって形成される。また、各正孔輸送層２３は、第２実施形態と同じく、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍを、それぞれ正孔輸送層形成液２３Ｌに浸漬し、液状膜２３Ｆを乾燥することによって形成される。

次に、上記のように構成した第３実施形態の効果を以下に記載する。
（８）上記実施形態によれば、各色用データ線２１Ｒ，２１Ｙ，２１Ｇ，２１Ｃ，２１Ｂ，２１Ｍの外側面に、対応する各色用発光層２２Ｒ，２２Ｙ，２２Ｇ，２２Ｃ，２２Ｂ，２２Ｍ及び正孔輸送層２３を積層し、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍを形成した。そして、透明基板１２の走査線１３上に、各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍを配列し、配列した各色用ＥＬ棒２０Ｒ，２０Ｙ，２０Ｇ，２０Ｃ，２０Ｂ，２０Ｍを、封止基板２５によって走査線１３に押圧するようにした。

従って、異なる色に対応したＥＬ棒２０を透明基板１２上に取付けるだけで、ＥＬ装置１０の色再現範囲を拡張することができる。そして、色再現範囲を拡張する場合には、拡張する色種（例えば、白色）の発光層の膜厚や膜質を調査・調整するだけで、ＥＬ装置１０の全体にわたり、各色用発光層の膜厚や膜質を均一にすることができる。その結果、発光層の種類を簡便に増加させることができ、ＥＬ装置１０の色再現範囲の拡張を容易にすることができる。

（９）さらに、赤色用ＥＬ棒２０Ｒ、緑色用ＥＬ棒２０Ｇ及び青色用ＥＬ棒２０Ｂによる加法混色と、青緑色用ＥＬ棒２０Ｃ、赤紫色用ＥＬ棒２０Ｍ及び黄色用ＥＬ棒２０Ｙによる減法混色の双方を利用することができ、ＥＬ装置１０の色再現範囲の拡張を、さらに容易にすることができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、機能層を、発光層及び正孔輸送層によって構成した。これに限らず、例えば、正孔輸送層を省略する構成にしてもよく、あるいは正孔輸送層と走査線との間
に、対応する発光層への正孔の注入効率を高めるための正孔注入層を形成する構成にしてもよい。さらには、正孔輸送層と発光層との間に、電子の移動を抑制する電子障壁層を形成する構成にしてもよい。

あるいは、発光層とデータ線との間に、データ線から注入された電子を発光層まで輸送する電子輸送層を形成する構成にしてもよい。さらには、発光層２２と対応する前記電子輸送層との間に、正孔の移動を抑制する正孔障壁層を形成する構成であってもよい。
・上記実施形態において、発光層を、白色に対応した波長領域の光を発光する白色発光層で構成してもよい。また、各色用発光層に加えて、白色発光層を有する構成であってもよい。さらには、赤色に対応した異なる２つの波長領域の光、緑色に対応した異なる２つの波長領域の光、青色に対応した異なる２つの波長領域の光を発光する発光層を有する構成であってもよい。つまり、異なる波長領域の光を発光する複数の発光層を各色ごとに有する構成であってもよい。
・上記実施形態では、ＥＬ棒２０に発光層を一層のみ形成する構成にした。これに限らず、例えば、ＥＬ棒２０は、発光層と電荷発生層を繰り返し積層した、いわゆるマルチフォトン構造であってもよい。
・上記実施形態では、データ線の全体に発光層及び正孔輸送層を形成する構成にした。これに限らず、データ線の外側面であって、透明基板１２側の外側面のみに、発光層及び正孔輸送層を形成する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、機能層の最外周を、正孔輸送層２３によって構成した。これに限らず、例えば、正孔輸送層２３の外側面に、発光棒と走査線１３との間の密着性を向上させるための密着層、あるいは発光層と走査線１３との間の接触抵抗を低減させるための導電層（例えば、金属膜）を形成する構成にしてよい。これによれば、走査線１３とＥＬ棒２０との間の電気的特性を、さらに安定化することができる。
・上記実施形態では、保持手段を、封止基板２５と封止層２６に具体化した。これに限らず、保持手段を、隣接するＥＬ棒の間に充填された樹脂等によって具体化してもよい。すなわち、保持手段は、ＥＬ棒を各透明電極１３に接続させて、ＥＬ棒を透明基板１２に保持するものであればよい。
・上記実施形態では、隣接するＥＬ棒２０の間の空間を不活性ガスで充填する構成にした。これに限らず、例えば隣接するＥＬ棒２０の間の空間を遮光性の部材で覆い、ＥＬ棒２０の間の発光のクロストークを回避する構成にいてもよい。
・上記実施形態では、ＥＬ棒２０を四角柱状に具体化した。これに限らず、例えば、ＥＬ棒２０を、断面が三角形や五角形以上の多角柱状に具体化してもよく、さらには断面が楕円形状や円形状の柱状に具体化してもよい。すなわち、ＥＬ棒２０は、機能層を各透明電極に接続できる形状であればよい。
・上記実施形態では、ＥＬ棒２０の軸心をデータ線によって構成した。これに限らず、例えば、ガラスや樹脂等からなる棒部材を、別途ＥＬ棒２０の軸体として利用して、当該軸体の外側面にデータ線を形成する構成であってもよい。
・上記実施形態では、走査線１３を透明電極、データ線を対向電極として構成した。これに限らず、走査線１３を対向電極、データ線を透明電極として構成してもよい。
・上記実施形態では、発光層及び正孔輸送層を液相プロセスによって形成する構成した。これに限らず、蒸着等の気相プロセスによって形成する構成にしてもよい。

本発明を具体化した第１実施形態のＥＬ装置を示す概略斜視図。 同じく、ＥＬ装置を示す要部拡大斜視図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 本発明を具体化した第２実施形態のＥＬ装置を示す要部拡大斜視図。 同じく、ＥＬ装置を示す平面図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 同じく、ＥＬ装置の製造方法を説明する図。 本発明を具体化した第３実施形態のＥＬ装置を示す要部拡大斜視図。

符号の説明

１０…レクトロルミネッセンス装置、１２…透明基板、１３…透明電極としての走査線、２０，２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，２０Ｙ，２０Ｃ，２０Ｍ…発光棒としてのＥＬ棒、２１，２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ，２１Ｙ，２１Ｃ，２１Ｍ…対向電極としてのデータ線、２２，２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ，２１Ｙ，２１Ｃ，２１Ｍ…機能層を構成する発光層、２３…機能層を構成する正孔輸送層、２５…保持手段を構成する保持基板としての封止基板、２６…保持手段を構成する封止層、Ｌ…光。

Claims (12)

1. 透明基板と、
   前記透明基板の一側面に配列された複数の透明電極と、
   棒状の対向電極と前記対向電極の外側面に積層された発光層を含む機能層とからなる複数の発光棒と、
   前記複数の発光棒の各々を保持する複数の凹溝が形成された保持手段としての封止基板と、
   互いに積層された前記透明基板と前記封止基板との隙間を前記封止基板の外縁にて封止する封止層と、
   を備え、
   前記複数の発光棒の各々の前記機能層は、前記複数の透明電極に接続してなり、
   前記封止基板は、複数の前記透明電極が配列された前記透明基板の一側面と対向する保持面に複数の凹溝を有してなり、
   前記発光棒は、前記凹溝に配置されるとともに、前記機能層を露出しつつ前記保持面から突出するように前記封止基板によって保持され、
   前記保持面から突出する前記発光棒によって前記透明基板と前記封止基板との間に前記隙間が形成され、前記封止層は、大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを前記隙間に封止する、
   ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
2. 請求項１に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記複数の発光棒は、
   それぞれ異なる色の光を発光する発光層を有したこと特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
3. 請求項１又は２に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記複数の発光棒は、
   それぞれ前記対向電極の太さに応じて予め規定された色の光を発光する前記発光層を有したことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
4. 請求項２又は３に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記複数の発光棒は、
   赤色の光を発光する赤色用発光層を有した発光棒と、
   緑色の光を発光する緑色用発光層を有した発光棒と、
   青色の光を発光する青色用発光層を有した発光棒と、を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
5. 請求項４に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記赤色用発光層を有する前記発光棒は、前記青色用発光層を有する前記発光棒よりも太く、
   前記緑色用発光層を有する前記発光棒は、前記青色用発光層を有する前記発光棒よりも太い、
   ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
6. 請求項３〜５のいずれか１つに記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記複数の発光棒は、
   赤色、緑色、青色のいずれか１つの補色の光を発光する補色発光層を有した発光棒をさらに含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１つに記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記発光棒は、
   前記透明電極に沿う前記機能層を有したことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１つに記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記発光棒は、
   軸心方向から見て断面矩形状に形成されて、前記透明電極に沿う前記対向電極を有したことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
9. 請求項１〜８のいずれか１つに記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
   前記機能層は、
   少なくとも正孔輸送層、正孔障壁層、電子輸送層、電子障壁層のいずれか１つを含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。
10. 透明基板の一側面に複数の透明電極を配列形成する透明電極形成工程と、
    棒状に形成された対向電極の外側面に発光層を含む機能層を積層して複数の発光棒を形成する発光棒形成工程と、
    封止基板が有する複数の凹溝の各々に対して、前記複数の凹溝が形成された前記封止基板の保持面から前記発光棒が突出するように前記発光棒を配置した後、前記複数の発光棒の各々の前記機能層が前記複数の前記透明電極に接続されるように前記封止基板と前記透明基板とを互いに積層させる発光棒取付け工程と、
    前記保持面から突出する前記発光棒によって前記透明基板と前記封止基板との間に隙間が形成され、前記隙間に対して大気圧よりも低い圧力の不活性ガスを封入する不活性ガス封入工程と、
    を備えたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
11. 請求項１０に記載のエレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
    前記発光棒形成工程は、
    複数の前記対向電極に、それぞれ異なる色の光を発光する発光層を積層して前記複数の発光棒を形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
12. 請求項１０又は１１に記載のエレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
    前記発光棒形成工程は、
    複数の前記対向電極に、それぞれ前記対向電極の太さに応じて予め規定された色の光を発光する前記発光層を積層して前記複数の発光棒を形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置の製造方法。

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