JP4729065B2 - 座標変換を伴う駆動システムを有するリソグラフィ装置および方法 - Google Patents

Description

[0001] 本発明は、基板支持体を投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムを有するリソグラフィ装置、および関連する方法に関する。本発明はさらに、デバイス製造方法に関する。

[0002] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用できる。この場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用してもよい。このパターンは投影システムを介して基板（例えばシリコンウエーハ）上の（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を含む）ターゲット部分へと転写可能である。パターンの転写は典型的には、基板上に設けられた放射線感応材料（レジスト）層上への結像を介して行われる。一般に、単一の基板は連続してパターニングされる隣接のターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体を同時にターゲット部分へと露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、パターンを放射ビームを通して所定方向（「スキャン」方向）でスキャンしつつ、これと同期して基板をこの方向と平行、または逆平行にスキャンすることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナを含んでいる。パターンを基板上にインプリントすることによってパターンをパターニングデバイスから基板上に転写することも可能である。

[0003] リソグラフィのような多くの工業的プロセスは、例えば設定点のような精密位置によって特定の時点で画定される軌道に沿った可動部分の移動を含んでいる。典型的には、移動は増幅器を含むモータ、作動機構（例えばスライダ）、位置（および／または速度および／または加速）センサ、フィードバックおよびフィードフォワードコントローラ、および設定点発生器を含む閉ループ制御サーボシステムによって行われる。モータは、設定点の位置と測定された実際の位置との差の関数としてモータ入力を計算するコントローラからの入力を受け取る。フィードバック制御によって、実際の位置が所望の指令された設定点位置に等しくなることが保証される。

[0004] このような可動部分の設定点データを決定する方法を「軌道プラニング」と言うことができ、その結果生じた設定点データを「軌道」と言うことができる。必ずしも全ての環境においてとは限らないが、典型的には、可動部分の例えば１つまたは複数のリニアモータまたはプレーナモータのような１つまたは複数のアクチュエータに印加される移動信号は、軌道の設定点データによって決定される。次いで、可動部分を所望の位置に移動させるため、例えば設定点信号のような移動信号がアクチュエータに印加される。

[0005] 一例として、動作軌道はステップアンドスキャン式リソグラフィ装置の基板およびパターニングデバイス（例えばマスク）に付与されることが多い。このような装置の典型的な１つでは、基板表面が一連のフィールドスキャンに曝される。各フィールドの露光には、基板およびパターニングデバイス（例えばマスク）が精密に同期化された実質的に一定の速度で同時にスキャンされることが必要である。各々のフィールド露光の後、基板の段階はフィールドスキャン終了時の初期状態（すなわち位置および速度）から次のフィールドスキャン開始時の新たな状態（すなわち新たな位置および典型的には同じ速度）へと移行する。同様に、パターニングデバイス（例えばマスク）の段階も、フィールドスキャン終了時の初期状態から次のフィールドスキャン開始時の新たな状態へと移行する。リソグラフィ装置で基板の時間単位当たりの処理、すなわち基板のスループットを最大化するため、基板を可能な最短時間で露光することが望ましい。

[0006] リソグラフィ装置は、基板を保持するように形成された少なくとも１つの基板テーブル、または基板支持体を含んでいる。基板支持体は、異なる、相互に直交するｘおよびｙ方向についてそれぞれの駆動モータを含む位置決めデバイスによって、異なる、互いに直交する方向（以下、ｘおよびｙ方向と呼ぶ）に位置決めされる。ｘ方向の駆動モータは基板支持体を＋ｘまたは−ｘ方向に位置決めするために使用され、ｙ方向の駆動モータは基板支持体を＋ｙまたは−ｙ方向に位置決めするために使用される。＋ｘと＋ｙ、または−ｙ方向の移動、または−ｘと＋ｙまたは−ｙ方向の移動を組み合わせることによって、基板支持体をｘおよびｙ方向によって規定される（通常な水平の）面のどの位置にも位置決めすることができる。基板支持体を位置決めすることによって、基板支持体上に支持される基板はそれに応じて前述の移行およびスキャン工程を行うために投影システムに対して位置決めされる。

[0007] 「液浸」式リソグラフィ装置では、投影システムと基板との間の空隙を埋めるために基板の少なくとも一部を、例えば水のような屈折率が比較的高い液体で覆ってもよい。例えばマスクと投影システムとの間の空隙のような、リソグラフィ装置のその他の空隙に液浸液を加えてもよい。液浸技術は投影システムの開口数を増加させるために使用できる。本明細書で用いられる「液浸」という用語は、基板のような構造体が液体中に浸漬されなければならないことを意味するものではなく、むしろ露光中に投影システムと基板との間に液体があることだけを意味するものである。液体は、投影システムと基板との間に延在するカバーまたはフードの下に捕捉または封入される。液体を投影システムと基板との間に保持するためのエアナイフまたはその他の設備を使用することによって、液体がカバーまたはフードと基板との間の隙間を通過できなくされる。

[0008] 基板の位置決めでは、ｘ方向およびｙ方向の設定点データを生成するために設定点発生器を使用することによって、ｘ方向およびｙ方向の駆動モータは互いに別個に制御される。ｘ方向およびｙ方向の駆動モータが別個に制御されることで、ｘ方向の設定点発生器はｙ方向の設定点発生器に関する情報なしで動作する結果を招き、逆も同様である。

[0009] 各設定点発生器は、対応する方向で発生される最大速度を制限するためのパラメータとして特に最大速度を利用する。液浸式リソグラフィ装置では、基板の最大速度は基本的に、液浸液を投影システムと基板との間に保持し、液体がカバーまたはフードと基板との間の隙間を通過することを防止するための要件によって決定されることができる。基板に対するカバーまたはフードの速度が高すぎると、液体が隙間を通過し、それによって基板およびその環境は液体またはその成分によって汚染され、液体は不慮にカバーまたはフードの下から損失されよう。これは望ましくない状況である。

[0010] 液浸式リソグラフィ装置内の基板支持体の最大速度を「最大液浸速度」と表記すると、特定の移動についてｘ方向とｙ方向の各設定点発生器が最大液浸速度に設定された最大発生速度を有している場合に問題が生ずる。ｘ方向またはｙ方向のいずれかの最大液浸速度に等しい速度と、他の方向のゼロ以上の絶対速度との組み合わせを発生する場合は、合成速度（の絶対値）、すなわちｘ方向とｙ方向の合計速度ベクトルは実際に最大液浸速度（の絶対値）を超える。最悪の場合は、ｘ方向とｙ方向の双方でそれぞれの設定点発生器による最大液浸速度に等しい値を有する速度が発生されると、合計速度ベクトルはｘまたはｙ方向に対して４５°になり、かつ２の平方根（約１．４）×最大液浸速度の絶対値を有する。したがって、実際に最大液浸速度を大幅に超え、上記の不利な結果を招く。

[0011] いずれの方向でも最大液浸速度を超えないように基板支持体の速度を制御することが望まれる。

[0012] 本発明の実施形態によれば、基板を保持するように構成された基板支持体と、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、基板支持体を前記投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムとを備え、該駆動システムが、基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの第１の駆動モータと、基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの第２の駆動モータと、少なくとも１つの第１の駆動モータが第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第１の軌道プランナと、少なくとも１つの第２の駆動モータが第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第２の軌道プランナと、少なくとも１つの第１および第２の軌道プランナによって決定された第１および第２の方向の設定点座標を、第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第１の座標変換器と、少なくとも１つの第１の駆動モータが第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限するように構成された第１の設定点発生器と、少なくとも１つの第２の駆動モータが第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限するように構成された第２の設定点発生器と、第１の設定点発生器および第２の設定点発生器によって決定された第３の方向および第４の方向の移動座標を、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第２の座標変換器とを備えるリソグラフィ装置が提供される。

[0013] 本発明の実施形態によれば、第１の座標変換器が、
ｐ１＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
ｑ１＝−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
によって決定された変換を行い、
ここで、
ｘ１＝第１の方向の設定点座標
ｙ１＝第２の方向の設定点座標
ｐ１＝第３の方向の設定点座標
ｑ１＝第４の方向の設定点座標
である。

[0014] 本発明の実施形態によれば、第２の座標変換器が、
ｘ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
ｙ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
によって決定された変換を行い、
ここで、
ｘ２＝第１の方向の移動座標
ｙ２＝第２の方向の移動座標
ｐ２＝第３の方向の移動座標
ｑ２＝第４の方向の移動座標
である。

[0015] 本発明の別の実施形態では、リソグラフィ装置の投影システムに対して基板支持体を移動させる方法であって、基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを準備すること、基板支持体を軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムを準備するステップであって、該駆動システムが、基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの駆動モータと、基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの駆動モータとを備えること、基板支持体を投影システムに対して第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、基板支持体を投影システムに対して第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、第１の方向および第２の方向の設定点座標を第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、基板支持体を投影システムに対して第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限すること、基板支持体を投影システムに対して第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限すること、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、第３の方向および第４の方向の移動座標を第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換することを含む方法が提供される。

[0016] 本発明の別の実施形態では、パターンをパターニングデバイスから基板支持体上に保持された基板上に投影する投影システムを有するリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置が基板支持体を投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムを含み、該駆動システムが、基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの第１の駆動モータと、基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの第２の駆動モータと、少なくとも１つの第１の駆動モータが第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第１の軌道プランナと、少なくとも１つの第２の駆動モータが第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第２の軌道プランナと、第１および第２の軌道プランナによって決定された第１の方向および第２の方向の設定点座標を、第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第１の座標変換器と、少なくとも１つの第１の駆動モータが第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限するように構成された第１の設定点発生器と、少なくとも１つの第２の駆動モータが第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限するように構成された第２の設定点発生器と、第１の設定点発生器および第２の設定点発生器によって決定された第３の方向および第４の方向の移動座標を、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第２の座標変換器とを備えるリソグラフィ装置が提供される。

[0017] 本発明の別の実施形態では、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、基板を軌道に沿って移動させるように構成され、かつ、基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの駆動モータおよび基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの駆動モータを備える駆動システムを準備すること、基板支持体を投影システムに対して第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、基板支持体を投影システムに対して第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、第１の方向および第２の方向の設定点座標を第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、基板支持体を投影システムに対して第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限すること、基板支持体を投影システムに対して第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限すること、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、第３の方向および第４の方向の移動座標を第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換することを含む方法が提供される。

[0018] 本発明の別の実施形態では、１つまたは複数の機械読取可能命令シーケンスを含むコンピュータプログラム製品であって、コンピュータシステムが、リソグラフィ装置の基板支持体を第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、基板支持体を第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、第１の方向および第２の方向の設定点座標を第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、基板支持体を第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限すること、基板支持体第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限すること、第３の方向および第４の方向の移動座標を第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換することを含むステップを実行するように適合されたコンピュータプログラム製品が提供される。

[0019] 本発明の実施形態では、パターニングされた放射ビームを、投影システムを用いて、基板支持体によって支持される基板上に投影すること、基板支持体を軌道に沿って移動させることを含み、該移動ステップが、基板支持体を投影システムに対して第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、基板支持体を投影システムに対して第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、第１の方向および第２の方向の設定点座標を第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、基板支持体を投影システムに対して第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第３の方向での速度を第１の最大速度に制限すること、基板支持体を投影システムに対して第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、第４の方向での速度を第２の最大速度に制限すること、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、第３の方向および第４の方向の移動座標を第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換することを含むデバイス製造方法が提供される。

[0020] ここで本発明の実施形態を添付の概略図を参照して単に例示を目的として説明する。図中、対応する記号は対応する部品を示す。

[0029] 図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示している。この装置は、放射ビームＢ（例えば紫外放射線またはその他のいずれかの適宜の放射線）を条件付けするように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように形成され、あるパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続された支持構造またはパターン支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。この装置は、基板（例えばレジストコートウエーハ）Ｗを保持するように形成され、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウエーハテーブル）ＷＴまたは「基板支持体」をも含む。この装置はさらに、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃへと投影するように構成された投影システム（例えば反射投影レンズ系）ＰＳを含んでいる。

[0030] 照明システムは放射を誘導、成形、または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型またはその他の種類の光学コンポーネント、またはそのいずれかの組み合わせのような様々な種類の光学コンポーネントを含んでいてもよい。

[0031] 支持構造はパターニングデバイスの重みを支え、すなわち担う。支持構造はパターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるか否かのようなその他の条件に応じた方式でパターニングデバイスを保持する。支持構造はパターニングデバイスを保持するために機械的、真空、静電またはその他のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、必要に応じて固定式でも可動式でもよい、例えばフレームまたはテーブルでよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証できる。本明細書で「レチクル」または「マスク」という用語が用いられる場合は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義語であると見なしてもよい。

[0032] 本明細書で用いられる「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作成するために、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用できるどのデバイスをも意味するものと広義に解釈されるものとする。放射ビームに付与されたパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンと正確に対応しない場合があることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路のようなターゲット部分内に作成されるデバイスの特定の機能層に対応する。

[0033] パターニングデバイスは光透過性でも反射性でもよい。パターニングデバイスの例にはマスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィではよく知られており、バイナリ、レベンソン型（Alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（Attenuated）位相シフトのようなマスク型、ならびに様々な種類のハイブリッドマスク型を含んでいる。プログラマブルミラーアレイの一例は、入射する放射ビームを異なる方向に反射するように各々が個々に傾斜可能な小型ミラーのマトリクス配列を使用している。傾斜されたミラーは、ミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを付与する。

[0034] 本明細書で用いられる「投影システム」という用語は、使用される露光放射線にとって、または液浸液の使用または真空の使用のようなその他の要因にとって適当な屈折、反射、カタジオプトリック、磁気、電磁および静電光学系、またはそれらのいずれかの組み合わせを含むどの種類の投影システムをも包含するものと広義に解釈されるものとする。本明細書で「投影レンズ」という用語が用いられる場合は、より一般的な用語である「投影システム」と同義語であると見なしてもよい。

[0035] 本明細書に示されるように、装置は（例えば光透過マスクを使用する）光透過型である。あるいは、装置は（例えば前述のような種類のプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）反射型のものでもよい。

[0036] リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）、またはそれ以上の基板テーブルまたは「基板支持体」（および／または２つ以上のマスクテーブルまたは「マスク支持体」）を有する種類のものでよい。このような「マルチステージ」機械では、並行して追加のテーブルまたは支持体を使用してもよく、または１つまたは複数の他のテーブルまたは支持体が露光用に使用されている間に、１つまたは複数のテーブルまたは支持体上で準備ステップを実行してもよい。

[0037] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受光する。例えば放射源がエキシマレーザである場合は、放射源とリソグラフィ装置とは別個の要素でよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、放射ビームは、例えば適当な方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビーム供給システムＢＤを援用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬに送られる。別の場合、例えば放射源が水銀ランプである場合は、放射源はリソグラフィ装置と一体の部品でよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要ならばビーム供給システムＢＤと共に放射システムと呼ばれてもよい。

[0038] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタＡＤを含んでいてもよい。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側の径方向の広がり（一般にそれぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調整可能である。加えて、イルミネータＩＬはインテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯのような様々な他の部品を含んでいてもよい。放射ビームが断面に所望の均一性および強度分布を有するように放射ビームを条件付けするためにイルミネータを使用してもよい。

[0039] 放射ビームＢは支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス」（例えばマスクＭＡ）上に入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。放射ビームＢはパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを横切ると、投影システムＰＳを通過し、これがビームを基板Ｗのターゲット部分内Ｃ上に合焦する。第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサ）を援用して、例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするために、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、例えばマスクライブラリからの機械的検索後、またはスキャン中にパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めするために第１の位置決めデバイスＰＭまたは他の位置センサ（図１には明示せず）を使用することができる。一般に、支持構造またはパターン支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動を、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を援用して実現してもよい。同様に、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の移動を、第２の位置決めデバイスＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現してもよい。（スキャナではなく）ステッパの場合は、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴをショートストロークアクチュエータだけに接続してもよく、または固定してもよい。マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２、および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を用いてパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡおよび基板Ｗを位置合わせしてもよい。図示した基板アラインメントマークは専用のターゲット部分を塞いでいるが、ターゲット部分間の空隙内に位置していてもよい。（これらはスクライブアラインメントマークとして知られている。）同様に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に２つ以上のダイが備えられている場合は、マスクアラインメントマークをダイの間に配置してもよい。

[0040] 図示した装置は以下のモードの少なくとも１つで使用できよう。

[0041] １．ステップモードでは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「パターン支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、放射ビームに付与されるパターン全体が一度にターゲット部分Ｃ上に投影されている間、基本的に固定状態に保たれる（すなわち単一の静的露光）。次いで、異なるターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」がＸおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズを制限する。

[0042] ２．スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影されている間に、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「パターン支持体」および基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」が同期的にスキャンされる（すなわち単一の動的露光）。基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「パターン支持体」に対する速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大、および像反転特性によって決定されてもよい。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の動的露光でのターゲット部分の（非スキャン方向の）幅を制限するのに対して、スキャン運動の長さがターゲット部分の（スキャン方向の）高さを決定する。

[0043] ３．別のモードでは、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴまたは「パターン支持体」は基本的に静止状態に保たれてプログラマブルパターニングデバイスを保持し、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」は、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影されている間に移動またはスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴまたは「基板支持体」の各移動後に、またはスキャン中の連続放射パルスの間に必要に応じたプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、前述の種類のプログラマブルミラーアレイのようなプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。

[0044] 上記の使用モードまたは全く異なる使用モードの組み合わせおよび／または変化形態を使用してもよい。

[0045] 次に、基板テーブルおよび／または支持構造（例えばマスクテーブル）のような可動部品の軌道プラニングを説明する。本明細書で使用される可動部品は、装置の他の全ての部品に対して少なくとも２自由度で移動するように設計された（リソグラフィ装置のような）装置の（サブシステムまたはデバイスを含む）いずれかの部品である。少なくともこれらの自由度が能動制御下にあり、すなわち「制御された移動」であり、これは例えば、少なくとも１つの自由度に沿って移動可能な部品の位置を十分な精度で得ることができる検知デバイス、および典型的には移動信号によって与えられる所望の位置に少なくともこの自由度で可動部品の位置を変更できるアクチュエータがあることを意味している。本明細書で用いられる位置は並進位置を含み、したがって位置の変更は並進を含む。

[0046] 図２を参照すると、リソグラフィ装置の基板および／またはマスクテーブルの軌道のような可動部品の軌道プラニングでは、制御プロセス１１は可動部品に関する初期制御データ１２を軌道プランナ１３に供給するように構成されている。初期制御データは軌道プラニング中に使用される、可動部品の軌道の特性に関する事前情報を含んでいる。このような制御データの典型的な例は、（１）可動部品の開始または初期位置と最終位置、（２）可動部品の移動の開始時間および／または停止時間、（３）特定の時間に得られるべき可動部品のいずれかの中間位置、および／または（４）特定の時間に得られ、可動部品の２つの特定位置の間で維持されなければならない可動部品の速度が含まれる。

[0047] 典型的なスキャニングの例では、初期制御データ１２はスキャンの開始点、スキャンの距離および速度、およびスキャンの停止点を含む。

[0048] 軌道プランナ１３は制御データ１２に従って可動部品の所望の軌道を計算するように適合されている。この設計により、典型的には時間の関数としての設定点データである移動データ１４のセットが軌道プランナ１３によって生成される。移動データ１４は可動部品の軌道を画定する状態信号セットであると見なすことができる。設定点データ１４は典型的には、軌道中にある可動部品の加速の量子化された時間間隔の定義、ならびにこれらの間隔中の１つまたは複数の加速値を含んでいる。設定点データ１４はさらに、または代替として、各加速間隔の開始の位置および速度を含んでいてもよい。設定点データ１４はさらに、または代替として、位置が能動制御下にある各自由度の座標を含む座標セットの形式で表される、可動部品の特定の時点での特定の位置を含んでいてもよい。軌道プランナ１３は典型的には単一の自由度での可動部品の移動を定義する。

[0049] 一実施形態では、軌道プランナ１３はオフライン工程で軌道を設計または決定するように構成されている。したがって、リソグラフィ装置の場合は、移動データ１４は例えば基板テーブルまたは支持構造（例えばマスクテーブル）のスキャニング動作の開始前に生成される。

[0050] 次いで移動データ１４は軌道エクセキュータ（trajectory executor）１５によって使用される。軌道エクセキュータ１５は移動信号１６を生成するために移動データを使用する。移動信号の形式の設定点信号１６は、可動部品の制御システムに一連のリアルタイムコマンドを含み、可動部品の位置と加速とを定義する。これらの設定点信号は一般に設定点データ１４に対応している。移動信号１６は設定点信号の１次、２次、３次、４次などの導関数を含んでいてもよい。設定点データの場合と同様に、設定点信号も、アクチュエータが可動部品の位置を変更可能な各自由度ごとの座標を含む座標セットの形式で表すことができる。

[0051] 次いで移動信号１６が制御システム１７に供給される。制御システム１７は移動信号１６に従ってリソグラフィ装置の可動部品（例えば基板および／またはマスクテーブル）を移動させるために使用される電気機械制御機構を表している。制御システムは可動部品のアクチュエータに印加される制御信号を決定する。制御信号の決定は、（１）移動信号と制御信号との間の事前に特定された関係に基づくフィードフォワード部分、および／または（２）移動信号によって特定された特性の所望の現在値に対する可動部品の測定された特性値（例えば位置または速度）に基づくフィードバック部分を含んでいてもよい。

[0052] 移動データ１４および移動信号１６は、設定点データおよび設定点信号の場合はそれらが単に軌道プロファイルの量子化された値を反映するだけなので、軌道プロファイルと同義語であると見なすことができる。さらに、ある実施形態では、移動データ１４は移動信号１６への変換なしで制御システムに直接印加されてもよい。

[0053] 軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５は、コンピュータまたはその他のいずれかのハードウエアによって処理されるコンピュータプログラム製品として実装されることができる。しかし、軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５はハードウエア、ファームウエア、またはハードウエア、ファームウエアおよび／またはソフトウエアのいずれかの組み合わせで実装されることもできる。軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５用のハードウエア、ファームウエア、ソフトウエアまたはその組み合わせを総称して軌道発生器と言ってもよい。可動部品の１以上の自由度を制御するため、例えば軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５の全体または一部を複数のハードウエアまたは単一のハードウエアで実装してもよい。さらに、ハードウエアは軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５用の関連データを含んでいてもよく、および／または例えば検知デバイスおよび／またはデータベースのような関連データ源への１つまたは複数のインターフェースを含んでいてもよい。関連データは軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５の軌道アルゴリズムとは別個でもよく、これに統合されてもよく、かつ変更可能である。

[0054] 実装ではリソグラフィ装置は、（１）軌道プラニングおよび／または実行アルゴリズム（例えば軌道プランナ１３および／または軌道エクセキュータ１５）および関連データを有するコンピュータ、（２）検知デバイスおよび／またはその他のいずれかの関連デバイスから軌道プラニングおよび／または実行アルゴリズム用のその他のいずれかの関連データを得るように構成されたインターフェース、（３）軌道プラニングおよび／または実行アルゴリズムによって決定される制御信号を送信するように構成されたインターフェース、および（４）受信された制御信号を可動部品の位置を変更するアクチュエータの能力に関連する１つまたは複数の物理量に変換するように構成された変換デバイスを含んでいる。

[0055] 実施される軌道には、他の全ての自由度を実質的に一定の位置座標に保ちつつ、オブジェクトテーブルの単一の線形自由度での露光スキャンが含まれていてもよい。このスキャンは以下のように特定できる。すなわち、（１）露光を所定の位置と時間に開始する。（２）露光を所定の位置で終了する。および（３）露光後、オブジェクトテーブルをできるだけ迅速に静止状態にする。

[0056] オブジェクトテーブル用のアクチュエータには、オブジェクトテーブル上に力を加えることができるリニアモータ、ローレンツモータ、プレーナモータ、圧電アクチュエータなどのような１つまたは複数の電磁アクチュエータが含まれる。オブジェクトテーブルの位置を監視するためのオブジェクトテーブル用検知デバイスは、レーザ干渉計システムおよびオブジェクトテーブル上の１つまたは複数の連動ミラー面を含んでいてもよい。検知デバイスを使用してオブジェクトテーブルの位置を決定してもよい。

[0057] プラニングされ、計算された軌道は、様々なプロファイル（ジャークプロファイル、加速プロフィル、速度プロファイル、位置プロファイル）上の境界が提供される特性を有していてもよい。最初にスナップ（ジャークの導関数）が最大値を有し、次いでジャークが、次に加速が、次いで速度が最大値を有する。ちなみに、これは全ての関連するすべての軌道には当てはまらない。

[0058] 軌道の計算では、位置、速度、加速、ジャークおよび／またはスナップロファイルから移動データ１４（例えば設定点データ）が抽出されてもよい。次いで移動データ１４が、可動部品の制御システム１７に供給される適切な移動信号１６に変換される。

[0059] 図３は、例えば駆動システムによって軌道に沿って移動される基板テーブルまたは基板支持体の速度の速度ベクトル面を示しており、この駆動システムは基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された少なくとも１つの駆動モータを含み、少なくとも１つの駆動モータは基板支持体を第２の方向に移動させるように構成されている。この場合、座標系はｘ軸が第１の方向すなわちｘ方向での速度（「ｘ速度」）を示し、ｙ軸が第２の方向、すなわちｙ方向での速度（「ｙ速度」）を示すものと想定されている。正方形３０は、ｘ速度（の絶対値）を＋ｘおよび−ｘ方向での最大ｘ速度未満、またはこれに等しく設定し、ｙ速度（の絶対値）を＋ｙおよび−ｙ方向での最大ｙ速度未満、またはこれに等しく設定することによって得られる合計速度ベクトルのフィールドを区切っている。例えば、ポイントＡでは、ｘ速度はゼロに等しいのに対して、ｙ速度は＋ｙ方向での最大ｙ速度に等しい。別の例として、ポイントＢでは、ｘ速度は＋ｘ方向での最大ｘ速度に等しいのに対して、ｙ速度はゼロに等しい。

[0060] 円３２上のいずれかのポイントは、合計速度ベクトルの長さ（絶対値）がｘ速度とｙ速度との合計であることを示しており、ただし合計速度ベクトル（の絶対値）は最大ｘ速度および最大ｙ速度未満であるか、等しい。

[0061] ここで、合計速度ベクトルはｘ速度とｙ速度の合計であり、ただし例えばｘ速度とｙ速度のうちの一方は最大ｘ速度または最大ｙ速度にそれぞれ等しく、ｘ速度とｙ速度のうちの他方はゼロとは異なり、円３２の外側の（正方形３０上の）長さ（絶対値）を有する合計速度ベクトルが生ずることが理解されよう。さらに、円３２の外側の合計速度ベクトルをもたらすｘおよびｙ速度のその他の組み合わせも可能であろう。言い換えると、このような状況で合計速度ベクトル（の絶対値）は実際に最大ｘ速度または最大ｙ速度（の絶対値）を超えることがある。例えば、ポイントＣでは、ｘ速度とｙ速度の双方が最大ｘ速度と最大ｙ速度にそれぞれ等しく、合計速度ベクトルの長さ（絶対値）は２の平方根（約１．４）倍だけ最大ｘ速度および最大ｙ速度を超える。

[0062] 最大ｘ速度および最大ｙ速度が最大液浸速度に等しく、合計速度ベクトル（の絶対値）が最大液浸速度よりも大きい液浸式のリソグラフィ装置の場合、液浸液を筐体内の基板上に保持しておく上での問題が生ずることがある。

[0063] 図４に示されるように、ｘ速度とｙ速度との合計であり、円３２上のどのポイントをも超えない長さ（絶対値）を有する合計速度ベクトルは、ポイントＢ’で示されるようにｘ速度を[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｘ速度）]に制限し、矢印ポイントＡ’で示されるようにｙ速度を[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｙ速度）]に制限して、ｘ速度とｙ速度の双方がそれらの限界に達した場合、合計速度ベクトル（の絶対値）がポイントＣ’で示されるように最大速度を超えないようにすることによって得られる。したがって、最大ｘ速度と最大ｙ速度が最大液浸速度にほぼ等しい液浸式リソグラフィ装置の場合、ｘ速度およびｙ速度の上記の制限によって最大液浸速度を超えることがない。

[0064] しかし、図４から理解されるように、ｘ速度がその制限[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｘ速度）]未満である場合は、合計速度ベクトルが、各々が最大液浸速度にほぼ等しいものと想定される最大ｘ速度または最大ｙ速度を超えることなく、ｙ速度の制限[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｙ速度）]を超えることがある。同様に、ｙ速度がその制限[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｙ速度）]未満である場合、合計速度ベクトルが最大ｘ速度または最大ｙ速度または最大液浸速度を超えることなく、ｘ速度の制限[０．５＊（２の平方根）＊（最大ｘ速度）]を超えることがある。それによって、基板テーブルの時間移動のほとんどが＋ｙまたは−ｙ方向になされ、実際にはこのような環境ではｙ速度を最大ｙ速度に選択できるものの、この時点ではｘ方向での速度がゼロに等しいので、リソグラフィ装置のスループットが低下することがある。しかし、図２の制御システム１７のような対応する制御システムでの過剰な（複雑な）計算時間を避けるため、実際にはｘ速度はｙ速度とは別個に計算されるので、上記の選択は実行されない。

[0065] 図５に示されるように、ｘ速度とｙ速度との合計であり、円３２上のどのポイントをも超えない長さ（絶対値）を有する合計速度ベクトルは、ポイントＡ、ＢまたはＣ’のいずれかで示されるように、ｘ速度およびｙ速度を合計速度ベクトルの長さ（の絶対値）が最大速度を超えないように選択することによって得ることができる。言い換えると、最大ｘ速度は実際のｙ速度に依存し、逆の場合も同様である。しかし、前述のように、図５の表示に基づいてｘ速度およびｙ速度を計算すればリソグラフィ装置の高いスループットがもたらされるものの、図２の制御システムのような制御システムでの過剰な計算時間を避けるために、実際にはｘ速度はｙ速度とは別個に計算される。

[0066] 図６は本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置の移動制御システムの設定点生成部分を示している。移動制御システムのこのような部分では、第１の軌道プランナ（図示せず）は、（図１の第２の位置決めデバイスＰＷの一部である）第１の駆動モータが基板テーブルＷＴをｘ方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データ６０を生成するように構成されている。第２の軌道プランナ（図示せず）は、（図１の第２の位置決めデバイスＰＷの一部である）第２の駆動モータが基板テーブルＷＴをｙ方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データ６１を生成するように構成されている。第１の座標変換器６２は、第１の軌道プランナ６０および第２の軌道プランナ６１によってそれぞれ決定されるｘ方向およびｙ方向の設定点座標をｐ方向およびｑ方向の設定点座標に変換するように構成されている。

[0067] この場合、ｘおよびｙ座標系に加えて、第２の座標系ｐ、ｑが想定され、ｐ方向はｘ方向に対して角度αをなすことができ、ここで０＜α＜９０°である。以下では、α＝４５°であると想定される。ｑ方向はｙ方向に対して角度βをなすことができ、ここで０＜β＜９０°である。以下では、β＝４５°であると想定される。したがって、ｘ、ｙ座標系が直交座標系である場合は、ｐ、ｑ座標系も直交座標系であってよい。しかし、他の様々な座標系を選択してもよいことに留意されたい。

[0068] 第１の座標変換器６２は公式[１]および[２]によって決定される変換を行うように構成されている。
ｐ１＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１[１]
ｑ１＝−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１[２]
ここで、
ｘ１＝ｘ方向の設定点座標
ｙ１＝ｙ方向の設定点座標
ｐ１＝ｐ方向の設定点座標
ｑ１＝ｑ方向の設定点座標
である。

[0069] 上記の公式[１]および[２]に見られる係数１／２＊ｓｑｒｔ（２）はαおよびβがそれぞれ４５°であるという想定から生ずる。αおよびβの角度が異なり、またはその他の座標系の場合は、別の係数が生ずることが理解されよう。

[0070] 第１の設定点発生器６３は、第１の駆動モータがｐ方向に移動するために、移動座標を含む移動データを生成し、ｐ方向での速度を第１の最大速度に制限するように構成されている。第２の設定点発生器６４は、第２の駆動モータがｑ方向に移動するために、移動座標を含む移動データを生成し、ｑ方向での速度を第２の最大速度に制限するように構成されている。第１の最大速度および第２の最大速度は同じ速度または異なる速度に選択されてもよい。本明細書に記載の実施形態では、第１の最大速度および第２の最大速度は同じであるように選択され、液浸式リソグラフィ装置の場合は[１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊最大液浸速度]に実質的に等しくなるように選択されている。

[0071] 第１および第２の設定点発生器６３、６４によって生成される移動データを受ける第２の座標変換器６５は、第１の設定点発生器６３および第２の設定点発生器６４によってそれぞれ決定されるｐ方向とｑ方向との移動座標を、第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するためにｘ方向およびｙ方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成されている。

[0072] 第２の座標変換器６５は公式[３]および[４]によって決定される変換を行うように構成されている。
ｘ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２[３]
ｙ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２[４]
ここで、
ｘ２＝ｘ方向の移動座標
ｙ２＝ｙ方向の移動座標
ｐ２＝ｐ方向の移動座標
ｑ１＝ｑ方向の移動座標
である。

[0073] 公式[１]および[２]の場合と同様に、上記の公式[３]および[４]に見られる係数１／２＊ｓｑｒｔ（２）はαおよびβがそれぞれ４５°であるという想定から生ずる。αおよびβの角度が異なり、またはその他の座標系の場合は、別の係数が生ずることが明らかであろう。

[0074] 上記の変換から生ずる基板支持体ＷＴの合計速度ベクトルフィールドは、図７では正方形７０によって示されている。図７から、ｘ方向およびｙ方向のスキャニングは最大ｘ速度および最大ｙ速度でそれぞれ行われてよく、他の方向への移動では最大ｘ速度または最大ｙ速度（の絶対値）を超えないことが分かる。特に、液浸式リソグラフィ装置で最大ｘ速度と最大ｙ速度とが最大液浸速度に実質的に等しく設定された場合は、上記の変換を用いて最大液浸速度（の絶対値）を超えてはならない。例として、図７のポイントＣ’’は上記の変換および速度制限によって得られた合計速度ベクトルを示している。

[0075] 図８が示すように、本発明の実施形態によって、異なるαおよびβの角度、および異なる最大ｘ速度および最大ｙ速度Ｂ’’およびＡ’’をそれぞれ用いて他の座標変換を容易に実施できる。図８によれば、（スキャン方向での）最大ｙ速度は（ステップ方向での）最大ｘ速度より高くてもよい。これは液浸カバーまたはフードの特定の設計に従ってもよい。図８のポイントＣ’’’は上記の変換および速度制限によって得られた合計速度ベクトルを示している。

[0076] 本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及されているが、本明細書に記載のリソグラフィ装置は集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスおよび検知パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造のようなその他の用途を有してもよいことを理解されたい。このような代替用途の文脈で、本明細書で用いられる「ウエーハ」または「ダイ」という用語はより一般的な用語である「基板」または「ターゲット部分」とそれぞれ同義語であると見なされることを当業者は理解しよう。本明細書で言及される基板は、露光の前または後に例えばトラック（典型的には基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能ならば、本明細書の開示を上記の、またはその他の基板処理ツールに適用してもよい。さらに、例えば多層ＩＣを製造するために基板が２回以上処理されてもよいので、本明細書で用いられる基板という用語は複数の処理済み層を既に含む基板を意味することもある。

[0077] 上記では光学リソグラフィの文脈での本発明の実施形態の使用について特に言及したが、本発明は例えばインプリントリソグラフィのような他の用途で使用されてもよく、文脈が許すならば光学リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板上に作成されるパターンを規定する。基板に供給されるレジスト層にパターニングデバイスのトポグラフィがプレスされ、その後、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組み合わせを加えることによってレジストが硬化されてもよい。パターニングデバイスはレジストから取り外され、レジストが硬化した後にパターンが残される。

[0078] 本明細書で用いられる「放射」および「ビーム」という用語は、（例えば３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍまたはおよそその長さの波長を有する）紫外放射（ＵＶ）、および（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）極紫外（ＥＵＶ）放射を含むあらゆる種類の電磁放射、ならびにイオンビームまたは電子ビームのような粒子ビームを包含するものである。

[0079] 「レンズ」という用語は文脈が許すなら、屈折、反射、磁気、電磁、および静電光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つ、または組み合わせを意味するものである。

[0080] これまで本発明の特定の実施形態を記載してきたが、本発明は記載した以外に実施してもよいことが理解されよう。例えば、本発明は上記の方法を記載する１つまたは複数の機械読取可能命令シーケンスを含むコンピュータプログラム、またはこのようなコンピュータプログラムが格納されたデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとってもよい。

[0081] 本明細書で用いられる「ａ」または「ａｎ」という用語は１つ以上であるものと定義される。本明細書で用いられる複数という用語は２つ以上であるものと定義される。本明細書で用いられる「別の」という用語は、少なくとも第２の、またはそれ以上であるものと定義される。本明細書で用いられる、含むおよび／または有するという用語は、含む（すなわちオープンランゲージ）であるものと定義される。本明細書で用いられる「結合される」という用語は、必ずしも直接ではなく、必ずしも機械的にではないが、接続される、と定義される。本明細書で用いられるプログラム、ソフトウエアアプリケーションなどの用語は、コンピュータシステムで実行するように設計された命令シーケンスであるものと定義される。プログラム、コンピュータプログラム、またはソフトウエアアプリケーションは、サブルーチン、機能、手順、オブジェクトメソッド、オブジェクト実装、実行可能アプリケーション、アプレット、サーブレット、ソースコード、オブジェクトコード、共用ライブラリ／ダイナミックロードライブラリ、および／またはコンピュータシステムで実行されるように設計されたその他の命令シーケンスを含んでもよい。

[0082] 上記の記述は限定的ではなく例示的であることを意図している。したがって、記載の本発明には以下に開示される請求項の範囲から離れることなく修正を行ってもよいことが当業者には明らかであろう。

[0021]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置の図である。 [0022]リソグラフィ装置の移動制御システムのブロック図である。 [0023]ｘおよびｙ方向の速度ベクトル図である。 [0024]ｘおよびｙ方向の別の速度ベクトル図である。 [0025]ｘおよびｙ方向のさらに別の速度ベクトル図である。 [0026]本発明の実施形態による移動制御システムの設定点発生部分のブロック図である。 [0027]本発明の移動制御システムの実施形態によるｘおよびｙ方向、ならびにｐおよびｑ方向の速度ベクトル図である。 [0028]本発明の移動制御システムの別の実施形態によるｘおよびｙ方向、ならびにｐおよびｑ方向の速度ベクトル図である。

Claims (6)

1. 基板を保持するように構成された基板支持体と、
   パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
   前記基板支持体を前記投影システムに対して軌道に沿って移動させるように構成された駆動システムと
   を備え、該駆動システムが、
   前記基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された第１の駆動モータと、
   前記基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された第２の駆動モータと、
   前記第１の駆動モータが前記基板を前記第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第１の軌道プランナと、
   前記第２の駆動モータが前記基板を前記第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成するように構成された第２の軌道プランナと、
   前記第１および第２の軌道プランナによって決定された前記第１の方向および前記第２の方向の前記設定点座標を、第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換するように構成された第１の座標変換器と、
   前記第１の駆動モータが前記基板を前記第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第３の方向での速度を第１の最大速度に制限するように構成された第１の設定点発生器と、
   前記第２の駆動モータが前記基板を前記第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第４の方向での速度を第２の最大速度に制限するように構成された第２の設定点発生器と、
   前記第１の設定点発生器および前記第２の設定点発生器によって決定された前記第３の方向および前記第４の方向の前記移動座標を、前記第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換するように構成された第２の座標変換器と
   を備え、
   前記投影システムと前記基板との間に液体が介在し、
   前記第１の方向が前記第２の方向と直交し、
   前記第３の方向が前記第４の方向と直交し、
   前記第３の方向が前記第１の方向に対して４５°の角度をなし、
   前記第４の方向が前記第２の方向に対して４５°の角度をなし、
   前記第１の最大速度は、１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊最大液浸速度であり、
   前記第２の最大速度は、１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊最大液浸速度である、
   液浸リソグラフィ装置。
2. 前記第１の座標変換器が、
   ｐ１＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
   ｑ１＝−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
   によって決定された変換を行うように構成され、
   ここで、
   ｘ１＝前記第１の方向の設定点座標
   ｙ１＝前記第２の方向の設定点座標
   ｐ１＝前記第３の方向の設定点座標
   ｑ１＝前記第４の方向の設定点座標
   である、請求項１に記載の液浸リソグラフィ装置。
3. 前記第２の座標変換器が、
   ｘ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
   ｙ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
   によって決定された変換を行うように構成され、
   ここで、
   ｘ２＝前記第１の方向の移動座標
   ｙ２＝前記第２の方向の移動座標
   ｐ２＝前記第３の方向の移動座標
   ｑ２＝前記第４の方向の移動座標
   である、請求項１又は２に記載の液浸リソグラフィ装置。
4. 液浸リソグラフィ装置の投影システムに対して基板支持体を移動させる方法であって、
   基板を保持するように構成された基板支持体を準備すること、
   パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを準備すること、
   前記基板支持体を軌道に沿って移動させるように構成され、かつ、前記基板支持体を第１の方向に移動させるように構成された駆動モータおよび前記基板支持体を第２の方向に移動させるように構成された駆動モータを備える、駆動システムを準備すること、
   前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第１の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
   前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第２の方向に移動させるために、設定点座標を含む設定点データを生成すること、
   前記第１の方向および前記第２の方向の前記設定点座標を第３の方向および第４の方向の設定点座標へとそれぞれ変換すること、
   前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第３の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第３の方向での速度を第１の最大速度に制限すること、
   前記基板支持体を前記投影システムに対して前記第４の方向に移動させるために、移動座標を含む移動データを生成し、前記第４の方向での速度を第２の最大速度に制限すること、および、
   前記第１および第２の駆動モータをそれぞれ駆動するために、前記第３の方向および前記第４の方向の前記移動座標を前記第１の方向および第２の方向の移動座標へとそれぞれ変換すること
   を含み、
   前記投影システムと前記基板との間に液体が介在し、
   前記第１の方向が前記第２の方向と直交し、
   前記第３の方向が前記第４の方向と直交し、
   前記第３の方向が前記第１の方向に対して４５°の角度をなし、
   前記第４の方向が前記第２の方向に対して４５°の角度をなし、
   前記第１の最大速度は、１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊最大液浸速度であり、
   前記第２の最大速度は、１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊最大液浸速度である、
   方法。
5. 前記設定点座標の前記変換が、
   ｐ１＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
   ｑ１＝−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｘ１＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｙ１
   によって決定され、
   ここで、
   ｘ１＝前記第１の方向の設定点座標
   ｙ１＝前記第２の方向の設定点座標
   ｐ１＝前記第３の方向の設定点座標
   ｑ１＝前記第４の方向の設定点座標
   である、請求項４に記載の方法。
6. 前記移動座標の前記変換が、
   ｘ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２−１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
   ｙ２＝１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｐ２＋１／２＊ｓｑｒｔ（２）＊ｑ２
   によって決定され、
   ここで、
   ｘ２＝前記第１の方向の移動座標
   ｙ２＝前記第２の方向の移動座標
   ｐ２＝前記第３の方向の移動座標
   ｑ２＝前記第４の方向の移動座標
   である、請求項４又は５に記載の方法。

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