JP4724576B2 - 多元薄膜形成装置 - Google Patents
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Description
2 基板ステージ
3 処理基板
4 スパッタリングカソード
5 遮蔽手段
6 押圧手段
7 駆動手段
8 引張手段
Claims (11)
- 真空チャンバ内で処理基板に対向させて同一円周上に配置した複数の蒸発源と、いずれかの蒸発源の蒸発粒子が他の蒸発源に再付着することを防止するために各蒸発源を遮る複数の遮蔽手段とを備え、この遮蔽手段は、上記円周の中心を通る線を回転中心として回動自在に設けられたアーム部と、このアーム部の先端に設けられたシャッター部とを有し、少なくとも2本のアーム部に対し、押圧力または引張力のいずれか一方を加えて、上記蒸発源を開放する開放位置と上記シャッター部によって遮蔽する遮蔽位置とに回動させる移動手段を備えたことを特徴とする多元薄膜形成装置。
- 上記移動手段は、上記押圧力を加える押圧手段と、この押圧手段を駆動する駆動手段と、上記押圧されたアーム部を上記引張力によって回動前の位置に引き戻す引張手段とから構成されることを特徴とする請求項1記載の多元薄膜形成装置。
- 上記押圧手段は、2本のアーム部間に配設され、上記駆動手段により、いずれか一方に回動させると、一方のアーム部を上記引張手段に抗して上記開放位置または遮蔽位置に向けて押圧回動し、上記駆動手段により、他方に回動させると、他方のアーム部を上記引張手段に抗して上記開放位置または遮蔽位置に向けて押圧回動するように構成されたことを特徴とする請求項2記載の多元薄膜形成装置。
- 上記押圧手段は、台座とこの台座に立設させた1対の突起部とを有し、回動前の状態でこの1対の突起部は2本のアーム部にそれぞれ内接し、2本のアーム部を上記円周方向に所定角度の間隔を保持して位置決めできるように形成されたものであることを特徴とする請求項2または請求項3記載の多元薄膜形成装置。
- 上記引張手段は、上記2本のアーム部間で挟持された固定部と、各々の一端がこの固定部で支持されると共に、各々の他端が各アーム部に支持された引張力を有する1対の弾性体とを有し、上記押圧手段により上記開放位置または遮蔽位置に回動したアーム部を回動前の位置に引き戻すように構成されたことを特徴とする請求項2〜請求項4のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
- 上記引張手段は、上記2本のアーム部が、回動前の状態で上記円周方向に所定角度の間隔を保持して位置決めできるように固定部が形成されたものであることを特徴とする請求項2〜請求項5のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
- 上記遮蔽手段に加えて、蒸着粒子の飛行経路を選択的に遮ることで成膜速度の調整及び上記処理基板への薄膜の膜厚分布の調整の少なくとも一方を可能とする1個以上の開口部を設けた調整手段を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
- 上記押圧手段の台座が、上記同一円周上に配置された相互に隣接する蒸発源の間隔に応じて円周方向に伸縮自在に形成されたものであることを特徴とする請求項2〜請求項7のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
- 上記引張手段に代えてまたは加えて、上記押圧されたアーム部の回動に伴って他のアーム部を同一方向に引き寄せる牽引手段を備えたことを特徴とする請求項2〜請求項4のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
- 上記弾性体を有する2本のアーム部間に上記引張手段の固定部に代えて1本以上のアーム部を全体で同時に回動自在になるように設け、上記押圧手段により、上記2本のアーム部のいずれか一方が、押圧回動すると、押圧されたアーム部側に支持された弾性体が上記牽引手段として、上記1本以上のアーム部を牽引するように構成されたものであることを特徴とする請求項9記載の多元薄膜形成装置。
- 上記蒸発源は、ターゲットを有するスパッタリングカソードであることを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の多元薄膜形成装置。
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