CN109023274A - 手表表盘字钉真空镀膜方法 - Google Patents

手表表盘字钉真空镀膜方法 Download PDF

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尤文村
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Abstract

本发明公开了一种手表表盘字钉真空镀膜方法,涉及手表加工技术领域,包括以下步骤,做好开机前的准备工作,检查设备、水、气等是否处于正常待机状态;真空机开机,真空机的***主电上电后,真空机的控制柜电源指示灯亮,按下控制柜门面板上电源按钮,控制***上电,同时按钮指示灯绿灯亮,恢复急停按钮为弹起状态;通过控制柜上的触摸屏控制真空机抽真空;真空机本体内真空,温度达到本次生产工艺所预期要求后,调节节流阀,调节质量流量计进气,使真空室中压强满足工作要求,确定真空机接线正确及负载无短路情况下,按照工艺要求进行镀膜。解决表盘镀膜不平整的问题,能够在表盘表面均匀镀膜,使表盘表面更加平整。

Description

手表表盘字钉真空镀膜方法
技术领域
本发明涉及手表加工技术领域,特别涉及一种手表表盘字钉真空镀膜方法。
背景技术
表盘是手表必不可少的一个组成部分,随着消费者的消费档次和品味不断提高,对手表的要求也越来越高,使得市场上的手表产品正成为一种从传统走向时尚,从计时功能走向装饰需求,从使用价值为主演化到以品牌价值为主的特殊消费品。
目前,在传统的手表生产领域中,表盘基本都是使用铜片制作而成的,使用铜片制成的表盘形状稳定性能好,强度和刚度均比较适中,有着抗摔抗腐蚀的作用。铜片制作的表盘造价一般较高,对信号有屏蔽效应,而且字钉和表盘是分离的,长时间使用后,表盘和字钉很容易发生氧化生锈,影响手表的使用寿命,通常在手表表盘表面镀上一层电镀膜,来保护表盘。现有技术中镀膜方法比较简单,在表盘表面镀的膜不平,整影响表盘的使用和指针的转动,急需一种解决上述问题的新的镀膜方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种手表表盘字钉真空镀膜方法,能够在表盘表面均匀镀膜,使表盘表面更加平整。
本发明的上述目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种手表表盘字钉真空镀膜方法,包括以下步骤:
步骤1、做好开机前的准备工作,检查设备、水、气等是否处于正常待机状态;
步骤2、真空机开机,真空机的***主电上电后,真空机的控制柜电源指示灯亮,按下控制柜门面板上电源按钮,控制***上电,同时按钮指示灯绿灯亮, 恢复急停按钮为弹起状态;
步骤3、通过控制柜上的触摸屏控制真空机抽真空;
步骤4、真空机本体内真空,温度达到本次生产工艺所预期要求后,调节节流阀,调节质量流量计进气,使真空室中压强满足工作要求,确定真空机接线正确及负载无短路情况下,按照工艺要求进行镀膜。
通过采用上述技术方案,采用真空镀膜的方法在手表表盘上进行镀膜,做好前期的准备工作,能够将真空机内的气体抽离的更干净,镀膜时能够在表盘表面形成一层厚度均匀且平整的膜,保证了表盘表面的平整,表盘加工质量更高。
作为优选,所述步骤1包括以下步骤:
a、打开冷却水阀,接通冷却水,保持水路畅通,检查水压是否满足设备工作要求;
b、清理好真空室,将准备好的工件安装在转架的装卡轴上;
c、检查弧靶、磁控靶、样品转架接电是否正确,是否存在短路状态,关闭真空室门,并确定真空室门和真空室密封良好,检查气源是否处于正常工作状态,各气动阀门是否处于关闭状态,充气阀是否处于关闭状态,检查触摸屏各操作按钮是否复位。
通过采用上述技术方案,能够确保抽真空和镀膜的准备工作做好,保证抽真空工作和镀膜工作的顺利进行。
作为优选,所述步骤3包括以下步骤:
a、启动维持泵,按下控制柜触摸屏上维持泵图标;
b、启动维持阀,按下控制柜触摸屏上的维持阀图标,打开维持阀;
c、启动分子泵:按下触摸屏上分子泵图标,打开分子泵,泵上图标闪烁为加速中,闪烁灯常亮为分子泵全速运转;
作为优选,所述步骤3还包括以下步骤:
d、启动机械泵:按下触摸屏上机械泵图标,打开机械泵;
e、启动粗抽阀:等待5-10s,按下触摸屏上粗抽阀图标,打开粗抽阀,进行预抽真空度;
f、启动罗茨泵:真空度达到400-600Pa,按下触摸屏上罗茨泵图标,启动罗茨泵加速粗抽;
g、关闭粗抽阀:真空度达到5-10Pa,按下触摸屏上粗抽阀图标,关闭粗抽阀;
h、启动前置阀:等待5-15s,按下触摸屏前置阀图标,启动前置阀;
i、启动精抽阀:分子泵全速后,按下触摸屏上精抽阀图标,启动精抽阀,精抽真空。
通过采用上述技术方案,抽真空过程中,采用先用机械泵粗抽,再用分子泵精抽的形式,粗抽过程中使用罗茨泵加速,能够缩短抽真空时间,然后再用分子泵进行精抽,能够将真空机内的气体抽离的更干净。
作为优选,所述真空机的抽气***包括两台分子泵、两台机械泵、一台维持泵和一台罗茨泵。
通过采用上述技术方案,通过抽气***中几种泵的配合,能够将真空机内的气体抽离的更干净,使镀膜环境更好,同时缩短抽真空时间,提高工作效率。
作为优选,所述真空机的配电要求三路三相电源380V±6%,频率50Hz,弧电源总功率大于50KW;电控柜运行功率小于60KW;连接地线要求,配备良好的接地,接地电阻小于2欧姆。
通过采用上述技术方案,采用合理的电源和功率,能够保证整机平稳的运行,减少故障的发生。
作为优选,所述步骤2中冷却水要求,具备自来水或循环冷却水,水温小于20℃,水压0.2MPa。
通过采用上述技术方案,水温较低能够起到很好的冷却作用,水压适宜,保证冷却水的流速稳定。
作为优选,所述步骤4中真空机的供气要求,具备气源或气泵,气压范围0.4MPa-0.8M Pa。
通过采用上述技术方案,使工作气体具有一定的初速度,能够在真空机中快速移动。
作为优选,所述真空机的安装场地要求冷却空气不得含有腐蚀性蒸汽、颗粒、导电颗粒。
通过采用上述技术方案,使手表表盘的镀膜环境更洁净,避免空气中的酸性物质腐蚀表盘表面。
作为优选,所述镀膜方法采用磁控溅射镀膜,磁控溅射过程中存在磁场和电场两个场,溅射过程中工作气体氩气中的电子受电场的作用下加速飞向手表表盘基片,电子在飞向基片的过程中与氩气中的氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子;电子飞向基片,氩离子则在电场的作用下加速飞向靶材并对靶材进行轰击,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜。
通过采用上述技术方案,表盘镀膜采用磁控溅射的方法,能够在表盘表面形成更平整均匀的镀膜层,镀膜过程中靶原子或分子能够均匀分布,保证了表盘镀膜的平整。
综上所述,本发明具有以下有益效果:
1、本发明采用真空镀膜的方法在手表表盘上进行镀膜,做好前期的准备工作,能够将真空机内的气体抽离的更干净,镀膜时能够在表盘表面形成一层厚度均匀且平整的膜,保证了表盘表面的平整,表盘加工质量更高。
2、在抽真空的过程中,采用先粗抽后精抽的方式,能够快速并且高效地将真空机的气体抽离干净,为磁控溅射镀膜打下良好的环境。
3、本发明采用磁控溅射镀膜的方法,靶材原子能够高效的移动并沉积在表盘上,能够在表盘表面形成均匀平整的镀膜层。
附图说明
图1是本发明抽气***的连接结构图。
图中,1、分子泵;2、维持泵;3、机械泵;4、罗茨泵;5、维持阀;6、粗抽阀;7、前置阀;8、精抽阀;9、充气阀。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
在本发明创造的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明创造和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
一种手表表盘字钉真空镀膜方法,包括以下步骤:
步骤1、做好开机前的准备工作,检查设备、水、气等是否处于正常待机状态,首先确定真空机的安装场地满足要求,要求冷却空气不得含有腐蚀性蒸汽、颗粒、导电颗粒。具体准备内容如下:
a、打开冷却水阀,接通冷却水,保持水路畅通,检查水压是否满足设备工作要求,对冷却水的要求,采用自来水或循环冷却水,水温15℃,能够起到很好的冷却作用,水压0.2MPa,保证冷却水的流速稳定。
b、清理好真空室,将准备好的工件,即需要镀膜的表盘安装在真空机中转架的装卡轴上。
c、检查弧靶、磁控靶、样品转架接电是否正确,是否存在短路状态,关闭真空室门,并确定真空室门和真空室密封良好,检查气源是否处于正常工作状态,各气动阀门是否处于关闭状态,充气阀是否处于关闭状态,检查触摸屏各操作按钮是否复位。
步骤2、真空机开机,真空机的***主电上电后,真空机的控制柜电源指示灯亮,按下控制柜门面板上电源按钮,控制***上电,同时按钮指示灯绿灯亮, 恢复急停按钮为弹起状态。
步骤3、通过控制柜上的触摸屏控制真空机抽真空,其中真空机的抽气***如附图1所示,包括两台分子泵1、两台机械泵3、一台维持泵2和一台罗茨泵4。其中两台分子泵3并联,每台分子泵1的支路上前端串联有用于维持之路畅通的维持阀5,后端串联有用于精抽的精抽阀8控制管路与外界的联通和断开;两台分子泵3并联之后主管路上串联有前置阀7,前置阀7与维持阀5之间管路上连接有维持泵2置于真空室内;前置阀7所在的管路又并联有粗抽阀6所在的管路,粗抽阀6所在的管路能够将真空室内的气体粗抽到外界;粗抽阀6与前置阀7连接到罗茨泵4的输出端,罗茨泵4的输入端连接有两个并联的机械泵3,两个机械泵3置于真空室内,用于抽取气体。
抽真空的具体操作步骤如下:
a、启动维持泵2,按下控制柜触摸屏上维持泵2图标;
b、启动维持阀5,按下控制柜触摸屏上的维持阀5图标,打开维持阀5;
c、启动分子泵1:按下触摸屏上分子泵1图标,打开分子泵1,泵上图标闪烁为加速中,闪烁灯常亮为分子泵1全速运转;
d、启动机械泵3:按下触摸屏上机械泵3图标,打开机械泵3;
e、启动粗抽阀6:等待5s,按下触摸屏上粗抽阀6图标,打开粗抽阀6,进行预抽真空度;
f、启动罗茨泵4:真空度达到400Pa后,按下触摸屏上罗茨泵4图标,启动罗茨泵4进行加速粗抽,提高气体的抽出速度;
g、真空室内的真空度达到10Pa后,按下触摸屏上粗抽阀6图标,关闭粗抽阀6,停止进行粗抽;
h、关闭粗抽阀6后等待5s,按下触摸屏前置阀7图标,启动前置阀7;
i、启动精抽阀8:等到分子泵1全速时,按下触摸屏上精抽阀8的图标,启动精抽阀8,进行精抽真空。
其中,真空机的配电要求为三路三相电源380V,频率50Hz,弧电源总功率大于60KW;电控柜运行功率小于55KW;连接地线要求,配备良好的接地,接地电阻小于2欧姆。
步骤4、真空机本体内真空,温度达到本次生产工艺所预期要求后,调节充气阀9,调节质量流量计进气,使真空室中压强满足工作要求,确定真空机接线正确及负载无短路情况下,按照工艺要求进行镀膜。
镀膜工艺如下:本发明镀膜方法采用磁控溅射镀膜,磁控溅射过程中存在磁场和电场两个场,溅射过程中工作气体氩气中的电子受电场的作用下加速飞向手表表盘基片,电子在飞向基片的过程中与氩气中的氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子;电子飞向基片,氩离子则在电场的作用下加速飞向靶材并对靶材进行轰击,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜。
二次电子在加速飞向基片的过程中受磁场洛伦兹力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动,使电子的运动路径很长,在运动过程中不断撞击电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次的碰撞后电子的能量逐渐降低,拜托磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。在整个工作过程中磁场起到了束缚和延长电子运动路径的作用。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释,其并不是对本发明的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (10)

1.一种手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、做好开机前的准备工作,检查设备、水、气等是否处于正常待机状态;
步骤2、真空机开机,真空机的***主电上电后,真空机的控制柜电源指示灯亮,按下控制柜门面板上电源按钮,控制***上电,同时按钮指示灯绿灯亮, 恢复急停按钮为弹起状态;
步骤3、通过控制柜上的触摸屏控制真空机抽真空;
步骤4、真空机本体内真空,温度达到本次生产工艺所预期要求后,调节节流阀,调节质量流量计进气,使真空室中压强满足工作要求,确定真空机接线正确及负载无短路情况下,按照工艺要求进行镀膜。
2.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于,所述步骤1包括以下步骤:
a、打开冷却水阀,接通冷却水,保持水路畅通,检查水压是否满足设备工作要求;
b、清理好真空室,将准备好的工件安装在转架的装卡轴上;
c、检查弧靶、磁控靶、样品转架接电是否正确,是否存在短路状态,关闭真空室门,并确定真空室门和真空室密封良好,检查气源是否处于正常工作状态,各气动阀门是否处于关闭状态,充气阀是否处于关闭状态,检查触摸屏各操作按钮是否复位。
3.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于,所述步骤3包括以下步骤:
a、启动维持泵,按下控制柜触摸屏上维持泵图标;
b、启动维持阀,按下控制柜触摸屏上的维持阀图标,打开维持阀;
c、启动分子泵:按下触摸屏上分子泵图标,打开分子泵,泵上图标闪烁为加速中,闪烁灯常亮为分子泵全速运转。
4.根据权利要求3所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于,所述步骤3还包括以下步骤:
d、启动机械泵:按下触摸屏上机械泵图标,打开机械泵;
e、启动粗抽阀:等待5-10s,按下触摸屏上粗抽阀图标,打开粗抽阀,进行预抽真空度;
f、启动罗茨泵:真空度达到400-600Pa,按下触摸屏上罗茨泵图标,启动罗茨泵加速粗抽;
g、关闭粗抽阀:真空度达到5-10Pa,按下触摸屏上粗抽阀图标,关闭粗抽阀;
h、启动前置阀:等待5-15s,按下触摸屏前置阀图标,启动前置阀;
i、启动精抽阀:分子泵全速后,按下触摸屏上精抽阀图标,启动精抽阀,精抽真空。
5.根据权利要求4所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述真空机的抽气***包括两台分子泵、两台机械泵、一台维持泵和一台罗茨泵。
6.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述真空机的配电要求三路三相电源380V±6%,50Hz,弧电源总功率大于50KW;电控柜运行功率小于60KW;连接地线要求,配备良好的接地,接地电阻小于2欧姆。
7.根据权利要求2所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述步骤2中冷却水要求,具备自来水或循环冷却水,水温小于20℃,水压0.2 Pa。
8.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述步骤4中真空机的供气要求,具备气源或气泵,气压范围0.4MPa-0.8M Pa。
9.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述真空机的安装场地要求冷却空气不得含有腐蚀性蒸汽、颗粒、导电颗粒。
10.根据权利要求1所述的手表表盘字钉真空镀膜方法,其特征在于:所述镀膜方法采用磁控溅射镀膜,磁控溅射过程中存在磁场和电场两个场,溅射过程中工作气体氩气中的电子受电场的作用下加速飞向手表表盘基片,电子在飞向基片的过程中与氩气中的氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子;电子飞向基片,氩离子则在电场的作用下加速飞向靶材并对靶材进行轰击,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子或分子沉积在基片上成膜。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112962077A (zh) * 2021-03-06 2021-06-15 东莞市立恒镀膜科技有限公司 五金产品喷砂后局部拉丝或抛光的遮蔽制备方法
CN115386848A (zh) * 2022-08-09 2022-11-25 中国科学院近代物理研究所 一种多靶直流磁控溅射镀膜装置及其在沉积陶瓷基底多层金属膜中的应用
CN116791056A (zh) * 2023-06-30 2023-09-22 安徽其芒光电科技有限公司 真空镀膜设备的排气加热方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1632163A (zh) * 2004-12-31 2005-06-29 兰州大成自动化工程有限公司 一种真空镀膜组态工艺控制方法
JP2007239033A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Ulvac Japan Ltd 多元薄膜形成装置
CN201121208Y (zh) * 2007-11-05 2008-09-24 苏贵方 真空设备的抽气装置
CN105543790A (zh) * 2016-02-15 2016-05-04 佛山市佛欣真空技术有限公司 一种真空镀膜机***及其操作方法
CN205839113U (zh) * 2016-06-13 2016-12-28 江西兴邦光电股份有限公司 一种改善镀膜机冷却水控制的装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1632163A (zh) * 2004-12-31 2005-06-29 兰州大成自动化工程有限公司 一种真空镀膜组态工艺控制方法
JP2007239033A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Ulvac Japan Ltd 多元薄膜形成装置
CN201121208Y (zh) * 2007-11-05 2008-09-24 苏贵方 真空设备的抽气装置
CN105543790A (zh) * 2016-02-15 2016-05-04 佛山市佛欣真空技术有限公司 一种真空镀膜机***及其操作方法
CN205839113U (zh) * 2016-06-13 2016-12-28 江西兴邦光电股份有限公司 一种改善镀膜机冷却水控制的装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112962077A (zh) * 2021-03-06 2021-06-15 东莞市立恒镀膜科技有限公司 五金产品喷砂后局部拉丝或抛光的遮蔽制备方法
CN115386848A (zh) * 2022-08-09 2022-11-25 中国科学院近代物理研究所 一种多靶直流磁控溅射镀膜装置及其在沉积陶瓷基底多层金属膜中的应用
CN116791056A (zh) * 2023-06-30 2023-09-22 安徽其芒光电科技有限公司 真空镀膜设备的排气加热方法

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