JP4695964B2 - グレートーンマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
1)Crエッチング液(硝酸第二セリウム+過塩素酸系)、
2)フッ酸エチング液及び
3)Crエッチング液
を用いた三工程となる。また半透光部Bを得るためのエッチングはCrエッチング液を用いた一工程(ストッパー層の除去を行う場合は二工程)となる。また、半透光膜の組成として酸化Cr膜(CrOx膜)及び、金属Cr膜等が提案されている。
前記半透光部を形成する半透光膜がCr金属膜を主要素とし、
前記半透光部を形成する半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴としている。
前記半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴としている。
図1には、本発明によるグレートーンマスクの製造工程の一例を示す。
2:遮光膜
3:レジスト膜
4:レジストパターン
5:開口部
6:半透光膜
7:半透光部
8:レジスト膜
9:遮光部
Claims (8)
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、
前記半透光部を形成する半透光膜がCr金属膜を主要素とし、
前記半透光部を形成する半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴とするグレートーンマスク。 - 前記半透光膜の透過率が20〜50%であることを特徴とする請求項1に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクがフォトリソ工程で形成したCr膜フォトマスクの開口部の一部に半透光膜を形成したグレートーンマスクであることを特徴とする請求項1又は2に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクが透明基板上に半透光膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用いて作成され、遮光膜と前記半透光膜の金属成分が異なっていることを特徴とする請求項1又は2に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクが透明基板上に半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用いて作成され、エッチングストッパー膜の金属成分が遮光膜及び半透光膜の金属成分と異なっていることを特徴とする請求項1又は2に記載のグレートーンマスク。
- 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、
透明基板上に遮光膜を形成したCr膜ブランクスを用い、Crエッチング液(硝酸第二セリウム+過塩素酸系)を用いて遮光膜をエッチングして、Cr膜フォトマスクの開口部を形成し、形成した開口部の一部に半透光膜を形成し、
前記半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。 - 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、
透明基板上に金属成分の異なる半透光膜及び遮光膜を順に形成したブランクスを用い、半透光膜及び遮光膜のエッチング特性の違いを利用して作成するグレートーンマスクの製造方法であって、
前記半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。 - 遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、
透明基板上に半透光膜、エッチングストッパー膜、遮光膜の順に形成されたブランクスを用い、エッチングストッパー膜の金属成分が遮光膜及び半透光膜の金属成分と異り、
前記半透光膜が、第一の薄膜として形成したCr金属膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とを含み、
前記第一の薄膜が5〜10nmの膜厚範囲にあり、第二の薄膜が0.1〜7.5nmの膜厚範囲にあることを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
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