JP4690561B2 - 半導体チップ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、「コイルオンチップ」と呼称されるコイル一体型の半導体チップに係り、特に、当該半導体チップの製造過程で使用されるイニシャライズ用パッドの配置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、例えば非接触通信式ICカード等の情報担体に適用される半導体チップとして、半導体チップの絶縁保護層上に非接触通信用のコイルを形成し、当該コイルと半導体チップに形成された回路とを電気的に接続してなるコイルオンチップが提案されている。この半導体チップは、前記絶縁保護層上に形成されたコイルと外部装置に備えられたコイルとを電磁結合させることによって、外部装置から半導体チップへの電力の供給と、外部装置と半導体チップとの間の信号の送受信を行うことができる。
【0003】
ところで、この種の半導体チップを非接触通信式ICカードなどの情報担体に適用する場合には、情報担体の信頼性を高めるため、半導体チップの製造過程の各段階においては、半導体チップ内に形成されたメモリに対するアクセスを自由にして半導体チップの特性を検査する必要があり、また、検査後においては、情報担体のセキュリティを確保するため、コイルから半導体チップ内に形成されたメモリへのアクセスを制限する処理を行う必要がある。本明細書においては、これらの検査や処理を総称して「イニシャライズ」といい、これに使用するためのパッドをイニシャライズ用パッドという。
【0004】
従来、イニシャライズ用パッドを有するコイルオンチップとしては、図4及び図5に示すように、イニシャライズ用パッド14がコイル13と共に半導体チップ11の絶縁保護層12上に形成されたものが提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、イニシャライズ用パッド14が絶縁保護層12上に露出していると、当該パッド14を利用することによって、半導体チップ11の回路部に形成されたメモリに容易にアクセスすることができ、当該メモリに記憶されたデータの盗用、破壊及び改竄が可能になるので、十分なセキュリティ特性を確保することができない。なお、コイル13及びイニシャライズ用パッド14の表面を第2絶縁保護層で覆えば、イニシャライズ用パッド14を非露出の状態にすることができるが、第2絶縁保護層を剥離すれば、イニシャライズ用パッド14を容易に露出させることができ、かつ、コイル13を用いた通信も可能であることから、実用上十分なセキュリティ対策とはいえない。また、イニシャライズ用パッド14をコイル13と共に半導体チップ11の絶縁保護層12上に形成すると、コイル13の設置面積が減少するために、外部装置との通信距離が小さくなったり、半導体チップ11における回路の配列が困難になるという不都合を生じる。なお、チップサイズを大型化すれば、かかる不都合を回避することができるが、チップ単価が高価になったり、半導体チップ11が搭載される装置が大型化するという別の不都合を生じる。
【0006】
本発明は、かかる技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的は、小型かつ高性能にしてセキュリティ特性に優れたコイルオンチップを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記の目的を達成するため、回路面にイニシャライズ用パッド及びコイル用パッドを形成し、前記イニシャライズ用パッド上に絶縁保護膜を介して前記コイル用パッドと接続された非接触通信用のコイルを形成したことを特徴とする。
【0008】
かように、非接触通信用コイルの下層にイニシャライズ用パッドを配置すると、イニシャライズ用パッドを非露出の状態に形成することができるので、イニシャライズ用パッドを利用したメモリに記憶されたデータの盗用、破壊及び改竄が困難になり、コイルオンチップのセキュリティ特性を高めることができる。また、非接触通信用コイルを剥離すれば、イニシャライズ用パッドを露出させることができ、メモリに記憶されたデータの盗用、破壊及び改竄が可能になるが、コイルが剥離されているので、以後はコイルオンチップとして利用することができず、盗用または改竄されたデータの悪用を防止することができる。さらに、非接触通信用コイルの下層にイニシャライズ用パッドを配置すると、イニシャライズ用パッドを設定するための特別のスペースを半導体チップ上に設ける必要がないので、コイルの設置面積が減少されず、外部装置との通信距離を確保できると共に、半導体チップにおける回路の設計を容易化することができる。加えて、チップサイズを大型化する必要がないことから、チップ単価の上昇や半導体チップが搭載される装置の大型化を防止することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る半導体チップの一実施形態例を、図1乃至図3に基づいて説明する。図1は実施形態例に係る半導体チップの上面図、図2は図1のA−A断面図、図3は実施形態例に係る半導体チップの製造方法を示すフローチャートであって、図中の符号1は半導体チップ、符号2は半導体チップ1の回路面に形成されたイニシャライズ用パッド、符号3は半導体チップ1の回路面に形成されたコイル用パッド、符号4はイニシャライズ用パッド2及びコイル用パッド3の形成部を除く半導体チップ1の回路面に形成された絶縁保護層、符号5は絶縁保護層3上に形成されたコイルを示している。
【0010】
図1及び図2から明らかなように、本例の半導体チップ1は、半導体チップ1の回路面にイニシャライズ用パッド2及びコイル用パッド3を形成し、前記イニシャライズ用パッド2上に絶縁保護層4を介してコイル用パッド3と接続されたコイル5を形成したことを特徴とする。前記イニシャライズ用パッド2及びコイル用パッド3は、アルミニウム等の金属膜をパターニングすることによって形成され、前記絶縁保護層4は、絶縁性の樹脂をコーティングすることによって形成することができる。
【0011】
本例の半導体チップ1は、図3に示すように、まず手順S−1で通常のプロセス技術にしたがって回路面にイニシャライズ用パッド2とコイル用パッド3とを有する半導体チップを作製し、次いで手順S−2でイニシャライズ用パッド2を利用して所要のイニシャライズを行い、次いで手順S−3で所要の特性を有する良品について、前記イニシャライズ用パッド3上に絶縁保護層4を形成し、最後に手順S−4で前記絶縁保護層4上にコイル5の形成を行うことによって作製される。なお、前記イニシャライズ用パッド2、絶縁保護層4及びコイル5の形成は、スクライブ以前のシリコンウエハの状態で行うことができる。
【0012】
本例の半導体チップ1は、チップ完成以前にイニシャライズ用パッド2を用いて所要のイニシャライズを実行することができるので、信頼性及びセキュリティ特性に優れた半導体チップを得ることができる。また、本例の半導体チップ1は、コイル5の下層にイニシャライズ用パッド2を配置したので、イニシャライズ用パッド2を非露出の状態に形成することができ、イニシャライズ用パッド2を利用したデータの盗用、破壊及び改竄が困難になり、コイルオンチップのセキュリティ特性を高めることができる。また、コイル5を剥離すれば、イニシャライズ用パッド2を露出させることができ、メモリに記憶されたデータの盗用、破壊及び改竄が可能になるが、コイル5が剥離されているので、以後はコイルオンチップとして利用することができず、盗用または改竄されたデータの悪用を防止することができる。さらに、本例の半導体チップ1は、絶縁保護層4を介してコイル5の下層にイニシャライズ用パッド2を形成したので、イニシャライズ用パッド2を設定するための特別のスペースをコイル5の形成面に設ける必要がなく、コイル5の設置面積が減少されないことから、外部装置との通信距離を確保できると共に、半導体チップ1における回路の設計を容易化することができる。加えて、チップサイズを大型化する必要がないので、チップ単価の上昇や半導体チップが搭載される装置の大型化を防止することができる。
【0013】
なお、前記コイル5の外面には、第2絶縁保護膜を設けることもできる。
【0014】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、非接触通信用コイルの下層にイニシャライズ用パッドを配置したので、イニシャライズ用パッドを非露出の状態に形成することができ、イニシャライズ用パッドを利用したデータの盗用、破壊及び改竄が困難になり、コイルオンチップのセキュリティ特性を高めることができる。また、非接触通信用コイルを剥離すれば、イニシャライズ用パッドを露出させることができ、メモリに記憶されたデータの盗用、破壊及び改竄が可能になるが、コイルが剥離されているので、以後はコイルオンチップとして利用することができず、盗用または改竄されたデータの悪用を防止することができる。さらに、コイルの下層にイニシャライズ用パッドを配置したので、イニシャライズ用パッドを設定するための特別のスペースをコイルの形成面に設ける必要がなく、コイルの設置面積の減少を防止できて外部装置との通信距離を確保できると共に、半導体チップにおける回路の設計を容易化することができる。加えて、チップサイズを大型化する必要がないので、チップ単価の上昇や半導体チップが搭載される装置の大型化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態例に係る半導体チップの上面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】実施形態例に係る半導体チップの製造方法を示すフローチャートであ
【図4】従来例に係る半導体チップの上面図である。
【図5】図4のB−B断面図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ
2 イニシャライズ用パッド
3 コイル用パッド
4 絶縁保護層
5 コイル

Claims (1)

  1. 回路面にイニシャライズ用パッド及びコイル用パッドを形成し、前記イニシャライズ用パッド上に絶縁保護膜を介して前記コイル用パッドと接続された非接触通信用のコイルを形成したことを特徴とする半導体チップ。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4758621B2 (ja) 2003-08-28 2011-08-31 パナソニック株式会社 基本セル、端部セル、配線形状、配線方法、シールド線の配線構造
CN100474566C (zh) 2004-09-09 2009-04-01 株式会社半导体能源研究所 无线芯片
WO2007043602A1 (en) * 2005-10-14 2007-04-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and communication system using the semiconductor device
JP5398463B2 (ja) 2009-10-15 2014-01-29 ルネサスエレクトロニクス株式会社 インタフェースic及びこれを備えるメモリカード
JP6251770B2 (ja) * 2016-04-15 2017-12-20 株式会社エスケーエレクトロニクス Rfidタグ

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998029261A1 (fr) * 1996-12-26 1998-07-09 Hitachi, Ltd. Dispositif a semiconducteur et son procede de production
JP2000323643A (ja) * 1999-02-24 2000-11-24 Hitachi Maxell Ltd Ic素子及びその製造方法並びにic素子を搭載した情報担体及びその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10193849A (ja) * 1996-12-27 1998-07-28 Rohm Co Ltd 回路チップ搭載カードおよび回路チップモジュール
JP3383551B2 (ja) * 1997-07-03 2003-03-04 株式会社東芝 半導体装置及びその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998029261A1 (fr) * 1996-12-26 1998-07-09 Hitachi, Ltd. Dispositif a semiconducteur et son procede de production
JP2000323643A (ja) * 1999-02-24 2000-11-24 Hitachi Maxell Ltd Ic素子及びその製造方法並びにic素子を搭載した情報担体及びその製造方法

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