JP4679172B2 - 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4679172B2 JP4679172B2 JP2005046732A JP2005046732A JP4679172B2 JP 4679172 B2 JP4679172 B2 JP 4679172B2 JP 2005046732 A JP2005046732 A JP 2005046732A JP 2005046732 A JP2005046732 A JP 2005046732A JP 4679172 B2 JP4679172 B2 JP 4679172B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chuck
- substrate
- display panel
- support
- panel substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 99
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 40
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
10 チャック
11 チャック支持台
12 ベース板
13 スポーク
14 リム
15 ボールピン
20 マスクホルダ
21 支持用腕
22 チルト用腕
30a,30b,30c,30d マスクホルダ支持部材
31 支持板
41 荷重支持機構
42 Z−チルト機構
Claims (6)
- 基板を保持するチャックと、
フォトマスクを保持するマスクホルダと、
ベース板と、該ベース板の中心から放射状に取り付けられた複数のスポークと、各スポークの間に取り付けられたリムと、該スポーク及び該リムの上面に設けられた3つより多数のピンとを有し、3つより多数のピンにより前記チャックを3点より多数の点で支持し、前記チャックを支持する各点の高さを調整して、前記チャックのたわみを矯正するチャック支持手段と、
前記チャック支持手段を搭載し、前記チャックに保持された基板の移動及び位置決めを行うステージと、
前記マスクホルダを上下に移動及びチルトする複数のZ−チルト機構とを備え、
前記チャック支持手段により前記チャックを支持したまま上下に移動及びチルトせず、前記複数のZ−チルト機構により前記マスクホルダを上下に移動及びチルトして、前記チャックに保持された基板と前記マスクホルダに保持されたフォトマスクとのギャップ制御を行うことを特徴とする表示用パネル基板の露光装置。 - 前記複数のZ−チルト機構と別に設けられ、エア圧により前記マスクホルダの荷重を支える複数の荷重支持機構を有することを特徴とする請求項1に記載の表示用パネル基板の露光装置。
- 基板を保持するチャックを、ベース板と、ベース板の中心から放射状に取り付けられた複数のスポークと、各スポークの間に取り付けられたリムと、スポーク及びリムの上面に設けられた3つより多数のピンとを有するチャック支持台の3つより多数のピンにより、3点より多数の点で支持し、チャック支持台のチャックを支持する各点の高さを調整して、チャックのたわみを矯正しながら、チャックに保持された基板の移動及び位置決めを行い、
チャックをチャック支持台で支持したまま上下に移動及びチルトせず、マスクホルダを複数のZ−チルト機構で上下に移動及びチルトして、チャックに保持された基板とマスクホルダに保持されたフォトマスクとのギャップ制御を行うことを特徴とする表示用パネル基板の露光方法。 - 複数のZ−チルト機構と別に設けたエア圧により荷重を支える複数の荷重支持機構でマスクホルダの荷重を支えることを特徴とする請求項3に記載の表示用パネル基板の露光方法。
- 請求項1又は請求項2に記載の表示用パネル基板の露光装置を用いて、フォトマスクのパターンを基板上に転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載の表示用パネル基板の露光方法を用いて、フォトマスクのパターンを基板上に転写することを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046732A JP4679172B2 (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046732A JP4679172B2 (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006235019A JP2006235019A (ja) | 2006-09-07 |
JP4679172B2 true JP4679172B2 (ja) | 2011-04-27 |
Family
ID=37042765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005046732A Expired - Fee Related JP4679172B2 (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4679172B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5052438B2 (ja) * | 2008-07-15 | 2012-10-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5133271B2 (ja) * | 2009-01-08 | 2013-01-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010175661A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010217389A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP5441770B2 (ja) * | 2010-03-10 | 2014-03-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5371859B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-12-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
KR101770221B1 (ko) * | 2016-05-03 | 2017-08-22 | (주)에스티아이 | 기판지지장치 |
JP7406338B2 (ja) * | 2019-10-16 | 2023-12-27 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、ステージ装置の調整方法、および物品製造方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62279629A (ja) * | 1986-05-28 | 1987-12-04 | Hitachi Ltd | プロキシミテイ方式の露光装置 |
JPH04149555A (ja) * | 1990-10-15 | 1992-05-22 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 大型基板露光装置 |
JPH05159998A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-25 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置におけるギャップ制御方法 |
JPH05182889A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置における穴あきマスク及びそれを使用したギャップ制御方法 |
JPH07134426A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-05-23 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 露光装置のマスク板固定方法 |
JPH09129548A (ja) * | 1995-11-02 | 1997-05-16 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
JP2000031010A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Ushio Inc | プロキシミティ露光におけるマスクとワークのギャップ制御方法およびプロキシミティ露光装置 |
JP2003186199A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2004061577A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-02-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置 |
JP2004272139A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
JP2004279513A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6421920A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Hitachi Ltd | Close-up type exposure device |
JPS6454393A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-01 | Nec Corp | Flap stage |
-
2005
- 2005-02-23 JP JP2005046732A patent/JP4679172B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62279629A (ja) * | 1986-05-28 | 1987-12-04 | Hitachi Ltd | プロキシミテイ方式の露光装置 |
JPH04149555A (ja) * | 1990-10-15 | 1992-05-22 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 大型基板露光装置 |
JPH05159998A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-25 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置におけるギャップ制御方法 |
JPH05182889A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置における穴あきマスク及びそれを使用したギャップ制御方法 |
JPH07134426A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-05-23 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 露光装置のマスク板固定方法 |
JPH09129548A (ja) * | 1995-11-02 | 1997-05-16 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
JP2000031010A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Ushio Inc | プロキシミティ露光におけるマスクとワークのギャップ制御方法およびプロキシミティ露光装置 |
JP2003186199A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 露光装置 |
JP2004061577A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-02-26 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置 |
JP2004272139A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
JP2004279513A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006235019A (ja) | 2006-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4679172B2 (ja) | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2649519B2 (ja) | 平板状物体移送位置決め装置 | |
JP2007178819A (ja) | 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ | |
JP4848162B2 (ja) | 導電性ボールを搭載する装置および方法 | |
JP2006235018A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP3960429B2 (ja) | ワークチャック | |
TWI360727B (ja) | ||
JP2005310989A (ja) | 基板及びフォトマスクの受け渡し方法、並びに基板及びフォトマスクの受け渡し装置 | |
JP5125739B2 (ja) | Xyステップ露光装置 | |
JP4425943B2 (ja) | ワークチャック | |
JP2013125795A (ja) | 基板位置決め装置及び基板位置決め方法 | |
JP2015088590A (ja) | 基板吸着装置および基板平面度補正方法 | |
JP4425944B2 (ja) | ワークチャック及びその制御方法 | |
JP5052438B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5320551B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP7433181B2 (ja) | 描画装置 | |
JP2009036925A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5392946B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP4799324B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010231125A (ja) | プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のマスク搬送方法 | |
JP2008091948A (ja) | ステージおよびこれを用いた基板搬送方法 | |
JP4425903B2 (ja) | ワークチャック及びその制御方法 | |
JP2020046681A (ja) | 露光装置 | |
JP6036958B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6631655B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060516 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100603 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4679172 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |