JP4623905B2 - 酸洗いまたは研磨のための、電解セルまたは超音波セルによる局部的クリーニングのための装置 - Google Patents
酸洗いまたは研磨のための、電解セルまたは超音波セルによる局部的クリーニングのための装置 Download PDFInfo
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Description
本発明は酸洗い(酸洗い)または研磨のための電解セルまたは超音波セルにより局部的な洗浄を行うための装置、また、先の処理により金属表面に掬われ、ハロおよび一般には汚染物が残る金属部品をクリーニングするのに使用される装置に関する。この装置は、溶接ビードをクリーニングするのに極めて有効である。
【0002】
従来技術として、研磨工具により表面をクリーニングするようになっている装置がある。この装置は、工具ヘッドに塗布したり、または多孔質要素内に溶解できる研磨剤によってクリーニング、酸洗いまたは研磨すべき金属表面をスコアリングすることを特徴としている。
【0003】
米国特許第4,206,028号は、上記ヘッドと被処理表面との間に設けられた適当な処理剤による電気化学的酸洗いと研磨作用とを組み合わせており、被処理表面を正の直流電流が通過するようになっており、被処理表面に前記処理剤を塗布し、一方、上記工具ヘッドに負極を加えるか、または上記工具またはヘッドから離間したエミッタ、およびその電極によって供給される超音波を使用し、必要な場合、交流電流または電解液と被処理表面に塗布する液体と組み合わせたヘッドを使用し、よって極性の反転をも利用するようになっている。
【0004】
また、実用的な用途が何年間も見つからない同様の従来技術による装置も知られている。その理由は、利用される装置を使用することが困難であること、および研磨材料と組み合わされた電解液を、上記ヘッドまたは工具内で供給しながら、電気化学剤または超音波の作動環境を定めることが困難であることが挙げられる。
【0005】
更に従来技術として、パイプの内部をクリーニングするためのヘッドを開示している米国特許第4,772,367号が挙げられる。この米国特許では、ヘッドおよび上記表面の内部で供給される電解液により電気化学的作用を生じさせるために、ヘッドの外側表面の近くに分岐した電極が設けられ、絶縁被膜により、表面の近くの所定位置に電解液を維持でき、絶縁被膜が表面に接触しないが、電解液がパイプを通過して流れ去ることができるようにするためのキャビティが残されている。
【0006】
しかし、パイプのための上記ヘッドは、米国特許第5,964,990号に記載されている電気化学的クリーニング技術の欠点を有する。この米国特許では極めて耐熱性の高い材料によっても絶縁被膜が挟持されており、そのため、絶縁被膜が摩耗することによる時間のロスを防止することが不可能であり、電解液の欠点は先の例の全てにおいて記載されているように、処理すべき表面から電解液を除かなければならないという欠点が残っている。
【0007】
最後に、従来技術として濃縮されたゲル状をした酸洗い剤により金属表面を化学的にクリーニングする手動の方法がある。この方法では、オペレータによってクリーニング領域に金属表面を置き、作用が生じるまで、数分から数時間の間放置し、次に排出ポイントを通過させる洗浄により、すべての酸洗い剤がなくなるよう洗浄するが、作業場所に、外部環境の汚染を防止するために、排水処理システムを設けなければならない。
【0008】
金属表面をクリーニングする装置を、極めて効率的とし、従来の欠点を除くべく改善する余地は極めて広範に亘っている。
【0009】
上記説明は、酸洗い性能が高く、使用が容易であり、酸洗い剤の消費量が少なく、かつ作動電力が少なく、ユーザーが、任意に大小のサービスを受けることができ、作業場所および環境の汚染を効率的に防止しうる電解または超音波クリーニング装置における技術的課題を解決しなければならないことを示すものである。
【0010】
本発明は、処理すべき表面に、手動または機械式供給装置により塗布される酸洗い用酸、または酸洗い用酸効果を有する化学的素成分の組成物/混合物を含む、局部的クリーニングのための装置において、酸の腐食作用に耐える材料製のセルにより、前記酸が作業位置に限られた量だけ維持されており、このセルの容積が、例えばその容積を酸で完全に満たすことにより、またはその容積をセルの周辺内の酸の容積まで減少させることにより、使用される酸の容積に合わせられており、処理すべき表面に前記酸を投射し、酸の酸洗い作用を自ら活性化する装置により、この酸を活性化させることを特徴とする、局部的クリーニングのための装置を採用することによって、上記技術的課題を解決するものである。
【0011】
別の好ましい実施例では、処理すべき表面の近くの上記セルのエッジに、上記表面に対向するエッジの周辺シールが設けられている。
【0012】
別の実施例では、上記活性化装置は電流の発生器から成り、この発生器の一方の極は、処理すべき表面の材料に接続されており、他方の極は、セル内に位置する、電気を伝える材料製の電極に接続されているが、処理すべき表面には、直接接触せず、酸洗い用酸だけを介して接触するようになっており、この電流は、セル内において、上記表面と電極との間の電解作用を生じさせる。
【0013】
別の実施例では、上記活性化装置は、金属超音波極に対して適用される超音波発生器から成り、超音波極の一端は上記セル内に位置し、超音波の作用によって、酸の酸洗い作用が強力に活性化される。
【0014】
別の実施例では、前記電極は、超音波極としても作用するか、または超音波極は電極としても作用し、セル内の酸洗い用酸は、電解作用および超音波作用の双方を受ける。
【0015】
別の好ましい実施例では、電極または超音波極は、その容積をセルが含む酸の容積に合わせるよう、セルの内部で移動自在にされている。
【0016】
別の実施例では、上記電解セル内の対向する表面において、酸洗い用酸に接触する電極の表面を広くするために、突起を有する刻み目が電極に設けられている。
【0017】
別の実施例では、上記電解セル内の対向する表面において、酸洗い用酸との組み合わせにより導電度を改善する増設プレートが、電極に取り付けられている。
【0018】
別の実施例では、電解セル内の対向する表面において、酸洗い用酸に接触する電極の表面を広くするために、酸洗い用酸との組み合わせにより導電度を改善する増設プレートにて、突起を有する刻み目が電極に設けられている。
【0019】
別の実施例では、セルのエッジのまわりにおいて、リング状シート内に収容された円形横断面を有するリングから成る、処理すべき表面に接触するシールがセルのエッジに設けられている。
【0020】
別の実施例では、処理すべき表面に接触するセルのエッジに沿って設けられたシールは、セルのエッジのまわりにおいてリング状シート内に収容され、表面に対向する少なくとも1つのリップを備えるリングから成っている。
【0021】
別の実施例では、処理すべき表面に接触するセルのエッジ上のシールは、導管およびパイプにより、真空吸引システムに接続された処理すべき表面と対向するリング状吸引カップから成っている。
【0022】
別の実施例では、上記電極または超音波極内に、酸洗い中に発生するヒュームを解放させるための少なくとも1つのダイヤフラムバルブが設けられており、またセルにも、ヒュームを逃がすことができるようにする孔が設けられている。
【0023】
別の好ましい実施例では、セルの近くには、セルを離れるヒュームを吸引するための装置が設けられている。
【0024】
別の実施例では、汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームをスクラビングするためのシステムに接続された一連のベントが設けられている
【0025】
別の好ましい実施例では、汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームをスクラビングするためのシステムに、上記セルのエッジ近くに底部エッジを備えるフードが接続されている。
【0026】
別の実施例では、1対のリップを備えるリングシール、およびこれらリップの間のキャビティが汚染を生じさせるヒュームを吸引し、かつ吸引したヒュームをスクラビングするためのシステムに接続されている。
【0027】
別の好ましい実施例では、汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームをスクラビングするための上記システムと、酸洗い用酸との間にセパレータが設けられており、ヒュームをスクラビングする前に、上記セパレータにおいて吸引された液体またはゲルの場合のゲル状部分がヒュームから分離される。
【0028】
別の実施例では、処理すべきパイプ/丸棒の表面の内径/外径の近くにある外径/内径上のシールリングを備えるリング状セルが設けられており、電極に接続された電気ケーブルと共に、セルに供給するようになっている酸洗い用酸のための送りおよび戻りラインが設けられている。
【0029】
最後の実施例では、酸洗い用酸のための2つの連続するラジアル送りまたは戻り孔は、上記セルに設けられており、これら孔は、互いに軸方向または回転角方向に配置されている。
【0030】
本発明は、次のような利点を有する。すなわち、このクリーニング装置は、従来の装置よりもより効果的である。セル容積に対向する処理するべき表面の限られた領域をクリーニングしうる。
【0031】
酸洗い用酸を活性化するのに必要なエネルギーは、手動操作または浸漬タンク内で実行される電解クリーニングに必要なエネルギーよりも少なくてすむ。クリーニング装置の範囲は、バッファ交換または他の手動作業、例えば酸洗い用ゲルの分配および洗浄によって限定されることはない。電気導電体でない表面を清掃するのに、セル内の酸洗い用酸と共に超音波を使用することもできる。
【0032】
電解クリーニングパワーを、機械的超音波クリーニングパワーとを組み合わせて使用することにより、クリーニング容量を大幅に増すことができるので、クリーニングのコストを大幅に低減できる。
【0033】
添付図面は、本発明の説明上の単なる一実施例を示してある。
【0034】
図1には、耐熱性の強固な絶縁材料、好ましくは高耐熱性プラスチックで製造されたセル(隔室)1が示されている。このセル1内には、周辺シールリング3を備えた金属電極2が設けられている。
【0035】
4は、酸洗い用酸に耐え、電解質としても働く材料から製造された、電極内部に設けられたパイプである。被処理表面5に接触するセルの底部エッジには、構成すべきシールリング6が取り付けられており、このセルの空間7内でクリーニングが行われる。
【0036】
8は、より高い電気伝導度を有する金属製のプレートであり、電極および電解液に接触する表面積を増すよう、電解液の領域7内に突出する突起9が、このプレートに設けられている。
【0037】
図2における10は、超音波発生器11により振動されるようになっている中空の超音波極である。12は、酸洗い用酸に耐えることができ、パイプ13によって酸が供給される超音波極の内部を被覆する小さいパイプである。
【0038】
図3における15は、中空注ぎ口16内に形成されたベントである。これらベントは、セルのシール6から側方に逃れるヒューム(煙霧)を吸引するよう、上記電極2の頂部および近くに位置している。
【0039】
図4における18は、フード19が取り付けらた超音波極である。この超音波極の底部エッジ20は、被処理表面5の近くにある。シール6から逃れたヒュームおよび過剰な酸洗い用酸は、キャビティ21に吸引された空気によって排出される。この空気は、導管22によって廃棄システムに送られる。
【0040】
図5における25は、底部エッジにリング状の吸引カップ26が設けられたセルを示す。27は、図示されていない真空システムにより真空を発生させる、セル内に設けられた導管であり、この導管は、パイプ28によって真空システムに接続されている。
【0041】
29は、セル内に設けられた電極であり、この電極にはヒュームが通過でき、上記空間7内に酸洗い用酸を維持できるようにするダイヤフラムバルブ30が取り付けられている。31は、セル35の本体に設けられた通気孔を示す。
【0042】
図6は、電極としても機能する超音波極を示す。この超音波極には、表面5のクリーニング中に生じたヒュームを逃すことができるようにする上記ダイヤフラムバルブが、空間7の内側表面近くにて取り付けられている。
【0043】
図7は、リング状リップ38を通して、キャビティ37からヒュームおよび過剰な酸洗い用酸を吸引するための孔36を備えるセルを示し、リング状リップ38は、セルのエッジに取り付けられている。39は、上記孔36と中空注ぎ口16のベント15との間で吸引するための接続シースである。Mは、上記リップによって可能になるセルの移動運動を示している。
【0044】
図8における41は、電極として機能する超音波極を示し、この超音波極のセル1の空間7の内側表面近くには、高い電気導電度の金属製のプレート42が取り付けられている。43は、容積空間7の境界を形成するための、セル1をシールするためのリング状底部リップである。
【0045】
最後に、図9における49は、クリーニングを必要とする2つの壁46の間のコーナー溶接を示す。47は、電極−超音波極50の底部表面49と、電極−超音波極がシールされているセルの平らな境界壁51との間のセル48のクリーニング空間である。52は、電極と電解液との間の接触表面積を広くするために、空間47内の電解液内に進入する突起である。
【0046】
図10における54は、酸洗い用酸の供給パイプである。このパイプが存在している場所では、電極は電解液として働く。55は、酸洗い用酸ポンプである。56は、過剰な酸を吸引するためのシステムでこれまで見られたタイプのクリーニングセルである。Aは、セパレータ58に接続された導管57へ酸Gを送るための戻り空気ルートであり、セパレータ58には、スタガー状の孔60が設けられたダイヤフラム59が取り付けられている。Fは、ファン62によって分離され、別のスクラビングフィルタへ向けて押される空気およびヒュームである。
【0047】
図11における64は、パイプの外側表面であり、この外側表面に対して、リング状のセル65が同心状となっている。このセル65には、リング状リップ66および電気ケーブル68に電気接触するトロイダル電極67が取り付けられている。69は、2つのシリーズ状の電極の孔を示す。これらの各孔は、酸洗い用酸のリング状をした送りおよび戻りチャンバ70と接続されており、戻りチャンバ70は、電解液として働く。1対の導管71が、セパレータ58に酸を送ったり、これから戻すようになっている。Tは、リングセル65とパイプとの間のワークの動きを示す。
【0048】
図12における73は、クリーニングするべきパイプの内側表面であり、このパイプ内には、円周方向のセルが設けられている。74のIは、挿入中の移動運動であり、Lは、抽出ストロークであり、いずれかのまたは双方の運動はワークの運動となっている。75は、上記トロイダル電極67の一連の孔69に供給するためのセルの本体76に形成されたチャンバを示し、このチャンバは、プラグ77によって閉じられている。78は、セルを完成するリングであり、このリングは、本体に強固に取り付けられており、ボアの設けられたロッド79により、パイプの外側からセルをガイドするようになっている。
【0049】
局部的なクリーニング装置は、次のように働く。所定の態様で、酸洗い用酸によってセルが満たされる。この酸洗い用酸は、その電気化学的性質により優れた電解液となっており、酸がゲル状である場合、ブラシも使って、セルはクリーニングすべき表面5に接触され、クリーニングが開始される。図1に示すように、電極2が1つである場合、酸に直流または交流電流が流される。
【0050】
従来技術と同じように、正極(+)が表面5に接続され、負極(−)が電極に当接される場合、加えられる異なる電流によって高いレベルのエネルギーが発生し、この逆の場合、小さいエネルギーしか得られない。これによって、処理すべき表面5が研磨され、最終的に交流電流によって上記2つの間に効果が生じる。図2に示すように、1つの超音波極10しか設けられていない場合、超音波によって生じる撹拌によって、酸は機械的に撹拌され、この結果生じる酸洗いは、従来技術によって行われるゲルの単なる堆積よりも効果が著しい。所定のポイントをクリーニングした後に、オペレータはセルを移動させ、上記作業を繰り返す。
【0051】
上記単一セルは、液状の酸洗い用酸と共に使用することはできないので、必要とされる少量の酸が失われる可能性がある場合、セパレータ58または貯蔵タンクから、間欠的もしくは連続的に作動し得るポンプ55によって酸を供給しなければならない。更に、この供給を高レベルで維持し、リング状のリップ38を通るキャビティ37へ吸引するか、またはフード19により、表面をクリーニングすることによって生じたヒュームと共に、ゲル状の過剰な酸洗い用酸を収集することは極めて有効である。
【0052】
リング状セル65および円周方向セル74によって生じた酸洗い用酸を再循環させることは、同じ目的のために働く。すなわち、作動中に過熱状態となる酸を置換し、汚染を生じさせるヒュームを、表面から除かれた汚染物と共に除く。この酸が完全には再循環されない場合、またはそのようにできない場合、中空注ぎ口上に設けられたベントを通し、セルから脱出したヒュームを吸引することは、ダイヤフラムバルブを介しても効果的ではない。
【0053】
セル内での電解液クリーニングと超音波クリーニングとの同時作用は、クリーニングの有効性を大幅に高める。構造の形態を示す図の全てが示すように、パイプまたは丸棒の内径または外径を示すことを除けば、電解液クリーニングと超音波クリーニングの2つの効果を組み合わせできることを示している。その理由は、これらの効果は、電極と超音波極との二重機能による同じ構造体により、セルの空間7、47に含まれる酸洗い用酸に適用されるからである。
【0054】
酸の電解液処理と超音波処理との双方は、電極2、29または超音波極10、18、41を、被処理表面5に対してその本体に沿って走行させることにより、セル1、25または35の空間7を、極めて低いレベルまで小さくできるようにしたことによって高められている。
【0055】
この動きは、上記セルと電極との間にシールリング34を設けたことによって可能となっている。電解作用を高める別の方法としては、極めて高い伝導度、または分極される金属製のプレート8、42を、セルの容積7、47に向けるか、または酸洗い用酸と接触する表面積を広げる突起9、52を備えた電極の端部に向けるか、または別の取り付けを設けることが挙げられる。
【0056】
セルのエッジ上のリング状吸引カップ26は、被処理表面5上の安全な位置決めおよび安全シールを保証できる。従って、このセルには、リングシール6またはリップシール43の場合、ヒュームおよび過剰な酸洗い用酸が正常に逃れることができるようにし、しかもヒュームが逃れることができるようにするダイヤフラムバルブ30をセルに取り付けなければならない。
【0057】
最後に、リップ38または単一リップ43、66により、セルは、作動中でも移動できるようになっている。
【0058】
セルの本体は、耐熱性の強固な絶縁材料、好ましくは高耐熱性プラスチックで製造されており、一方、電極または超音波極の材料は金属であり、供給導管内の酸洗い用酸の作用に耐える層内の被覆でもよいし、またはセル容積1、25、35、65および74に向いた表面内の上記高導電性プレート8、42による被覆でもよい。
【0059】
実施例として、細部は図示したものと異なっていてもよいが、本発明の範囲内に入る技術的に均等なものでなければならない。
【0060】
従って、セルは、非絶縁性材料から製造できるが、絶縁被覆を有していなければならない。同じように、図9のセル内の電極48のエッジは、被処理表面と壁46との間の短絡が生じないよう、被処理表面の壁46の近くで、同じように保護できる。
【0061】
最後に、より経済的にするために、セル材料は、酸洗い用酸による腐食に耐えなくてもよい。この場合、セルの寿命は、酸の腐食に耐えられる材料から製造されたセルよりも寿命が短くなる。もしくは、非絶縁材料に関してこれまで説明したように、セルを酸による腐食に耐えられる材料製の層によって保護してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係わる電解クリーニングセルの断面図である。
【図2】 機械式超音波クリーニングセルの断面図である。
【図3】 発生したヒュームを吸引するためのベントを備えた、電解クリーニングセルの断面図である。
【図4】 ヒュームおよび過剰な酸洗い用酸を吸引するためのフードが取り付けられた機械式超音波クリーニングセルの断面図である。
【図5】 処理すべき表面に固定されたリング状吸引カップおよびヒュームを吸引するためのフードが取り付けられた電解クリーニングセルの断面図である。
【図6】 処理すべき表面に固定されたリング状をした吸引カップおよびヒュームを吸引するためのベントが取り付けられた電解兼超音波クリーニングセルの断面図である。
【図7】 二重リップの設けられたシールおよびこれら2つのリップの間のキャビティからヒュームおよび過剰な電解液を吸引するためのシステムが取り付けられた電解クリーニングセルの断面図である。
【図8】 単一リップシールおよびヒュームおよび顆状な電解液を吸引するためのフードが取り付けられた電解兼超音波クリーニングセルの断面図である。
【図9】 ヒュームを吸引するためのベントが取り付けられた、コーナーの溶接ビードをクリーニングするための電解兼超音波クリーニングセルの断面図である。
【図10】 クリーニングセルの吸引する下流部にある電解液からヒュームを分離するためのセパレータの図である。
【図11】 パイプまたは丸棒の外径と同じ径のリング状をした電解クリーニングセルの断面図である。
【図12】 パイプの内径部をクリーニングするための周辺電解クリーニングセルの断面図である。
【符号の説明】
2 電極
3、4 シールリング
5 処理すべき表面
6 シールリング
7 空間
8 金属プレート
9 突起
10 超音波極
11 超音波発生器
12 パイプ
15 ベント
16 注ぎ口
18 超音波極
19 フード
20 底部エッジ
21 キャビティ
22 導管
25 セル
26 吸引カップ
27 導管
28、29 パイプ
30 ダイヤフラムバルブ
31 ベント孔
33 超音波極
35 セル
36 孔
37 キャビティ
38 リップ
39 接続シース
41 超音波極
42 プレート
43 底部リップ
45 コーナー溶接
47 クリーニング容積
48 セル
49 底部表面
50 電極−超音波極
51 壁
52 突起
54 送りパイプ
55 ポンプ
56 クリーニングセル
57 導管
58 セパレータ
60 孔
62 ファン
64 外側表面
65 セル
66 リップ
67 電極
68 ケーブル
70 チャンバ
71 導管
73 内側表面
75 チャンバ
76 セル本体
77、78 プラグ
79 ロッド
Claims (15)
- 手動または機械的供給装置により、処理すべき表面(5)(46)(64)(73)に塗布される酸洗い用酸、または酸洗い用の化学要素の組成物または混合物を使って局部的クリーニングをするための装置であって、前記酸が、この酸の腐食作用に耐える材料製のセル(1)(25)(35)(48)(65)(74)によって作業位置に限定された量だけ維持され、このセルの容積(7)(47)が、セルを酸により完全に満たすことにより、使用される酸の容積に一致されており、前記酸が処理すべき表面に放出され、前記セルが上記表面に対するエッジの周辺シール(6)(26)(38)(43)(66)を有する、局部的クリーニングを行うための装置において、
セルを離間する汚染を生じさせるヒューム、およびセルから横方向に逃れる過剰な酸洗い用酸を吸引し、吸引したヒュームおよび酸を、少なくともセパレータ(58)で分離するためのシステムがセルの近くに設けられており、このセルが、セルのエッジの近くに底部エッジを有する、ヒュームを吸引するためのフード(19)または装置(15)(16)(36)(39)(62)に接続されており、酸洗い用酸が、少なくとも電解セル(1)として酸の酸洗い作用を活性化する活性化装置(2)(29)(33)(41)(50)(67)によって酸洗い用酸が活性化されるようになっていることを特徴とする、局部的クリーニングをするための装置。 - 上記電解セル(48)内の対向する表面(49)において、酸洗い用酸に接触する活性化装置の表面を広くするために、突起(52)を有する刻み目が、電極(50)に設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の局部的クリーニングのための装置。
- 電解セル(1)としての上記電解セル内の対向する表面において、酸洗い用酸との組み合わせにより、導電度を改善する増設プレート(42)が電極状をした活性化装置(41)に取り付けられていることを特徴とする、請求項1または2に記載の局部的クリーニングのための装置。
- 電解セル(1)内の対向する表面において、酸洗い用酸に接触する電極の表面を広くするために、酸洗い用酸との組み合わせにより導電度を改善する増設プレート(8)にて、突起(9)を有する刻み目が、電極(2)に設けられていることを特徴とする、請求項3に記載の局部的クリーニングのための装置。
- セルの周辺の酸の容積まで容積を低減することにより、セルの完全な充填に合わせられていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 上記活性化装置(29)(33)(50)内に、酸洗い中に発生するヒュームを解放させるための少なくとも1つのダイヤフラムバルブ(30)が設けられており、かつセル(25)(48)も、ヒュームを逃がすことができるようにする孔を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 上記活性化装置が電流の発生器から成り、この発生器の一方の極が、処理すべき表面の材料に接続されており、他方の極(68)が、セル内に位置する、電気を伝える材料製の電極(2)(29)(41)(50)(67)に接続されているが、処理すべき表面には直接接触せず、酸洗い用酸だけを介して接触するようになっており、この電流が、セル内において上記表面と電極との間の電解作用を生じさせるようになっている、請求項1〜6のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- セルが、1対のリップ(38)を備えたリングシールを有し、これらリップの間のキャビティ(37)が汚染を生じさせるヒュームおよび過剰な酸洗い用酸を吸引し、かつ吸引したヒュームおよび酸を分離するためのシステムに接続されていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- ヒュームおよび過剰な酸洗い用酸を吸引するためのフード(19)の外側エッジにリングシールが設けられており、汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームを分離するためのシステムに、セルのエッジとフードの外側エッジとの間のキャビティ(37)が接続されている(36)(39)(15)(16)ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 上記活性化装置が、電解セルと組み合わされた、金属超音波極(10)(18)(33)(41)(50)に対して適用される超音波発生器から成り、超音波極の一端が、上記セル内に位置し、超音波の作用によって酸の酸洗い作用が強力に活性化されるようになっていることを特徴とする、請求項1または2に記載の局部的クリーニングのための装置。
- セルのエッジのまわりにおいて、リング状シート内に収容された円形横断面を有するリング(6)から成る、処理すべき表面(5)(46)に接触するシールが、セルのエッジに設けられていることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームを分離するためのシステムに接続された一連のベント(15)(16)が設けられていることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 汚染を生じさせるヒュームを吸引し、吸引したヒュームを分離するための上記システム(62)と酸洗い用酸との間にセパレータ(58)(60)(61)が設けられており、ヒュームを分離する前に、上記セパレータにおいて吸引された液体またはゲルの場合のゲル状部分が、ヒュームから分離されるようになっていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれかに記載の局部的クリーニングのための装置。
- 処理すべき表面に酸洗い用酸を供給する機械式供給装置を備えたセル(65)(74)を備え、前記セルが、酸の腐食作用に耐える材料から構成されており、このセルの容積が、セルを酸で完全に満たすことにより、使用される酸の容積に合わせられており、前記酸が処理される表面に投射され、前記セルが上記表面に対するエッジの周辺シール(66)を有し、活性化装置が電流の発生器から成り、この発生器の一方の極が、処理すべき表面の材料に接続されており、他方の極(68)が、セルの内部に位置する電気を伝える材料性の電極(67)に接続されており、更に、処理される表面に直接には接触せず、酸洗い用酸のみを介して接触しており、この電流が、セル内において上記表面と電極との間の電解作用を発生させるようになっている、局部的クリーニングをするための装置において、処理すべきパイプ又は丸棒の表面(64)(73)の内径/外径の近くにある外径/内径上のシールリング(66)を有するリング状セル(65)(74)が設けられており、電極(67)に接続された電気ケーブル(68)と共にセルに供給されるようになっている酸洗い用酸のための送りラインおよび戻りライン(70)(71)(75)が設けられていることを特徴とする局部的クリーニングのための装置。
- 酸洗い用酸のための2つの連続するラジアル送りまたは戻り孔(69)が、上記セル(65)(74)に設けられており、これら孔は、互いに軸方向または回転角方向にシフトされていることを特徴とする、請求項14記載の局部的クリーニングのための装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT99A000244 | 1999-11-04 | ||
IT1999MO000244A IT1311147B1 (it) | 1999-11-04 | 1999-11-04 | Macchina per pulizia localizzata con cella, elettrolitica e/o adultrasuoni, di decapaggio e/o lucidatura |
PCT/IB2000/001583 WO2001032960A2 (en) | 1999-11-04 | 2000-11-02 | Machine for localised cleaning with electrolytic and/or ultrasound cell, for pickling and/or polishing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003514118A JP2003514118A (ja) | 2003-04-15 |
JP4623905B2 true JP4623905B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=11387112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001535637A Expired - Fee Related JP4623905B2 (ja) | 1999-11-04 | 2000-11-02 | 酸洗いまたは研磨のための、電解セルまたは超音波セルによる局部的クリーニングのための装置 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7803258B2 (ja) |
EP (1) | EP1230431B1 (ja) |
JP (1) | JP4623905B2 (ja) |
KR (1) | KR100729466B1 (ja) |
CN (1) | CN1217032C (ja) |
AT (1) | ATE360106T1 (ja) |
AU (1) | AU1046101A (ja) |
CA (1) | CA2389659C (ja) |
DE (2) | DE60034477T2 (ja) |
ES (1) | ES2284536T3 (ja) |
IT (1) | IT1311147B1 (ja) |
WO (1) | WO2001032960A2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT411693B (de) * | 2002-07-01 | 2004-04-26 | Fronius Int Gmbh | Elektrochemisches verfahren zum reinigen von oberflächen metallischer werkstücke |
US5867146A (en) * | 1996-01-17 | 1999-02-02 | Lg Electronics Inc. | Three dimensional wireless pointing device |
TW592859B (en) * | 2001-09-11 | 2004-06-21 | Ebara Corp | Electrolytic processing apparatus and method |
DE102008031287B4 (de) * | 2008-07-02 | 2016-07-28 | Schaeffler Technologies AG & Co. KG | Dichtvorrichtung für ein Maschinenelement, insbesondere für ein Wälz- oder Gleitlager |
US9372280B2 (en) | 2012-01-25 | 2016-06-21 | Pgs Geophysical As | System and method for in-sea electrode conditioning |
KR101285847B1 (ko) | 2013-04-09 | 2013-07-12 | 한국메티슨특수가스(주) | 특수가스 설비용 밸브의 이물질 제거 장치 |
CN104625261B (zh) * | 2013-11-11 | 2017-04-05 | 富泰华精密电子(郑州)有限公司 | 电解加工装置及其加工方法 |
US10175277B2 (en) | 2015-08-31 | 2019-01-08 | Pgs Geophysical As | Identification of degrading electrodes in a marine electromagnetic survey system |
CN106119876B (zh) * | 2016-06-24 | 2019-01-11 | 上海展谐清洗设备有限公司 | 一种血管内植支架全自动超声波酸洗抛光装置 |
DE102018203988B4 (de) * | 2018-03-15 | 2024-03-21 | Airbus Defence and Space GmbH | Werkzeugkopf zur lokalen nasschemischen Oberflächenbehandlung und Vorrichtung zur lokalen nasschemischen Behandlung, insbesondere Anodisierung |
CN108723368B (zh) * | 2018-06-20 | 2020-07-31 | 中北大学 | 一种slm成形316l构件消除支撑结构的方法 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2568803A (en) * | 1949-06-09 | 1951-09-25 | Guenst William | Etching machine |
US3421997A (en) * | 1958-11-10 | 1969-01-14 | Anocut Eng Co | Electrode for electrolytic shaping |
US3241997A (en) | 1961-12-23 | 1966-03-22 | Schutzner Walter | Heat-sensitive copying material |
US3223610A (en) * | 1962-09-21 | 1965-12-14 | Inoue Kiyoshi | Apparatus for machining horizontal work surfaces |
US3294664A (en) * | 1963-09-03 | 1966-12-27 | Hoover Co | Electrolytic appliance for treating surfaces |
US3345672A (en) * | 1965-02-15 | 1967-10-10 | California Car Wash Systems In | Window cleaning device |
US3443991A (en) * | 1965-12-06 | 1969-05-13 | Georges F Kremm | Process for pickling metal |
US3546088A (en) * | 1967-03-14 | 1970-12-08 | Reynolds Metals Co | Anodizing apparatus |
US3792571A (en) * | 1971-04-02 | 1974-02-19 | Showa Denko Kk | Method and apparatus for purifying waste gas |
US3779887A (en) * | 1972-03-14 | 1973-12-18 | Sifco Ind Inc | Vibratory applicator for electroplating solutions |
DE2239425C3 (de) * | 1972-08-10 | 1978-04-20 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur elektrolytischen Behandlung von Nioboberflächen für Wechselstromanwendungen |
US3860509A (en) * | 1973-02-20 | 1975-01-14 | Envirotech Corp | Continuous electrowinning cell |
DE2503176C2 (de) * | 1975-01-27 | 1983-11-10 | Fresenius AG, 6380 Bad Homburg | Ionenselektive Elektrode |
DE2516962A1 (de) * | 1975-04-17 | 1976-10-28 | Decker Geb | Vorrichtung zur absorption von gasen aus angesaugten, stroemenden gas-luft-gemischen |
AU512846B2 (en) * | 1976-07-02 | 1980-10-30 | Toledo Pickling and Steel Service, Inc | System for the regeneration of waste hydrochloric acid pickle liquor |
US4282626A (en) * | 1977-10-17 | 1981-08-11 | California Institute Of Technology | Cleaning devices |
DE3305967A1 (de) * | 1983-02-21 | 1984-08-30 | Carl Kurt Walther Gmbh & Co Kg, 5600 Wuppertal | Vorrichtung zum elektropolieren |
US4627893A (en) * | 1984-03-28 | 1986-12-09 | Amdev, Inc. | Means and methods for quantitative determination of analyte in liquids |
JPS61143600A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-07-01 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 超音波電解複合研磨方法およびその装置 |
US4620918A (en) * | 1985-05-03 | 1986-11-04 | Bukamier Gary L | Selective sensor construction |
FR2592895B1 (fr) * | 1986-01-16 | 1990-11-16 | Selectrons France | Installation pour la realisation de traitements electrolytiques localises de surfaces. |
JPS62188322A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-17 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 洗浄装置 |
ATE54681T1 (de) * | 1986-05-20 | 1990-08-15 | Poligrat Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum elektrochemischen polieren der innenflaechen von rohren. |
GB8708945D0 (en) * | 1987-04-14 | 1987-05-20 | Atomic Energy Authority Uk | Electrolytic polishing device |
JPH01305523A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Nec Yamagata Ltd | リアクティブ・イオン・エッチング装置 |
GB2221630B (en) * | 1988-08-11 | 1992-02-12 | Paul Hammelmann | Nozzle head |
US5135632A (en) * | 1988-10-10 | 1992-08-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Apparatus for electropolishing surfaces |
WO1990004053A1 (de) * | 1988-10-10 | 1990-04-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum elektropolieren von oberflächen |
FR2641003B1 (ja) * | 1988-12-23 | 1991-04-05 | Tech Milieu Ionisant | |
US5160590A (en) * | 1989-09-06 | 1992-11-03 | Kawasaki Steel Corp. | Electrolytic processing method for electrolytically processing metal surface |
JPH04206521A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
SE500772C2 (sv) * | 1992-11-25 | 1994-08-29 | Staffan Sjoeberg | Anordning för rengöring av föremål i rörelse |
US5378331A (en) * | 1993-05-04 | 1995-01-03 | Kemp Development Corporation | Apparatus and method for electropolishing metal workpieces |
FR2714080B1 (fr) * | 1993-12-16 | 1996-03-01 | Dalic | Dispositif pour le traitement électrochimique, notamment localisé, d'un substrat conducteur. |
IT1279857B1 (it) * | 1995-09-27 | 1997-12-18 | Nitty Gritty S R L | Dispositivo e procedimento di pulitura di metalli successivo a lavorazioni ad alta temperatura |
US5814127A (en) * | 1996-12-23 | 1998-09-29 | American Air Liquide Inc. | Process for recovering CF4 and C2 F6 from a gas |
EP0978577B1 (de) | 1998-08-07 | 2003-12-17 | Fritz-Herbert Frembgen | Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Bearbeiten von Werkstücken |
JP2003283103A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Seiko Epson Corp | パターン形成方法および装置並びにデバイスの製造方法およびデバイス |
US7396430B2 (en) * | 2006-03-31 | 2008-07-08 | Lam Research Corporation | Apparatus and method for confined area planarization |
-
1999
- 1999-11-04 IT IT1999MO000244A patent/IT1311147B1/it active
-
2000
- 2000-11-02 CN CN008169640A patent/CN1217032C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-02 WO PCT/IB2000/001583 patent/WO2001032960A2/en active IP Right Grant
- 2000-11-02 ES ES00971632T patent/ES2284536T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-02 JP JP2001535637A patent/JP4623905B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-02 KR KR1020027005823A patent/KR100729466B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-11-02 CA CA002389659A patent/CA2389659C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-02 EP EP00971632A patent/EP1230431B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-02 AT AT00971632T patent/ATE360106T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-11-02 DE DE60034477T patent/DE60034477T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-02 AU AU10461/01A patent/AU1046101A/en not_active Abandoned
- 2000-11-03 DE DE20019118U patent/DE20019118U1/de not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-06-16 US US11/454,112 patent/US7803258B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001032960A2 (en) | 2001-05-10 |
IT1311147B1 (it) | 2002-03-04 |
KR100729466B1 (ko) | 2007-06-15 |
JP2003514118A (ja) | 2003-04-15 |
CA2389659C (en) | 2009-06-30 |
CN1217032C (zh) | 2005-08-31 |
ITMO990244A0 (it) | 1999-11-04 |
DE60034477T2 (de) | 2007-12-27 |
EP1230431A2 (en) | 2002-08-14 |
CA2389659A1 (en) | 2001-05-10 |
CN1409776A (zh) | 2003-04-09 |
AU1046101A (en) | 2001-05-14 |
US20070062030A1 (en) | 2007-03-22 |
ATE360106T1 (de) | 2007-05-15 |
WO2001032960A3 (en) | 2001-10-18 |
EP1230431B1 (en) | 2007-04-18 |
US7803258B2 (en) | 2010-09-28 |
ES2284536T3 (es) | 2007-11-16 |
DE60034477D1 (de) | 2007-05-31 |
ITMO990244A1 (it) | 2001-05-04 |
KR20020070977A (ko) | 2002-09-11 |
DE20019118U1 (de) | 2001-01-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070920 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100309 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
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