JP4615027B2 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
軟質ポリシャの研磨パッドを貼りつけた上下定盤の間に情報記録媒体用ガラス基板をセットして両主表面を研磨する研磨工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程後の情報記録媒体用ガラス基板主表面の微小うねりの値が、前記研磨工程で用いる研磨パッド表面の表面粗さの値に依存するという現象を利用し、
前記研磨工程で用いる研磨パッド表面の表面粗さを選定することによって、前記研磨工程後の情報記録媒体用ガラス基板主表面の微小うねりが所定の値になるようにしたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
但し、前記微小うねりの値Ra’は、微小うねりの周期が2μm〜4mmのものであって、以下の数式によって表されるものである。
前記研磨パッド表面の表面粗さRzが20μm以下であることを特徴とする第1の手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
但し、Rzは、十点平均粗さとする。
第3の手段は、
前記研磨パッドは、定盤側から基材とナップ層とを有し、前記ナップ層の厚さを、所定の範囲にすることを特徴とする第1〜第2のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
第4の手段は、
前記ナップ層の厚さは、430〜620μmであることを特徴とする第3の手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
第5の手段は、
ダイヤモンド砥粒のパッドドレッサーによって前記ナップ層表面を修正することを特徴とする第1〜第4のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
第6の手段は、
情報記録媒体用ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする第1〜第5のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
第7の手段は、
第1〜第6のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の主表面上に少なくとも記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製造方法である。
第8の手段は、
前記記録層は磁性層であることを特徴とする第7の手段にかかる情報記録媒体の製造方法である。
図、図3は研磨パッドの部分断面図、図4は情報記録媒体用ガラス基板の主表面の微小うねりと研磨パッドの表面粗さとの関係を示すグラフである。以下、これらの図面を参照にしながら、本発明の実施の形態にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体を説明する。
しない範囲で測定に使用する光を変えることもできる。
。連続発泡系は、独立発泡系と異なり、研磨布内部へのスラリーの浸透は起こる。独立発泡系としては、スウェードタイプ、不織布を基材とした研磨布(凝固ポリマータイプ、凝固・硬化タイプ)がある。
どがある。その中でも、定盤との密着性が尤も良いという理由により、ダイヤモンドと粒のパッドドレッサーにより、ナップ層表面を修正することが好ましい。修正する回数、時間等については特に限定されない。
また、必要に応じ、ガラス基板と磁性層との間に、シード層や下地層を、磁性層上に保護層や潤滑層を設けても良い。
実施例1
この実施例は、(1)粗ラッピング工程、(2)形状加工程、(3)端面研磨工程、(4)精ラッピング工程、(5)第一ポリッシング工程、(6)第二ポリッシング工程、(7)洗浄工程、(8)化学強化工程、(9)洗浄工程、(10)磁気ディスクの製造工程、の各工程を有する。以下、各工程を詳細に説明する。
まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスして、直径66mmφ、厚さ1.2mmの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得た。この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得ても良い。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、Li2O:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
次に,円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を開けると共に、外周端面も研削して直径65mmφとした後、外周端面及び内周面に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板端面(内周、外周)の表面粗さは、Rmaxで4μm程度であった。
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面(内周、外周)の表面粗さをRmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。上記端面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
次に、砥粒の粒度を#1000に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、平坦度3μm、表面粗さRmaxが2μm程度、Raが0.2μm程度とした。尚、Rmax、Raは原子間力顕微鏡(AFM)で測定、平坦度は、平坦度測定装置で測定したもので、基板表面の最も高い部位と、もっとも低い部位との上下方向(表面に垂直な方向)の距離(高低差)である。上記精ラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
次に、ポリッシング工程を施した。このポリッシング工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、両面研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリシャとして硬質ポリシャを用い、以下の研磨条件で実施した。
研磨液:酸化セリウム(平均粒径1.3μm)+水
荷重:80〜100g/cm2
研磨時間:30〜50分
除去量:35〜45μm
次に、第一ポリッシング工程で使用した両面研磨装置を用い、ポリシャとして硬質ポリシャから軟質ポリシャに変えて第二ポリッシング工程を実施した。使用した軟質ポリシャの表面粗さRzを、触針式の表面粗さ計である小型表面粗さ測定機(サーフテストSJ−401:ミツトヨ社製)で測定したところ、12.2μmであった。また、ナップ層は、480μmのものを使用した。研磨条件は、
研磨液:酸化セリウム(平均粒径0.8μm)+水
荷重:80〜100g/cm2
研磨時間:10〜15分
除去量:3〜5μm
とした。
上記第二ポリッシング工程を終えたガラス基板を、濃度50wt%の硫酸(温度:70℃×3分)に浸漬したのち、ケイフッ酸(濃度:6.5mS(wt%)、温度:38℃×100秒)に浸漬して、洗浄を行った。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。さらに、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
次に、上記ラッピング、ポリッシング、洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化には、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化塩を用意し、この化学強化塩を375℃に加熱し、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化するように、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
上記急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波をかけながら洗浄を行った。このようにして得られたガラス基板表面の表面粗さをAFMで測定したところ、Rmax=6.12nm、Ra=0.56nmであり、微小うねりの平均粗さRa’は、0.58nm、95%PV値は、2.79nmで良好な結果が得られた。
上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板に対し、インライン型スパッタリング装置にて、NiAlシード層、CrV下地層、CoPtCrB磁性層、水素化カーボン保護層を成膜し、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を形成して磁気ディスクを作製した。
次に、上述の実施例1において、第二ポリッシング工程で使用した軟質パッドとして、パッドの表面粗さがRzで22μm(実施例2)、16.5μm(実施例3)、9.8μm(実施例4)のものを使用した(バフィング処理の条件を適宜調整)以外は、実施例1と同様にして磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクを作製した。
上記実施例1に記載された磁気ディスク用ガラス基板の製造工程を終えた後、第二ポリッシング工程で使用した研磨パッドの修正を行った。研磨パッドの修正は、まず、ガラス基板をセットするキャリアから、パッドドレッサー用のキャリアに替え、このキャリアの保持孔にステンレス製の円板状の基板表面に数十μmのダイヤモンド砥粒が固定されたパッドドレッサーをセットする。
れる。
次に、上述の実施例1におけるアルミノシリケートガラスから、結晶化ガラス(実施例6)に変えたこと以外は、実施例1と同様にして磁気ディスク用ガラス基板、および磁気ディスクを作製した。その結果、得られる基板の表面粗さは実施例1と同等であったが、微小うねりの95%PV値は、2.23nm(実施例6)となり、化学強化ガラス基板の場合と比較して良くなった。
〈1〉 ナップ層の表面に近い場所を通るように直線を引く。
〈2〉 任意の10点を決める。
〈3〉〈1〉の直線とナップ層の表面の距離を計る。
〈4〉〈3〉の平均値を求める。
Claims (7)
- 最終研磨工程として、軟質ポリシャの研磨パッドを貼りつけた上下定盤の間に情報記録媒体用ガラス基板をセットして両主表面を研磨する研磨工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨パッドは、スウェードタイプであり、且つ、定盤側から基材とナップ層を有し、前記ナップ層の厚さが430〜620μmであり、
前記研磨パッドの表面粗さがRzで9.8μm〜22μmの範囲において、前記パッド表面の表面粗さRzと、前記研磨によって得られるガラス基板表面の微小うねりの最大高さ95%PV値とが相関関係を有することを利用し、
前記相関関係において前記Rzに対応する前記微小うねりの最大高さ95%PV値の中から、前記研磨によって達成したい微小うねりの最大高さ95%PV値を選定し、
前記研磨パッドの表面粗さRzを、前記選定した微小うねりの最大高さ95%PV値に対応するRzにして研磨することにより、
研磨後のガラス基板表面の微小うねりの最大高さ95%PV値が正確に達成したい値となるようにしたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
但し、前記表面粗さRzは、触針式の表面粗さ計を用いた十点平均粗さであり、また、前記微小うねりの最大高さ95%PV値とは、前記研磨工程後の情報記録媒体用ガラス基板主表面の記録再生領域における、ヘッドスライダー面の面積より小さい領域であって、約500μm×約600μmの矩形領域でうねりの周期が2μm〜4mmの微小うねりの値を測定し、全部の測定点について、測定値を横軸に、その測定値が得られた測定個数を縦軸に表したヒストグラムをとったときに、その分布曲線において、測定値を最小値から次第に大きくしていきながら各測定値に対応する測定の個数を累積していったとき、その累積個数が全個数の95%になったときの測定値である。 - 前記情報記録媒体用ガラス基板がロードアンロードタイプの磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする請求項1記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程後の情報記録媒体用ガラス基板主表面の表面粗さRmaxが8nm以下であり、Raが0.8nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- ダイヤモンド砥粒のパッドドレッサーによって前記ナップ層表面を修正することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 情報記録媒体用ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1〜5の情報記録媒体用ガラス基板の主表面上に少なくとも記録層を形成することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
- 前記記録層は磁性層であることを特徴とする請求項6記載の情報記録媒体の製造方法。
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