JP2013012297A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
【選択図】 なし
Description
(1) 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法(以下、製造方法1と称することがある。)、
(2) 中心部に円孔を有するドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
任意に選択した500〜1000枚の前記ガラス基板の円孔直径を測定した場合、各ガラス基板の円孔直径が、当該ガラス基板の平均円孔直径Aに対して、±5×10−4×Aの範囲内にあり、かつ各ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように制御することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法(以下、製造方法2と称することがある。)、
(3) 磁気ディスク用ガラス基板が、2.5インチ基板であって、各ガラス基板の円孔直径が、A±10μm以内である上記(2)項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(4) 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量を、円孔直径の0.05%以内とするべく、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように、当該ディスク状ガラス基板のガラス材料と、前記化学強化処理の処理条件とを選択して、化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法(以下、製造方法3と称することがある。)、
(5) 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の化学強化処理による変形量を、各ガラスについて予め把握しておき、変形量が円孔直径の0.05%以内になり、かつ化学強化処理による当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるようにガラス材料を選択し、この選択されたガラス材料をディスク状に加工すると共に、中心部に円孔を形成し、化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法(以下、製造方法4と称することがある。)、
(6) 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を構成する化学強化用ガラスが、質量%表示で、SiO2が57〜75%であり、Al2O3が5〜20%であり(ただし、SiO2とAl2O3の合計量が74%以上)、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2が合計で0%を超え、6%以下であり、Li2Oが1%を超え、9%以下であり、Na2Oが5〜18%であり(ただし、質量比Li2O/Na2Oが0.5以下)、K2Oが0〜6%であり、MgOが0〜4%であり、CaOが0%を超え、5%以下であり(ただし、MgOとCaOの合計量は5%以下であり、かつCaOの含有量はMgOの含有量よりも多い)、SrO+BaOが0〜3%である上記(1)、(4)または(5)項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(7) 化学強化処理を、60〜80質量%のKNO3、および、40〜20質量%のNaNO3(ただし、合計100質量%)の組成を有する化学強化処理液を用い、350〜420℃の温度にて行う上記(1)、(4)〜(6)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(8) 化学強化処理後のディスク状ガラス基板における圧縮応力層の厚さが10〜150μmである上記(1)、(4)〜(7)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(9) 記録される情報のトラック密度が、少なくとも100ギガビットTPIである磁気ディスクに対応する、上記(1)〜(8)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(10) 垂直磁気記録方式に対応する、上記(1)〜(9)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および
(11) 上記(1)〜(10)項のいずれか1項に記載の製造方法で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁気記録層を有することを特徴とする磁気ディスク、
を提供するものである。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、以下に示す製造方法1、製造方法2、製造方法3および製造方法4の4つの態様がある。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法1は、中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理することを特徴とする。
なお、前記抗折強度の測定方法は、後で説明する。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法2は、中心部に円孔を有するドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
任意に選択した500〜1000枚の前記ガラス基板の円孔直径を測定した場合、各ガラス基板の円孔直径が、当該ガラス基板の平均円孔直径Aに対して、±5×10−4×Aの範囲内にあり、かつ各ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように制御することを特徴とする。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法3は、中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量を、円孔直径の0.05%以内とするべく、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように、当該ディスク状ガラス基板のガラス材料と、前記化学強化処理の処理条件とを選択して、化学強化処理することを特徴とする。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法4は、中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の化学強化処理による変形量を、各ガラスについて予め把握しておき、変形量が円孔直径の0.05%以内になり、かつ化学強化処理による当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるようにガラス材料を選択し、この選択されたガラス材料をディスク状に加工すると共に、中心部に円孔を形成し、化学強化処理することを特徴とする。
前述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法1、3および4において、中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を構成する化学強化用ガラスとしては、質量%表示で、SiO2が57〜75%であり、Al2O3が5〜20%であり(ただし、SiO2とAl2O3の合計量が74%以上)、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2が合計で0%を超え、6%以下であり、Li2Oが1%を超え、9%以下であり、Na2Oが5〜18%であり(ただし、質量比Li2O/Na2Oが0.5以下)、K2Oが0〜6%であり、MgOが0〜4%であり、CaOが0%を超え、5%以下であり(ただし、MgOとCaOの合計量は5%以下であり、かつCaOの含有量はMgOの含有量よりも多い)、SrO+BaOが0〜3%であるものを好ましく用いることができる。
ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2のうち、TiO2を含むガラスは水に浸漬したときにガラス表面にガラスと水の反応生成物が付着することがあり、耐水性に関しては他の成分のほうが有利である。したがって、耐水性を維持する上からTiO2の含有量を0〜1%とすることが好ましく、0〜0.5%とすることがより好ましく、導入しないことが更に好ましい。
B2O3は熔融性を向上させる働きをするが、揮発性があり、ガラス熔融時に耐火物を侵蝕することがあるので、その含有量は、例えば2%未満、好ましくは0〜1.5%、より好ましくは0〜1%、更に好ましくは0〜0.4%とし、導入しないことがより好ましい。
本発明においては、中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理を行い、磁気ディスク用ガラス基板を製造する。
[磁気ディスク]
本発明の磁気ディスクは、前述した本発明の製造方法1〜4で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、少なくとも磁気記録層を有することを特徴とする。
<化学強化用ガラス>
(1)ガラス転移温度(Tg)および屈伏点(Ts)
熱機械分析装置を用い、4℃/分の昇温速度で測定した。
(2)平均線熱膨張係数α
100〜300℃における平均線熱膨張係数αを、ガラス転移温度の測定時に一緒に測定した。
(3)比重
40×20×15mmの試料について、アルキメデス法により測定した。
(4)屈折率[nd]およびアッベ数[νd]
1時間当たり、30℃の降温速度で冷却したガラスについて測定した。
(5)λ80およびλ5
10mm厚の研磨サンプルについて、分光透過率を測定した際の透過率が80%の波長(nm)をλ80とし、透過率が5%の波長(nm)をλ5として求めた。
<磁気ディスク用ガラス基板>
(6)ガラス基板の円孔直径
磁気ディスク用ガラス基板を500枚任意に選択し、各ガラス基板の円孔直径を、以下の方法により求め、その平均円孔直径Aを算出した。
(7)ガラス基板の抗折強度
ガラス基板の抗折強度は、図2に示す抗折強度 試験機(島津オートグラフDDS−2000)を用い、抗折強度 を測定した。具体的には、ガラス基板 上に荷重を加えていったとき、ガラス基板 が破壊したときの荷重を抗折強度 として求めた。
(8)圧縮応力層の厚さ
磁気ディスク用ガラス基板の断面を研磨し、偏光顕微鏡にて圧縮応力層の厚さを測定した。
表1に示す酸化物組成になるように、ケイ石粉、水酸化アルミニウム、アルミナ、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄などを用いて、約2kgの混合物を調製したのち、白金ルツボ中にて1450〜1550℃で熔解・清澄後、鉄製型にキャストしてアニールすることにより、化学強化用ガラスを作製した。その物性を表1に示す。
(1)形状加工工程
実施例1〜6に記載の組成のガラスをダイレクトプレス法で成形し、アモルファス状態のディスク状ガラス基板とした。そして、砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔をあけ、中心部に円孔を有するディスク状のガラス基板とした。さらに、外周端面および内周端面に面取加工を施した。
(2)端面研磨工程
続いて、ガラス基板を回転させながら、ブラシ研磨によりガラス基板の端面(内周、外周)の表面粗さを、最大高さ(Rmax)で1.0μm程度、算術平均粗さ(Ra)で0.3μm程度になるように研磨した。
(3)研削工程
続いて、#1000の粒度の砥粒を用いて、主表面の平坦度が3μm、Rmaxが2μm程度、Raが0.2μm程度となるようにガラス基板表面を研削した。ここで平坦度とは、基板表面の最も高い部分と、最も低い部分との上下方向(表面に垂直な方向)の距離(高低差)であり、平坦度測定装置で測定した。また、Rmax、及びRaは、原子間力顕微鏡(AFM)(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)にて5μm×5μmの矩形領域を測定した。
(4)予備研磨工程
続いて、一度に100枚〜200枚のガラス基板の両主表面を研磨できる研磨装置を用いて予備研磨工程を実施した。研磨パッドには、硬質ポリッシャを用いた。研磨パッドには、予め酸化ジルコニウムと酸化セリウムとを含ませてあるものを使用した。
(5)鏡面研磨工程
続いて、一度に100枚〜200枚のガラス基板の両主表面を研磨できる遊星歯車方式の研磨装置を用いて、鏡面研磨工程を実施した。研磨パッドには、軟質ポリシャを用いた。
(6)鏡面研磨処理後の洗浄工程
続いて、ガラス基板を、濃度3〜5質量%のNaOH水溶液に浸漬してアルカリ洗浄を行った。なお、洗浄は超音波を印加して行った。さらに、中性洗剤、純水、純水、イソプロピルアルコール、イソプロピルアルコール(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。洗浄後のガラス基板の表面をAFM(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)(5μm×5μmの矩形領域を測定)により観察したところ、コロイダルシリカ研磨砥粒の付着は確認されなかった。また、ステンレスや鉄などの異物も発見されなかった。また、洗浄前後における基板表面の粗さの増大は見られなかった。
(7)化学強化処理工程
続いて、硝酸カリウム(60質量%)と硝酸ナトリウム(40質量%)とを混合して375℃に加熱した化学強化塩の中に、300℃に予熱した洗浄済みガラス基板を約4時間浸漬することにより化学強化処理を行った。この処理により、ガラス基板の表面のリチウムイオン、ナトリウムイオンは、化学強化塩中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板は化学的に強化される。なお、ガラス基板の表面に形成された圧縮応力層の厚さは、約100〜150μmであった。化学強化の実施後は、ガラス基板を20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分維持した。
(8)化学強化後の洗浄工程
続いて、上記急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波を掛けながら洗浄した。その後、0.5%(Vol%)野ケイフッ酸(H2SiF)水溶液を用いてガラス基板を洗浄した後、1質量%の水酸化カリウム水溶液を用いてガラス基板の洗浄を行った。そして、磁気ディスク用ガラス基板の製造を完了した。
(9)磁気ディスク用ガラス基板の検査工程
続いて、磁気ディスク用ガラス基板について検査を行った。磁気ディスク用ガラス基板の表面の粗さをAFM(原子間力顕微鏡)(5μm×5μmの矩形領域を測定)で測定したところ、最大山高さ(Rmax)は1.5nm、算術平均粗さ(Ra)は0.15nmであった。また、表面は清浄な鏡面状態であり、磁気ヘッドの浮上を妨げる異物や、サーマルアスペリティ障害の原因となる異物は存在しなかった。また、洗浄前後における基板表面の粗さの増大は見られなかった。
LUL耐久性試験後に、磁気ディスク表面および磁気ヘッド表面の観察を肉眼および光学顕微鏡で行い、傷や汚れなどの異常の有無を確認する。このLUL耐久性試験は40万回以上のLUL回数に故障無く耐久することが求められ、特に、60万回以上耐久すれば好適である。なお、通常に使用されるHDD(ハードディスクドライブ)の使用環境では、LUL回数が60万回を超えるには、概ね10年程度の使用が必要であると云われている。
12 基板
14 付着層
16 軟磁性層
18 下地層
20 微細化促進層
22 磁気記録層
24 保護層
26 潤滑層
32 強磁性層
34 磁気的結合制御層
36 交換エネルギー制御層
(1)中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を構成する化学強化用ガラスが、質量%表示にて、
SiO 2 57〜75%
Al 2 O 3 5〜20%
(ただし、SiO 2 とAl 2 O 3 の合計量が74%以上)
ZrO 2 0%を超え、5.5%以下
Li 2 O 1%を超え、9%以下
Na 2 O 5〜18%
(ただし、質量比Li 2 O/Na 2 Oが0.5以下)
CaO 0%を超え、5%以下
(ただし、MgOとCaOの合計量は5%以下であり、かつCaOの含有量はMgOの含有量よりも多い)
を含み、
前記化学強化処理工程によって得られる中心部に円孔を有するドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板から任意に選択した500〜1000枚の前記ガラス基板の円孔直径を測定した場合、各ガラス基板の円孔直径が、当該ガラス基板の平均円孔直径Aに対して、±5×10 −4 ×Aを逸脱する割合が4%以下であり、かつ各ガラス基板の抗折強度が98N以上、化学強化処理後のディスク状ガラス基板における圧縮応力層の厚さが10〜150μmになるように制御する
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(2)磁気ディスク用ガラス基板が、2.5インチ基板であって、各ガラス基板の円孔直径が、A±10μm以内である上記(1)項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(3)SrO+BaOが0質量%である上記(1)または(2)項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(4)化学強化処理を、60〜80質量%のKNO3、および、40〜20質量%のNaNO3(ただし、合計100質量%)の組成を有する化学強化処理液を用い、350〜420℃の温度にて行う上記(1)〜(3)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(5)垂直磁気記録方式に対応する、上記(1)〜(4)項のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
(6)上記(1)〜(5)項のいずれか1項に記載の製造方法で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁気記録層を有することを特徴とする磁気ディスク、
を提供するものである。
Claims (11)
- 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 中心部に円孔を有するドーナツ状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
任意に選択した500〜1000枚の前記ガラス基板の円孔直径を測定した場合、各ガラス基板の円孔直径が、当該ガラス基板の平均円孔直径Aに対して、±5×10−4×Aの範囲内にあり、かつ各ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように制御することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 磁気ディスク用ガラス基板が、2.5インチ基板であって、各ガラス基板の円孔直径が、A±10μm以内である請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量を、円孔直径の0.05%以内とするべく、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように、当該ディスク状ガラス基板のガラス材料と、前記化学強化処理の処理条件とを選択して、化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の化学強化処理による変形量を、各ガラスについて予め把握しておき、変形量が円孔直径の0.05%以内になり、かつ化学強化処理による当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるようにガラス材料を選択し、この選択されたガラス材料をディスク状に加工すると共に、中心部に円孔を形成し、化学強化処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を構成する化学強化用ガラスが、質量%表示にて、
SiO2 57〜75%
Al2O3 5〜20%
(ただし、SiO2とAl2O3の合計量が74%以上)
ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2を合計で0%を超え、6%以下、
Li2O 1%を超え、9%以下
Na2O 5〜18%
(ただし、質量比Li2O/Na2Oが0.5以下)
K2O 0〜6%
MgO 0〜4%
CaO 0%を超え、5%以下
(ただし、MgOとCaOの合計量は5%以下であり、かつCaOの含有量はMgOの含有量よりも多い)
SrO+BaO 0〜3%
を含む請求項1、4または5に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 化学強化処理を、60〜80質量%のKNO3、および、40〜20質量%のNaNO3(ただし、合計100質量%)の組成を有する化学強化処理液を用い、350〜420℃の温度にて行う請求項1、4〜6のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 化学強化処理後のディスク状ガラス基板における圧縮応力層の厚さが10〜150μmである請求項1、4〜7のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 記録される情報のトラック密度が、少なくとも100ギガビットTPIである磁気ディスクに対応する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 垂直磁気記録方式に対応する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法で得られた磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁気記録層を有することを特徴とする磁気ディスク。
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---|---|---|---|---|
JP2015026414A (ja) * | 2013-06-21 | 2015-02-05 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
JPWO2018074335A1 (ja) * | 2016-10-18 | 2019-08-08 | Agc株式会社 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008108332A1 (ja) | 2007-03-02 | 2008-09-12 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 強化板ガラスとその製造方法 |
JP2011527661A (ja) * | 2008-07-11 | 2011-11-04 | コーニング インコーポレイテッド | 民生用途のための圧縮面を有するガラス |
WO2011019010A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
WO2011096310A1 (ja) * | 2010-02-03 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体 |
JP5667403B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-02-12 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
TW201245080A (en) * | 2011-03-17 | 2012-11-16 | Asahi Glass Co Ltd | Glass for chemical strengthening |
US9359251B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles |
CN104768889B (zh) * | 2012-05-31 | 2020-05-15 | 康宁股份有限公司 | 可离子交换的含过渡金属的玻璃 |
US9139469B2 (en) * | 2012-07-17 | 2015-09-22 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
EP2885253B1 (en) * | 2012-08-17 | 2021-06-02 | Corning Incorporated | Ultra-thin strengthened glasses |
US11079309B2 (en) | 2013-07-26 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles having improved survivability |
US10118858B2 (en) | 2014-02-24 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass with deep depth of compression |
TWI705889B (zh) | 2014-06-19 | 2020-10-01 | 美商康寧公司 | 無易碎應力分布曲線的玻璃 |
CN117623625A (zh) | 2014-10-08 | 2024-03-01 | 康宁股份有限公司 | 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃和玻璃陶瓷 |
US10150698B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Strengthened glass with ultra deep depth of compression |
TWI696595B (zh) | 2014-11-04 | 2020-06-21 | 美商康寧公司 | 深不易碎的應力分佈及其製造方法 |
CN207528955U (zh) * | 2015-06-09 | 2018-06-22 | 旭硝子株式会社 | 玻璃导光板 |
US10579106B2 (en) | 2015-07-21 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
US11613103B2 (en) | 2015-07-21 | 2023-03-28 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
JP6839192B2 (ja) | 2015-12-11 | 2021-03-03 | コーニング インコーポレイテッド | 金属酸化物濃度勾配を含むフュージョン成形可能なガラス系物品 |
KR102018834B1 (ko) | 2016-04-08 | 2019-09-05 | 코닝 인코포레이티드 | 금속 산화물 농도 구배를 포함하는 유리-계 제품 |
US10271442B2 (en) | 2016-04-08 | 2019-04-23 | Corning Incorporated | Glass-based articles including a stress profile comprising two regions, and methods of making |
JP7373397B2 (ja) * | 2017-01-09 | 2023-11-02 | コーニング インコーポレイテッド | 熱膨張係数が低いイオン交換可能なガラス |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000143281A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-05-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
JP2001167427A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、及びそれらの製造方法 |
JP2001236634A (ja) * | 2001-01-04 | 2001-08-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化用ガラス組成物からなる磁気ディスク基板および磁気ディスク媒体。 |
JP2002003241A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Central Glass Co Ltd | プレス成形用ガラスおよび情報記録媒体用基板ガラス |
JP2002100031A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-05 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体 |
JP2002348141A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス物品およびそれを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2007118174A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、研磨部材、研磨方法、研磨装置及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
JP2007234218A (ja) * | 1997-09-30 | 2007-09-13 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2008192195A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-21 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム |
-
2007
- 2007-12-05 JP JP2007314521A patent/JP5393974B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-10-03 JP JP2012221077A patent/JP5421443B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007234218A (ja) * | 1997-09-30 | 2007-09-13 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP2000143281A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-05-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
JP2001167427A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、及びそれらの製造方法 |
JP2002003241A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Central Glass Co Ltd | プレス成形用ガラスおよび情報記録媒体用基板ガラス |
JP2002100031A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-05 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体 |
JP2001236634A (ja) * | 2001-01-04 | 2001-08-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化用ガラス組成物からなる磁気ディスク基板および磁気ディスク媒体。 |
JP2002348141A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス物品およびそれを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2007118174A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、研磨部材、研磨方法、研磨装置及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
JP2008192195A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-21 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015026414A (ja) * | 2013-06-21 | 2015-02-05 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
JPWO2018074335A1 (ja) * | 2016-10-18 | 2019-08-08 | Agc株式会社 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法 |
JP7040456B2 (ja) | 2016-10-18 | 2022-03-23 | Agc株式会社 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラスおよび化学強化ガラスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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JP5421443B2 (ja) | 2014-02-19 |
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