JP4611489B2 - 反射防止成形品の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、携帯電話、ビデオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディスプレイ部分のカバー部品などに用いることができる反射防止成形品の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話、ビデオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分は、液晶パネルあるいは有機ＥＬパネルとの組み合わせなどにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大したり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的として、レンズ状に成形した透明基板や縁取りなどの図柄が形成された透明基板により構成されるカバー部品により覆われている。
【０００３】
液晶パネルとの間に空間を設けて設置するカバー部品の場合は、液晶パネルとカバー部品との間に空気層が存在するため、液晶パネルからの光がカバー部品を透過する際、カバー部品の裏面で反射が生じる。このようなカバー部品において、透明基板がアクリル樹脂からなる場合、アクリル樹脂の屈折率が１．４８であり空気層の屈折率１．０に比べ高屈折なため、カバー部品の片面で４〜５％の反射率を示すものであった。したがって、カバー部品の裏面からの外光が反射して写り込み視認性が落ちるため、反射光をできるだけ抑えたいという要求がある。
【０００４】
また、液晶パネルのカラー化が進むに伴い、カバー部品の裏面からの反射光がディスプレイ表示のコントラストに影響を及ぼし表示品質を落とすことから、裏面の反射の少ないカバー部品が求められている。
【０００５】
また、透過光のロスをできるだけ少なくするには、液晶パネルと対向する裏面の反射を抑える必要がある。特に、カラー液晶パネルの場合はカラーフィルターを使用しているため透過光の３０％程度をロスしていることになり、明るい映像を表現するためにはモノクロ液晶パネルを用いた場合よりもバックライトの輝度を高めることが必要となる。これは、電力消費がモノクロ液晶パネルを用いた場合より大きくなるので、バッテリーを電力供給源とする携帯機器にとって重要な問題である。
【０００６】
そこで、カバー部品の反射率を低くするため、カバー部品の裏面に低反射処理が施されている。
【０００７】
低反射処理の方法としては、低反射フィルムを貼りつける方法がある。また、多重干渉を利用し、低屈折材料と高屈折材料とを交互に積層して透明低反射層を設ける方法がある。また、フッ素化合物などの有機系の低屈折物質あるいは常温硬化する無機系酸化物の低屈折物質を溶液化してコーティングする方法がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、低反射フィルムを貼りつける方法は、液晶パネルなどの表示装置に一般的に使用されている方法であるが、貼り合わせ工程や脱泡工程が必要となって工程数が多くなり、また、これに伴いゴミ噛みなどのために歩留まりも低下するという問題があった。
【０００９】
また、低屈折材料と高屈折材料とを交互に積層する方法は、性能のよい膜を形成できるため低反射効果は優れているものの、大がかりな装置を用いて透明基板に加工する必要があるので、コストが高くなるという問題があった。さらに、透明基板の裏面は、通常、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂が露出しているため、無機酸化物系の低屈折材料との密着性が低いという問題があった。密着性を高めるためにアンカー層を設けることも考えられるが、工程が増加しコストアップの要因となってしまうため適当ではない。
【００１０】
また、低反射効果を有する材料を溶液化しコーティングして透明低反射層を形成する方法は、成形品が平板の場合は可能であるが、カバー部品のように二次元あるいは三次元の曲面形状を有する成形品の場合は、低反射の機能を発揮する厚さ１０ｎｍ〜数百ｎｍの薄膜を形成することが困難であるという問題があった。
【００１１】
したがって、この発明は、上記のような欠点を解消し、透明基板の裏面に透明低反射層を形成せずとも優れた反射防止効果を有する反射防止成形品を容易に製造することができる方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明の反射防止成形品の製造方法は、上記の目的を達成するために、つぎのように構成した。
【００１３】
すなわち、この発明の反射防止成形品の製造方法は、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状を転写物に付与する微細凹凸層とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に微細凹凸形状を備えた反射防止成形品を得る第四工程とを備えるように構成した。
【００１４】
また、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に前記微細凹凸形状が写し取られた反射防止成形品を得る第四工程と、を備えるように構成した。
【００１５】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に図柄層を形成するように構成してもよい。
【００１６】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に図柄層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に図柄層を形成するように構成してもよい。
【００１７】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に保護層を形成するように構成してもよい。
【００１８】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に保護層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に保護層を形成するように構成してもよい。
【００１９】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２０】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に透明低反射層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２１】
また、上記の発明において、透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２２】
また、上記の発明において、透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により防汚層を形成するように構成してもよい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図面を参照しながらこの発明の実施の形態について詳しく説明する。
【００２４】
図１〜４は、この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。図５〜８は、この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。図中、１は金型、２は透明基板、３は透明低反射層、４は防汚層、５は反射防止成形品、６は微細凹凸形状、１０は裏面用加飾シート、１１は基体シート、１２は微細凹凸層、１３は剥離層、１４は図柄層、１５は接着層、２０は表面用加飾シート、２１は基体シート、２２は保護層、２３は図柄層、２４は接着層である。
【００２５】
この発明の反射防止成形品５の製造方法は、基体シート１１上に少なくとも微細凹凸層１２が形成された裏面用加飾シート１０を基体シート１１側がキャビティ面に接するように金型１内に設置し、金型１内に透明な溶融樹脂を射出して加飾シートと樹脂からなる透明基板２との一体化物を得、次いで裏面用加飾シート１０の基体シート１１を剥離して、透明基板２の表面が平滑であり裏面が微細凹凸形状６を有する成形品を得る方法である（図１〜３参照）。
【００２６】
このように構成することにより、裏面の微細凹凸形状６により裏面からの反射が拡散され、防眩が可能となる反射防止成形品５を容易に得ることができる。
【００２７】
反射防止成形品５の裏面に微細凹凸形状６を形成するために、基体シート１１上に少なくとも微細凹凸層１２が形成された裏面用加飾シート１０を利用する。
【００２８】
基体シート１１の材質としては、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などの樹脂シートなどを使用することができる。
【００２９】
基体シート１１からの転写層の剥離性がよい場合には、基体シート１１上に転写層を直接設ければよい。基体シート１１からの転写層の剥離性を改善するためには、基体シート１１上に転写層を設ける前に、離型層を全面的に形成してもよい。
【００３０】
微細凹凸層１２は、反射防止成形品５の裏面に微細凹凸形状６を表現するための層である。微細凹凸層１２は、基体シート１１または離型層上に部分的または全面的に形成する。微細凹凸層１２は、転写層の表面を微細凹凸形状６にする層であり、転写後は基体シート１１とともに除去されてもよい。微細凹凸層１２としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレン酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂などに、シリカ、アルミナなどの体質顔料や、樹脂ビーズ、多孔質シリカ、多孔質アルミナ、あるいは、ＭｇＦなどの低屈折フィラーなどを分散させたものを用いるとよい。微細凹凸層１２の形成方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法などの印刷法がある。
【００３１】
また、基体シート１１とともに微細凹凸層１２が除去されることによって透明基板２側に転写された層の表面に凹凸形状が写し取られて微細凹凸形状６を表現するのではなく、微細凹凸層１２が基体シート１１と他の層との両方に密着することにより、基体シート１１が剥離される際に微細凹凸層１２の内面で層間剥離が生じ、その剥離面により微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３２】
また、微細凹凸層１２が基体シート１１との界面で剥離して透明基板２側に転写され、微細凹凸層１２を構成する樹脂成分が収縮することによりその表面が微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３３】
また、微細凹凸層１２を基体シート１１上に形成する代わりに、基体シート１１の一方の面を微細凹凸形状６とすることにより、その微細凹凸形状６が転写層に写し取られて微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３４】
転写層の剥離性を高めるとともに微細凹凸層１２の微細凹凸形状６を写し取って微細凹凸形状６を表現するためには剥離層１３を形成するとよい。剥離層１３の材質としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などのほか、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂などのコポリマーを用いるとよい。剥離層１３の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００３５】
また、透明基板２の上に上記の各層を接着するために接着層１５を形成するとよい。接着層１５としては、透明基板２の素材に適した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。
【００３６】
たとえば、透明基板２の材質がアクリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。また、透明基板２の材質がポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよい。さらに、透明基板２の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂が使用可能である。接着層１５の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。また上記材質よりなる接着性を持つシートをラミネート法などにより貼り合せて接着層１５とすることも可能である。
【００３７】
なお、転写層の構成は、上記した態様に限定されるものではない。たとえば、剥離層１３の材質として透明基板２との接着性に優れたものを使用する場合には、接着層１５を省略することができる。
【００３８】
また、反射防止成形品５を加飾するために転写層として図柄層１４を形成してもよい。図柄層１４は、剥離層１３の上に形成するとよい。
【００３９】
図柄層１４は、通常は印刷層として形成する。印刷層の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いるとよい。印刷層の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法などを用いるとよい。印刷層は、通常は、部分的に設ける。
【００４０】
また、図柄層１４は、金属薄膜層からなるもの、あるいは印刷層と金属薄膜層との組み合わせからなるものでもよい。金属薄膜層は、図柄層１４として金属光沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成する。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合金または化合物を使用する。金属薄膜層は、通常は、部分的に形成する。また、金属薄膜層を設ける際に、他の層との密着性を向上させるために、前アンカー層や後アンカー層を設けてもよい。
【００４１】
次に、前記した裏面用加飾シート１０を用い、透明基板２の裏面に微細凹凸形状６を形成する方法について説明する（図１〜３参照）。
【００４２】
まず、可動型と固定型とからなる成形用金型１内に、裏面用加飾シート１０を基体シート１１側がキャビティ面に接するように送り込む（図１参照）。その際、枚葉の裏面用加飾シート１０を１枚づつ送り込んでもよいし、長尺の裏面用加飾シート１０の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の裏面用加飾シート１０を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、裏面用加飾シート１０の微細凹凸層１２や図柄層１４などと成形用金型１との見当が一致するようにするとよい。また、裏面用加飾シート１０を間欠的に送り込む際に、裏面用加飾シート１０の位置をセンサーで検出した後に裏面用加飾シート１０を可動型と固定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で裏面用加飾シート１０を固定することができ、図柄層１４の位置ずれが生じないので便利である。
【００４３】
成形用金型１を閉じた後、固定型に設けたゲートより溶融樹脂を金型１内に射出充満させ、透明基板２を形成するのと同時に裏面用加飾シート１０を接着させ一体化する（図２参照）。
【００４４】
成形樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂を使用することもできる。
【００４５】
透明基板２である樹脂成形品を冷却した後、成形用金型１を開いて樹脂成形品を取り出す。最後に、裏面用加飾シート１０の基体シート１１を剥離する（図３参照）。このようにして、転写層のみを透明基板２に転移するとともに微細凹凸形状６を形成することができる（図５参照）。
【００４６】
上記のようにして反射防止成形品５を得ることができる。
【００４７】
反射防止成形品５の形状は、平板状のものであっても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであってもよい（図５〜８参照）。その表側は平滑面となり、裏側は微細凹凸形状６を有する面となる。
【００４８】
微細凹凸形状６は、光拡散させるためのものでヘイズが発生しない程度であれば、その表面粗度は特に限定されない。好ましくは、ヘイズ値が０．１〜８．０（ＪＩＳ Ｋ７１０５準拠）になるよう調整した方がよい。ヘイズ値が０．１に満たないと、光拡散効果が十分に得られず、反射防止成形品５の裏面の反射を防止できない。また、ヘイズ値が８．０を越えると、白濁が著しくなり、反射防止機能が優れていても反射防止成形品５の裏面に配置されるディスプレイの文字や画像がにじんでみえることになるので好ましくない。ヘイズ値は、０．１〜３．０の範囲であるのが特に好ましい。この範囲内にあると、反射防止成形品５の透明感が増し、コントラストがより高くなり文字や画像のにじみも減少する。
【００４９】
また、グロス（６０°）値は１０〜１３０（ＪＩＳ Ｋ７１０５準拠）であるのが好ましい。１０に満たないと濁りが激しくなるので不適当である。また、１３０を越えると外光の照り返しが大きくなり、ぎらつきが大きくなる。特に、グロス（６０°）値は３０〜１００であるのが好ましい。この範囲であると反射防止効果が高く濁りが減少し、文字や画像の認識が良好となる。
【００５０】
また、反射防止成形品５の表面には、必要に応じて、図柄層２３、保護層２２、透明低反射層３、防汚層４などを形成してもよい（図４〜８参照）。
【００５１】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０に形成する場合と同様にして、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５２】
保護層２２は、反射防止成形品５の表面強度を高めるための層である。保護層２２は、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５３】
保護層２２としては、重合性二重結合を有するプレポリマーまたはオリゴマーあるいはエポキシ基を有するプレポリマーまたはオリゴマーの組成物に反応型希釈剤を混合し、必要により光重合開始剤を添加した化合物を用いるとよい。具体的には、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂として用いられる樹脂を用いるとよい。保護層２２の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００５４】
透明低反射層３は、透明基板２の反射を防止するための層である。透明低反射層３は、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５５】
透明低反射層３に用いる低屈折材料としては、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属酸化物を用いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリシロキサンの少なくとも１種を含む有機金属化合物を用いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂などの有機化合物を用いることも可能である。
【００５６】
透明低反射層３の構成としては、微細孔を有する酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを、酸化ケイ素に分散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単層として用いるほか、酸化チタン層／酸化ケイ素層の２層構成の透明低反射層３として使用したり、酸化チタン層／酸化ケイ素層／酸化チタン層／酸化ケイ素層のように４層構成の透明低反射層３など多重干渉を利用した多層構成の透明低反射層３としてもよい。
【００５７】
これらの透明低反射層３の製造方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などがある。あるいは金属アルコラート、金属キレートなどの有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コーティング法などにより透明基板２上に塗布し、その後、光照射あるいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成して透明低反射層３を得る方法もある。また、後述する表面用加飾シート２０を用いた転写法またはインサート法により形成することもできる。
【００５８】
透明低反射層３の厚さは、０．０１〜２μｍの範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材料の屈折率により、一般式ｎ×ｄ＝λ／４または一般式ｎ×ｄ＝３λ／４（ただし、ｎは低屈折材料の屈折率、ｄは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ示す）を満たすように適宜選択するとよい。
【００５９】
このように透明基板２の最表面には透明低反射層３が形成され、裏面には微細凹凸形状６が形成されていることにより、反射防止成形品５の表側から入射する光は透明低反射層３の機能により反射が抑えられ、裏側での反射は微細凹凸形状６の光拡散作用により反射が抑えられ、反射防止成形品５全体として高い光透過率を示すものとなる。
【００６０】
また、必要に応じて防汚層４を設けてもよい。防汚層４は、反射防止成形品５の汚染を防ぐために透明低反射層３の上に設けられる層である。防汚層４としては、末端基にフッ素を有する界面活性剤などを用いるとよい。防汚層４を設けるには、コーティング法、浸漬法、真空蒸着法などによるとよい。防汚層４の膜厚は、できる限り薄い方が好ましい。防汚層４の厚さが大きいと反射防止成形品５の光透過率が低くなるからである。
【００６１】
透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成するために、表面用加飾シート２０を利用してもよい。表面用加飾シート２０を用いることにより、透明基板２の裏面に微細凹凸形状を形成するのと同時に、透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成することができる。
【００６２】
表面用加飾シート２０は、転写材あるいはインサート材として構成される。
【００６３】
表面用加飾シート２０として転写材を用いる場合、表面用加飾シート２０は、基体シート２１上に、図柄層２３や保護層２２などが転写層として構成される。
【００６４】
基体シート２１としては、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。必要に応じて、離型層や剥離層を形成する。
【００６５】
保護層２２は、基体シート２１または離型層上に全面的に形成する。保護層２２は、成形同時転写後に基体シート２１を剥離した際に、基体シート２１または離型層から剥離して被転写物の最外面となり、反射防止成形品５の表面強度を高める層となる。保護層２２の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００６６】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０の場合と同様にして形成するとよい。
【００６７】
透明低反射層３は、保護層２２または剥離層の上に形成する。透明低反射層３は先に記載した構成のものとすればよい。
【００６８】
また、必要に応じて、接着層２４などを形成してもよい。
【００６９】
なお、透明基板２の表面側に形成するすべての層を転写材によって形成するのではなく、転写材によって形成するのが好適な層のみを転写材によって形成し、その他の層は先に述べた方法により別途形成するようにしてもよい。特に、図柄層２３および保護層２２は転写材によって形成するのに適している。一方、防汚層４は転写材によって形成するのに適していない。
【００７０】
上記のように構成した表面用加飾シート２０である転写材を、裏面用加飾シート１０と対向するキャビティ面に基体シート２１が接するように金型１内に設置し（図１参照）、金型１内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０と樹脂とからなる透明基板２との一体化物が得られた後に（図２参照）、表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０の基体シート１１、２１を剥離する（図３参照）。このようにして、透明基板２の表面に、図柄層１４、２３や保護層２２などを形成することができる（図５参照）。
【００７１】
表面用加飾シート２０としてインサート材を用いる場合、表面用加飾シート２０は、基体シート２１上に、図柄層２３や保護層２２などが形成されたものとなる。
【００７２】
基体シート２１は、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。
【００７３】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。
【００７４】
保護層２２および透明低反射層３は、表面用加飾シート２０として用いる転写材の場合と同様のものを用いることができる。
【００７５】
また、必要に応じて、接着層２４などを形成してもよい。
【００７６】
なお、インサート法の場合は基体シート２１を剥離除去しないので、基体シート２１の一方の面に保護層２２を形成し、他方の面に接着層２４を形成することになる。図柄層２３は、いずれの面に形成してもよい。
【００７７】
また、反射防止成形品５の透明基板２の上に形成するすべての層をインサート材によって形成するのではなく、インサート材によって形成するのが好適な層のみを成形同時転写法によって形成し、その他の層は別途形成するようにしてもよいのは転写材を用いる場合と同様である。
【００７８】
上記のように構成した表面用加飾シート２０であるインサート材を、裏面用加飾シート１０と対向するキャビティ面に保護層２２側の面が接するように金型１内に設置し、金型１内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０と樹脂とからなる透明基板２との一体化物を得る。このようにして、透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成することができる（図６参照）。
【００７９】
【実施例】
厚さ３３μｍのポリエステルフィルム（帝人株式会社製Ｇ２Ｎ）を基体シートとし、その上に酸化ケイ素を１２重量％含有するエポキシ系樹脂からなる微細凹凸層、アクリル系樹脂からなる剥離層、ビニル系樹脂からなる接着層を順次グラビア印刷法で形成して裏面用加飾シートを得た。各層の厚さは１．０μｍとなるようにした。
【００８０】
また、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを基体シートとし、その上に紫外線硬化樹脂からなる保護層、アクリル系樹脂からなる図柄層、ビニル系樹脂からなる接着層を順次グラビア印刷法で形成して表面用加飾シートを得た。
【００８１】
携帯電話のディスプレイ部分のカバー部品を成形する成形用金型に、裏面用加飾シートを基体シート側がキャビティ面に接するように金型内に設置した。また、表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置した。
【００８２】
次いで、金型内に透明なアクリル系樹脂（住友化学工業株式会社製スミペックスＨＴ−５５Ｘ）を射出し、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得た。
【００８３】
次いで、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離したところ、透明基板の表面には、接着層、図柄層、保護層が順次積層され、平滑面が形成された。また、透明基板の裏面には、接着層と剥離層が順次形成され、基体シートとともに除去された微細凹凸層の凹凸形状が剥離層に写し取られ、剥離層表面に微細凹凸形状が形成された。
【００８４】
このようにして得た携帯電話のディスプレイ部分のカバー部品である反射防止成形品は、微細凹凸形状の表面粗度（Ｒａ）が２．８μｍとなり、裏面の反射防止効果に優れたものであった。
【００８５】
【発明の効果】
この発明は、以上のような構成を採るので、以下のような効果を奏する。
【００８６】
この発明の反射防止成形品の製造方法は、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状を転写物に付与する微細凹凸層とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に微細凹凸形状を備えた反射防止成形品を得る第四工程とを備えるように構成したので、透明基板の裏面に透明低反射層を形成せずとも優れた反射防止効果に加え、高いコントラスト性と濁りの少ない反射防止成形品を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図２】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図３】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図４】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図５】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図６】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図７】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図８】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 金型
２ 透明基板
３ 透明低反射層
４ 防汚層
５ 反射防止成形品
６ 微細凹凸形状
１０ 裏面用加飾シート
１１ 基体シート
１２ 微細凹凸層
１３ 剥離層
１４ 図柄層
１５ 接着層
２０ 表面用加飾シート
２１ 基体シート
２２ 保護層
２３ 図柄層
２４ 接着層
【発明の属する技術分野】
この発明は、携帯電話、ビデオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディスプレイ部分のカバー部品などに用いることができる反射防止成形品の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話、ビデオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分は、液晶パネルあるいは有機ＥＬパネルとの組み合わせなどにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大したり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的として、レンズ状に成形した透明基板や縁取りなどの図柄が形成された透明基板により構成されるカバー部品により覆われている。
【０００３】
液晶パネルとの間に空間を設けて設置するカバー部品の場合は、液晶パネルとカバー部品との間に空気層が存在するため、液晶パネルからの光がカバー部品を透過する際、カバー部品の裏面で反射が生じる。このようなカバー部品において、透明基板がアクリル樹脂からなる場合、アクリル樹脂の屈折率が１．４８であり空気層の屈折率１．０に比べ高屈折なため、カバー部品の片面で４〜５％の反射率を示すものであった。したがって、カバー部品の裏面からの外光が反射して写り込み視認性が落ちるため、反射光をできるだけ抑えたいという要求がある。
【０００４】
また、液晶パネルのカラー化が進むに伴い、カバー部品の裏面からの反射光がディスプレイ表示のコントラストに影響を及ぼし表示品質を落とすことから、裏面の反射の少ないカバー部品が求められている。
【０００５】
また、透過光のロスをできるだけ少なくするには、液晶パネルと対向する裏面の反射を抑える必要がある。特に、カラー液晶パネルの場合はカラーフィルターを使用しているため透過光の３０％程度をロスしていることになり、明るい映像を表現するためにはモノクロ液晶パネルを用いた場合よりもバックライトの輝度を高めることが必要となる。これは、電力消費がモノクロ液晶パネルを用いた場合より大きくなるので、バッテリーを電力供給源とする携帯機器にとって重要な問題である。
【０００６】
そこで、カバー部品の反射率を低くするため、カバー部品の裏面に低反射処理が施されている。
【０００７】
低反射処理の方法としては、低反射フィルムを貼りつける方法がある。また、多重干渉を利用し、低屈折材料と高屈折材料とを交互に積層して透明低反射層を設ける方法がある。また、フッ素化合物などの有機系の低屈折物質あるいは常温硬化する無機系酸化物の低屈折物質を溶液化してコーティングする方法がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、低反射フィルムを貼りつける方法は、液晶パネルなどの表示装置に一般的に使用されている方法であるが、貼り合わせ工程や脱泡工程が必要となって工程数が多くなり、また、これに伴いゴミ噛みなどのために歩留まりも低下するという問題があった。
【０００９】
また、低屈折材料と高屈折材料とを交互に積層する方法は、性能のよい膜を形成できるため低反射効果は優れているものの、大がかりな装置を用いて透明基板に加工する必要があるので、コストが高くなるという問題があった。さらに、透明基板の裏面は、通常、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂が露出しているため、無機酸化物系の低屈折材料との密着性が低いという問題があった。密着性を高めるためにアンカー層を設けることも考えられるが、工程が増加しコストアップの要因となってしまうため適当ではない。
【００１０】
また、低反射効果を有する材料を溶液化しコーティングして透明低反射層を形成する方法は、成形品が平板の場合は可能であるが、カバー部品のように二次元あるいは三次元の曲面形状を有する成形品の場合は、低反射の機能を発揮する厚さ１０ｎｍ〜数百ｎｍの薄膜を形成することが困難であるという問題があった。
【００１１】
したがって、この発明は、上記のような欠点を解消し、透明基板の裏面に透明低反射層を形成せずとも優れた反射防止効果を有する反射防止成形品を容易に製造することができる方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明の反射防止成形品の製造方法は、上記の目的を達成するために、つぎのように構成した。
【００１３】
すなわち、この発明の反射防止成形品の製造方法は、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状を転写物に付与する微細凹凸層とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に微細凹凸形状を備えた反射防止成形品を得る第四工程とを備えるように構成した。
【００１４】
また、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に前記微細凹凸形状が写し取られた反射防止成形品を得る第四工程と、を備えるように構成した。
【００１５】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に図柄層を形成するように構成してもよい。
【００１６】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に図柄層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に図柄層を形成するように構成してもよい。
【００１７】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に保護層を形成するように構成してもよい。
【００１８】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に保護層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に保護層を形成するように構成してもよい。
【００１９】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２０】
また、上記の発明において、基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に透明低反射層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２１】
また、上記の発明において、透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により透明低反射層を形成するように構成してもよい。
【００２２】
また、上記の発明において、透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により防汚層を形成するように構成してもよい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図面を参照しながらこの発明の実施の形態について詳しく説明する。
【００２４】
図１〜４は、この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。図５〜８は、この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。図中、１は金型、２は透明基板、３は透明低反射層、４は防汚層、５は反射防止成形品、６は微細凹凸形状、１０は裏面用加飾シート、１１は基体シート、１２は微細凹凸層、１３は剥離層、１４は図柄層、１５は接着層、２０は表面用加飾シート、２１は基体シート、２２は保護層、２３は図柄層、２４は接着層である。
【００２５】
この発明の反射防止成形品５の製造方法は、基体シート１１上に少なくとも微細凹凸層１２が形成された裏面用加飾シート１０を基体シート１１側がキャビティ面に接するように金型１内に設置し、金型１内に透明な溶融樹脂を射出して加飾シートと樹脂からなる透明基板２との一体化物を得、次いで裏面用加飾シート１０の基体シート１１を剥離して、透明基板２の表面が平滑であり裏面が微細凹凸形状６を有する成形品を得る方法である（図１〜３参照）。
【００２６】
このように構成することにより、裏面の微細凹凸形状６により裏面からの反射が拡散され、防眩が可能となる反射防止成形品５を容易に得ることができる。
【００２７】
反射防止成形品５の裏面に微細凹凸形状６を形成するために、基体シート１１上に少なくとも微細凹凸層１２が形成された裏面用加飾シート１０を利用する。
【００２８】
基体シート１１の材質としては、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などの樹脂シートなどを使用することができる。
【００２９】
基体シート１１からの転写層の剥離性がよい場合には、基体シート１１上に転写層を直接設ければよい。基体シート１１からの転写層の剥離性を改善するためには、基体シート１１上に転写層を設ける前に、離型層を全面的に形成してもよい。
【００３０】
微細凹凸層１２は、反射防止成形品５の裏面に微細凹凸形状６を表現するための層である。微細凹凸層１２は、基体シート１１または離型層上に部分的または全面的に形成する。微細凹凸層１２は、転写層の表面を微細凹凸形状６にする層であり、転写後は基体シート１１とともに除去されてもよい。微細凹凸層１２としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレン酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂などに、シリカ、アルミナなどの体質顔料や、樹脂ビーズ、多孔質シリカ、多孔質アルミナ、あるいは、ＭｇＦなどの低屈折フィラーなどを分散させたものを用いるとよい。微細凹凸層１２の形成方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法などの印刷法がある。
【００３１】
また、基体シート１１とともに微細凹凸層１２が除去されることによって透明基板２側に転写された層の表面に凹凸形状が写し取られて微細凹凸形状６を表現するのではなく、微細凹凸層１２が基体シート１１と他の層との両方に密着することにより、基体シート１１が剥離される際に微細凹凸層１２の内面で層間剥離が生じ、その剥離面により微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３２】
また、微細凹凸層１２が基体シート１１との界面で剥離して透明基板２側に転写され、微細凹凸層１２を構成する樹脂成分が収縮することによりその表面が微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３３】
また、微細凹凸層１２を基体シート１１上に形成する代わりに、基体シート１１の一方の面を微細凹凸形状６とすることにより、その微細凹凸形状６が転写層に写し取られて微細凹凸形状６を表現するように構成してもよい。
【００３４】
転写層の剥離性を高めるとともに微細凹凸層１２の微細凹凸形状６を写し取って微細凹凸形状６を表現するためには剥離層１３を形成するとよい。剥離層１３の材質としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などのほか、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂などのコポリマーを用いるとよい。剥離層１３の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００３５】
また、透明基板２の上に上記の各層を接着するために接着層１５を形成するとよい。接着層１５としては、透明基板２の素材に適した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。
【００３６】
たとえば、透明基板２の材質がアクリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。また、透明基板２の材質がポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよい。さらに、透明基板２の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂が使用可能である。接着層１５の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。また上記材質よりなる接着性を持つシートをラミネート法などにより貼り合せて接着層１５とすることも可能である。
【００３７】
なお、転写層の構成は、上記した態様に限定されるものではない。たとえば、剥離層１３の材質として透明基板２との接着性に優れたものを使用する場合には、接着層１５を省略することができる。
【００３８】
また、反射防止成形品５を加飾するために転写層として図柄層１４を形成してもよい。図柄層１４は、剥離層１３の上に形成するとよい。
【００３９】
図柄層１４は、通常は印刷層として形成する。印刷層の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用いるとよい。印刷層の形成方法としては、オフセット印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法などを用いるとよい。印刷層は、通常は、部分的に設ける。
【００４０】
また、図柄層１４は、金属薄膜層からなるもの、あるいは印刷層と金属薄膜層との組み合わせからなるものでもよい。金属薄膜層は、図柄層１４として金属光沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成する。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合金または化合物を使用する。金属薄膜層は、通常は、部分的に形成する。また、金属薄膜層を設ける際に、他の層との密着性を向上させるために、前アンカー層や後アンカー層を設けてもよい。
【００４１】
次に、前記した裏面用加飾シート１０を用い、透明基板２の裏面に微細凹凸形状６を形成する方法について説明する（図１〜３参照）。
【００４２】
まず、可動型と固定型とからなる成形用金型１内に、裏面用加飾シート１０を基体シート１１側がキャビティ面に接するように送り込む（図１参照）。その際、枚葉の裏面用加飾シート１０を１枚づつ送り込んでもよいし、長尺の裏面用加飾シート１０の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の裏面用加飾シート１０を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を使用して、裏面用加飾シート１０の微細凹凸層１２や図柄層１４などと成形用金型１との見当が一致するようにするとよい。また、裏面用加飾シート１０を間欠的に送り込む際に、裏面用加飾シート１０の位置をセンサーで検出した後に裏面用加飾シート１０を可動型と固定型とで固定するようにすれば、常に同じ位置で裏面用加飾シート１０を固定することができ、図柄層１４の位置ずれが生じないので便利である。
【００４３】
成形用金型１を閉じた後、固定型に設けたゲートより溶融樹脂を金型１内に射出充満させ、透明基板２を形成するのと同時に裏面用加飾シート１０を接着させ一体化する（図２参照）。
【００４４】
成形樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂を使用することもできる。
【００４５】
透明基板２である樹脂成形品を冷却した後、成形用金型１を開いて樹脂成形品を取り出す。最後に、裏面用加飾シート１０の基体シート１１を剥離する（図３参照）。このようにして、転写層のみを透明基板２に転移するとともに微細凹凸形状６を形成することができる（図５参照）。
【００４６】
上記のようにして反射防止成形品５を得ることができる。
【００４７】
反射防止成形品５の形状は、平板状のものであっても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであってもよい（図５〜８参照）。その表側は平滑面となり、裏側は微細凹凸形状６を有する面となる。
【００４８】
微細凹凸形状６は、光拡散させるためのものでヘイズが発生しない程度であれば、その表面粗度は特に限定されない。好ましくは、ヘイズ値が０．１〜８．０（ＪＩＳ Ｋ７１０５準拠）になるよう調整した方がよい。ヘイズ値が０．１に満たないと、光拡散効果が十分に得られず、反射防止成形品５の裏面の反射を防止できない。また、ヘイズ値が８．０を越えると、白濁が著しくなり、反射防止機能が優れていても反射防止成形品５の裏面に配置されるディスプレイの文字や画像がにじんでみえることになるので好ましくない。ヘイズ値は、０．１〜３．０の範囲であるのが特に好ましい。この範囲内にあると、反射防止成形品５の透明感が増し、コントラストがより高くなり文字や画像のにじみも減少する。
【００４９】
また、グロス（６０°）値は１０〜１３０（ＪＩＳ Ｋ７１０５準拠）であるのが好ましい。１０に満たないと濁りが激しくなるので不適当である。また、１３０を越えると外光の照り返しが大きくなり、ぎらつきが大きくなる。特に、グロス（６０°）値は３０〜１００であるのが好ましい。この範囲であると反射防止効果が高く濁りが減少し、文字や画像の認識が良好となる。
【００５０】
また、反射防止成形品５の表面には、必要に応じて、図柄層２３、保護層２２、透明低反射層３、防汚層４などを形成してもよい（図４〜８参照）。
【００５１】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０に形成する場合と同様にして、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５２】
保護層２２は、反射防止成形品５の表面強度を高めるための層である。保護層２２は、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５３】
保護層２２としては、重合性二重結合を有するプレポリマーまたはオリゴマーあるいはエポキシ基を有するプレポリマーまたはオリゴマーの組成物に反応型希釈剤を混合し、必要により光重合開始剤を添加した化合物を用いるとよい。具体的には、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂として用いられる樹脂を用いるとよい。保護層２２の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００５４】
透明低反射層３は、透明基板２の反射を防止するための層である。透明低反射層３は、透明基板２の表面に直接形成することができる。また、後述する表面用加飾シート２０を用いて形成することができる。
【００５５】
透明低反射層３に用いる低屈折材料としては、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属酸化物を用いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリシロキサンの少なくとも１種を含む有機金属化合物を用いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂などの有機化合物を用いることも可能である。
【００５６】
透明低反射層３の構成としては、微細孔を有する酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを、酸化ケイ素に分散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単層として用いるほか、酸化チタン層／酸化ケイ素層の２層構成の透明低反射層３として使用したり、酸化チタン層／酸化ケイ素層／酸化チタン層／酸化ケイ素層のように４層構成の透明低反射層３など多重干渉を利用した多層構成の透明低反射層３としてもよい。
【００５７】
これらの透明低反射層３の製造方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などがある。あるいは金属アルコラート、金属キレートなどの有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コーティング法などにより透明基板２上に塗布し、その後、光照射あるいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成して透明低反射層３を得る方法もある。また、後述する表面用加飾シート２０を用いた転写法またはインサート法により形成することもできる。
【００５８】
透明低反射層３の厚さは、０．０１〜２μｍの範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材料の屈折率により、一般式ｎ×ｄ＝λ／４または一般式ｎ×ｄ＝３λ／４（ただし、ｎは低屈折材料の屈折率、ｄは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ示す）を満たすように適宜選択するとよい。
【００５９】
このように透明基板２の最表面には透明低反射層３が形成され、裏面には微細凹凸形状６が形成されていることにより、反射防止成形品５の表側から入射する光は透明低反射層３の機能により反射が抑えられ、裏側での反射は微細凹凸形状６の光拡散作用により反射が抑えられ、反射防止成形品５全体として高い光透過率を示すものとなる。
【００６０】
また、必要に応じて防汚層４を設けてもよい。防汚層４は、反射防止成形品５の汚染を防ぐために透明低反射層３の上に設けられる層である。防汚層４としては、末端基にフッ素を有する界面活性剤などを用いるとよい。防汚層４を設けるには、コーティング法、浸漬法、真空蒸着法などによるとよい。防汚層４の膜厚は、できる限り薄い方が好ましい。防汚層４の厚さが大きいと反射防止成形品５の光透過率が低くなるからである。
【００６１】
透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成するために、表面用加飾シート２０を利用してもよい。表面用加飾シート２０を用いることにより、透明基板２の裏面に微細凹凸形状を形成するのと同時に、透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成することができる。
【００６２】
表面用加飾シート２０は、転写材あるいはインサート材として構成される。
【００６３】
表面用加飾シート２０として転写材を用いる場合、表面用加飾シート２０は、基体シート２１上に、図柄層２３や保護層２２などが転写層として構成される。
【００６４】
基体シート２１としては、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。必要に応じて、離型層や剥離層を形成する。
【００６５】
保護層２２は、基体シート２１または離型層上に全面的に形成する。保護層２２は、成形同時転写後に基体シート２１を剥離した際に、基体シート２１または離型層から剥離して被転写物の最外面となり、反射防止成形品５の表面強度を高める層となる。保護層２２の形成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
【００６６】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０の場合と同様にして形成するとよい。
【００６７】
透明低反射層３は、保護層２２または剥離層の上に形成する。透明低反射層３は先に記載した構成のものとすればよい。
【００６８】
また、必要に応じて、接着層２４などを形成してもよい。
【００６９】
なお、透明基板２の表面側に形成するすべての層を転写材によって形成するのではなく、転写材によって形成するのが好適な層のみを転写材によって形成し、その他の層は先に述べた方法により別途形成するようにしてもよい。特に、図柄層２３および保護層２２は転写材によって形成するのに適している。一方、防汚層４は転写材によって形成するのに適していない。
【００７０】
上記のように構成した表面用加飾シート２０である転写材を、裏面用加飾シート１０と対向するキャビティ面に基体シート２１が接するように金型１内に設置し（図１参照）、金型１内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０と樹脂とからなる透明基板２との一体化物が得られた後に（図２参照）、表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０の基体シート１１、２１を剥離する（図３参照）。このようにして、透明基板２の表面に、図柄層１４、２３や保護層２２などを形成することができる（図５参照）。
【００７１】
表面用加飾シート２０としてインサート材を用いる場合、表面用加飾シート２０は、基体シート２１上に、図柄層２３や保護層２２などが形成されたものとなる。
【００７２】
基体シート２１は、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。
【００７３】
図柄層２３は、裏面用加飾シート１０の場合と同様のものを用いることができる。
【００７４】
保護層２２および透明低反射層３は、表面用加飾シート２０として用いる転写材の場合と同様のものを用いることができる。
【００７５】
また、必要に応じて、接着層２４などを形成してもよい。
【００７６】
なお、インサート法の場合は基体シート２１を剥離除去しないので、基体シート２１の一方の面に保護層２２を形成し、他方の面に接着層２４を形成することになる。図柄層２３は、いずれの面に形成してもよい。
【００７７】
また、反射防止成形品５の透明基板２の上に形成するすべての層をインサート材によって形成するのではなく、インサート材によって形成するのが好適な層のみを成形同時転写法によって形成し、その他の層は別途形成するようにしてもよいのは転写材を用いる場合と同様である。
【００７８】
上記のように構成した表面用加飾シート２０であるインサート材を、裏面用加飾シート１０と対向するキャビティ面に保護層２２側の面が接するように金型１内に設置し、金型１内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シート２０および裏面用加飾シート１０と樹脂とからなる透明基板２との一体化物を得る。このようにして、透明基板２の表面に、図柄層２３や保護層２２などを形成することができる（図６参照）。
【００７９】
【実施例】
厚さ３３μｍのポリエステルフィルム（帝人株式会社製Ｇ２Ｎ）を基体シートとし、その上に酸化ケイ素を１２重量％含有するエポキシ系樹脂からなる微細凹凸層、アクリル系樹脂からなる剥離層、ビニル系樹脂からなる接着層を順次グラビア印刷法で形成して裏面用加飾シートを得た。各層の厚さは１．０μｍとなるようにした。
【００８０】
また、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを基体シートとし、その上に紫外線硬化樹脂からなる保護層、アクリル系樹脂からなる図柄層、ビニル系樹脂からなる接着層を順次グラビア印刷法で形成して表面用加飾シートを得た。
【００８１】
携帯電話のディスプレイ部分のカバー部品を成形する成形用金型に、裏面用加飾シートを基体シート側がキャビティ面に接するように金型内に設置した。また、表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置した。
【００８２】
次いで、金型内に透明なアクリル系樹脂（住友化学工業株式会社製スミペックスＨＴ−５５Ｘ）を射出し、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得た。
【００８３】
次いで、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離したところ、透明基板の表面には、接着層、図柄層、保護層が順次積層され、平滑面が形成された。また、透明基板の裏面には、接着層と剥離層が順次形成され、基体シートとともに除去された微細凹凸層の凹凸形状が剥離層に写し取られ、剥離層表面に微細凹凸形状が形成された。
【００８４】
このようにして得た携帯電話のディスプレイ部分のカバー部品である反射防止成形品は、微細凹凸形状の表面粗度（Ｒａ）が２．８μｍとなり、裏面の反射防止効果に優れたものであった。
【００８５】
【発明の効果】
この発明は、以上のような構成を採るので、以下のような効果を奏する。
【００８６】
この発明の反射防止成形品の製造方法は、ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状を転写物に付与する微細凹凸層とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に微細凹凸形状を備えた反射防止成形品を得る第四工程とを備えるように構成したので、透明基板の裏面に透明低反射層を形成せずとも優れた反射防止効果に加え、高いコントラスト性と濁りの少ない反射防止成形品を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図２】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図３】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図４】この発明の反射防止成形品の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図５】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図６】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図７】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【図８】この発明の反射防止成形品の製造方法によって得られる反射防止成形品の一実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
１ 金型
２ 透明基板
３ 透明低反射層
４ 防汚層
５ 反射防止成形品
６ 微細凹凸形状
１０ 裏面用加飾シート
１１ 基体シート
１２ 微細凹凸層
１３ 剥離層
１４ 図柄層
１５ 接着層
２０ 表面用加飾シート
２１ 基体シート
２２ 保護層
２３ 図柄層
２４ 接着層
Claims (10)
- ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、
金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状を転写物に付与する微細凹凸層とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、
前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、
前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、
前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に微細凹凸形状を備えた反射防止成形品を得る第四工程と、
を備えた反射防止成形品の製造方法。 - ディスプレイのカバー部材に用いられ裏面に凹部を有する反射防止成形品の製造方法において、
金型内に基体シートと前記基体シートの上に形成され、ＪＩＳ Ｋ７１０５でヘーズ値が０．１〜８．０であり、ＪＩＳ Ｋ７１０５でグロス（６０°）値が１０〜１３０であるの微細凹凸形状とを備える裏面用加飾シートを進入させ、前記裏面用加飾シートの基体シート側が前記金型のキャビティー面に接するように設置させる第一工程と、
前記金型の固定型とキャビティー型が型閉めされ、前記固定型側から透明な溶融樹脂が射出される第二工程と、
前記溶融樹脂からなり裏面に凹部を有する透明部材と前記透明部材の凹部に形成される裏面用加飾シートとを備えた一体化物を得る第三工程と、
前記金型を型開きした後、前記一体化物から前記裏面用加飾シートを剥離して、前記透明部材の凹部に前記微細凹凸形状が写し取られた反射防止成形品を得る第四工程と、
を備えた反射防止成形品の製造方法。 - 基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に図柄層を形成する請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 基体シート上に少なくとも図柄層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に図柄層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に図柄層を形成する請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に保護層を形成する請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 基体シート上に少なくとも保護層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に保護層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に保護層を形成する請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に基体シートが接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物が得られた後に、表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートの基体シートを剥離して、透明基板の表面に透明低反射層を形成する請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 基体シート上に少なくとも透明低反射層が形成された表面用加飾シートを、裏面用加飾シートと対向するキャビティ面に透明低反射層側の面が接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂が射出されて表面用加飾シートおよび裏面用加飾シートと樹脂とからなる透明基板との一体化物を得、透明基板の表面に透明低反射層を形成する請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により透明低反射層を形成する請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
- 透明基板の表面に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法により防汚層を形成する請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止成形品の製造方法。
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