JP4598133B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性投影を有する基板テーブルの第1部分と、
第1部分と第2部分との間に封止を創出するために、突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する基板テーブルの第2部分とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において基板テーブルに添着され、他端において基板テーブル上のクランプによって取外し式に定位置に保持される封止突出部とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
基板テーブルの上に配置されるセンサと、
センサと基板テーブルとの間に配置され、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される封止構造とを備える、リソグラフィ装置が提供される。
基板テーブルの第1部分と第2部分との間に封止を形成するように、基板テーブルの第1部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して可撓性突出部の端部をクランプするステップと、
基板テーブルの上に保持されている基板の上に放射のパターン形成ビームを投影することとを備える、デバイス製造方法が提供される。
放射ビームをセンサ上に投影することを備えるデバイス製造方法が提供され、封止構造が、センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、封止構造が、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される。
放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成される照明システム(照明装置)ILと、
パターニング・デバイス(例えば、マスク)MAを保持するように構築され、あるパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に配置するように構成される第1位置決め装置PMに接続される支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコーティング基板)Wを保持するように構築され、あるパラメータに従って基板を正確に配置するように構成される第2位置決め装置PWに接続される基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
放射ビームに付与されたパターンをパターニング・デバイスMAによって基板Wの標的部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)の上に投影するように構成される投影システム(例えば、屈折投影レンズ・システム)PSとを備える。
1.ステップ・モードにおいて、支持構造MT及び基板テーブルWTは、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに付与されるパターン全体は、標的部分Cの上に一度に投影される(すなわち、単一静的露光)。次いで、基板テーブルWTは、異なる標的部分Cを露光させることができるように、X及び/又はY方向においてシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光において結像される標的部分Cのサイズを限定する。
2.走査モードにおいて、支持構造MT及び基板テーブルWTは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Cの上に投影される間、同期して走査される(すなわち、単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小)倍率及び像反転特性によって決定されることが可能である。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における標的部分の幅(非走査方向における)を限定し、一方、走査動きの長さは、標的部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3.他のモードにおいて、支持構造MTは、本質的に静止して維持されて、プログラム可能パターニング・デバイスを保持し、基板テーブルWTは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Cの上に投影される間、移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス放射線源が使用され、プログラム可能パターニング・デバイスは、基板テーブルWTの各移動後、又は走査中の連続放射パルス間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で記述されたタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能パターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射ビーム
MT 支持構造(マスク・テーブル)
MA パターニング・デバイス(マスク)
PM 第1位置決め装置
WT 基板テーブル
W 基板
PW 第2位置決め装置
PS 投影システム
C 標的部分
SO 放射線源
BD ビーム送達システム
AD 調節装置
IN 積分器
CO コンデンサ
IF 位置センサ
M1、M2 パターニング・デバイス・アライメント・マーク
P1、P2 基板アライメント・マーク
MB 基板テーブル本体
SS 基板サポート
IN 入り口
OUT 出口
10 リザーバ
12 液体閉込め構造
14 出口
15 入り口
85 低圧入り口
100 カバー・プレート
140 低圧入り口
200 封止突出部
210 非可撓性部分
211 末端
212 分離力部材
220 接着剤
310 透過増センサ
320 集積レンズ干渉計
330 スポット・センサ
400 封止構造
410、420 接着剤のビード
500 狭窄、ギャップ
Claims (10)
- 基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板テーブルの上に配置されるセンサと、
前記センサと前記基板テーブルとの間に配置され、一端において前記センサに接着剤によって接着され、他端において前記基板テーブルに接着剤によって接着される封止構造と、
前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されたカバープレートとを備え、
前記カバープレートには、前記接着剤を放射ビームの照射から保護するための突出部が設けられているリソグラフィ装置。 - 前記センサの縁及び前記基板テーブルの縁は、前記基板テーブルの上から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記基板テーブルの縁が前記カバープレートにおけるオリフィスの縁である、請求項2に記載の装置。
- 前記封止構造が前記センサのステップにある、請求項3に記載の装置。
- 前記封止構造が前記センサのほぼ中立軸において前記センサに接着される、請求項1に記載の装置。
- 投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システムと、を更に備える、請求項1に記載の装置。
- 放射ビームをセンサ上に投影するステップであって、封止構造が、前記センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、前記封止構造が、一端において接着剤によって前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着剤によって接着されるステップと、
前記基板テーブルの上面の一部を覆うようにカバープレートを設けるステップとを備え、
前記カバープレートには、前記接着剤を前記放射ビームの照射から保護するための突出部が設けられている、デバイス製造方法。 - 前記センサの縁及び前記基板テーブルの縁が、前記基板テーブルの上部から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項7に記載の方法。
- 前記封止構造が、ほぼ前記センサの中立軸において前記センサに接着される、請求項7に記載の方法。
- 液体により前記放射ビームを前記センサ上に投影するステップを備える、請求項7に記載の方法。
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