JP2010103549A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板テーブルは基板テーブル本体MBの上面に配置されるカバープレート100を備え、カバープレート100は平坦で連続的な上面を有するので局所領域タイプの液体供給システムに適用できる。カバープレート100の上面は基板Wの上面とほぼ同一面であり、基板サポートSSと基板テーブル本体MBとの間の凹部の中に液体が進入するのを低減する、又は防止するために、封止突出部200を設置することが可能である。封止突出部200はカバープレート100の底部内縁と基板サポートSSの上面との間を接続する。
【選択図】図7
Description
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性投影を有する基板テーブルの第1部分と、
第1部分と第2部分との間に封止を創出するために、突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する基板テーブルの第2部分とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において基板テーブルに添着され、他端において基板テーブル上のクランプによって取外し式に定位置に保持される封止突出部とを備える、リソグラフィ投影装置が提供される。
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
基板テーブルの上に配置されるセンサと、
センサと基板テーブルとの間に配置され、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される封止構造とを備える、リソグラフィ装置が提供される。
基板テーブルの第1部分と第2部分との間に封止を形成するように、基板テーブルの第1部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して可撓性突出部の端部をクランプするステップと、
基板テーブルの上に保持されている基板の上に放射のパターン形成ビームを投影することとを備える、デバイス製造方法が提供される。
放射ビームをセンサ上に投影することを備えるデバイス製造方法が提供され、封止構造が、センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、封止構造が、一端においてセンサに接着され、他端において基板テーブルに接着される。
放射ビームB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調整するように構成される照明システム(照明装置)ILと、
パターニング・デバイス(例えば、マスク)MAを保持するように構築され、あるパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に配置するように構成される第1位置決め装置PMに接続される支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコーティング基板)Wを保持するように構築され、あるパラメータに従って基板を正確に配置するように構成される第2位置決め装置PWに接続される基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
放射ビームに付与されたパターンをパターニング・デバイスMAによって基板Wの標的部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)の上に投影するように構成される投影システム(例えば、屈折投影レンズ・システム)PSとを備える。
1.ステップ・モードにおいて、支持構造MT及び基板テーブルWTは、本質的に静止して維持され、一方、放射ビームに付与されるパターン全体は、標的部分Cの上に一度に投影される(すなわち、単一静的露光)。次いで、基板テーブルWTは、異なる標的部分Cを露光させることができるように、X及び/又はY方向においてシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光において結像される標的部分Cのサイズを限定する。
2.走査モードにおいて、支持構造MT及び基板テーブルWTは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Cの上に投影される間、同期して走査される(すなわち、単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小)倍率及び像反転特性によって決定されることが可能である。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における標的部分の幅(非走査方向における)を限定し、一方、走査動きの長さは、標的部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3.他のモードにおいて、支持構造MTは、本質的に静止して維持されて、プログラム可能パターニング・デバイスを保持し、基板テーブルWTは、放射ビームに付与されるパターンが標的部分Cの上に投影される間、移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス放射線源が使用され、プログラム可能パターニング・デバイスは、基板テーブルWTの各移動後、又は走査中の連続放射パルス間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で記述されたタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能パターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射ビーム
MT 支持構造(マスク・テーブル)
MA パターニング・デバイス(マスク)
PM 第1位置決め装置
WT 基板テーブル
W 基板
PW 第2位置決め装置
PS 投影システム
C 標的部分
SO 放射線源
BD ビーム送達システム
AD 調節装置
IN 積分器
CO コンデンサ
IF 位置センサ
M1、M2 パターニング・デバイス・アライメント・マーク
P1、P2 基板アライメント・マーク
MB 基板テーブル本体
SS 基板サポート
IN 入り口
OUT 出口
10 リザーバ
12 液体閉込め構造
14 出口
15 入り口
85 低圧入り口
100 カバー・プレート
140 低圧入り口
200 封止突出部
210 非可撓性部分
211 末端
212 分離力部材
220 接着剤
310 透過増センサ
320 集積レンズ干渉計
330 スポット・センサ
400 封止構造
410、420 接着剤のビード
500 狭窄、ギャップ
Claims (34)
- 基板を保持するように構成される基板テーブルと、
添着された可撓性突出部を有する前記基板テーブルの第1部分と、
前記第1部分と第2部分との間に封止を創出するために前記突出部の自由端部を引き付けて保持するように構成されるクランプ・デバイスを有する、前記基板テーブルの第2部分とを備えるリソグラフィ投影装置。 - 前記クランプ・デバイスが低圧入り口を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記可撓性突出部が前記自由端部に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記実質的に非可撓性の部分が前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項3に記載の装置。
- 前記可撓性部分が前記第1部分に接着される、請求項1に記載の装置。
- 前記第1部分が前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートである、請求項1に記載の装置。
- 前記第2部分が前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項1に記載の装置。
- 前記可撓性部分が前記第2部分を囲み、前記第1部分が、それを介して前記第2部分にアクセスすることができるオリフィスを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記可撓性突出部が、前記装置の放射による損傷に対して実質的に抵抗力がある材料で作成される、請求項1に記載の装置。
- 前記第1部分が第1部分突出部を備え、前記可撓性部分及び前記第1部分突出部は、使用時に前記第1部分突出部が前記装置の放射から前記可撓性部分をほぼ遮蔽するように、構成される、請求項1に記載の装置。
- パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項1に記載の装置。 - 基板を保持するように構成される基板テーブルと、
一端において前記基板テーブルに添着され、他端において前記基板テーブル上のクランプによって定位置に取外し式に保持される封止突出部、とを備えるリソグラフィ投影装置。 - 前記クランプが低圧入り口を備える、請求項12に記載の装置。
- 前記封止突出部が可撓性であり、前記封止突出部が前記封止突出部の他端に近接する実質的に非可撓性の部分を備える、請求項12に記載の装置。
- パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システム、とを更に備える、請求項12に記載の装置。 - 基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板テーブルの上に配置されるセンサと、
前記センサと前記基板テーブルとの間に配置され、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着される封止構造と、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記封止構造より上に配置される低圧入り口ポートを備える、請求項16に記載の装置。
- 前記センサの縁及び前記基板テーブル部の縁は、前記基板テーブルの上から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項16に記載の装置。
- 前記基板テーブルの上面の一部を覆うように構成されるカバー・プレートを更に備え、前記基板テーブルの縁が前記カバー・プレートにおけるオリフィスの縁である、請求項18に記載の装置。
- 前記封止構造が前記センサのステップにある、請求項19に記載の装置。
- 前記封止構造が前記センサのほぼ中立軸においてセンサに接着される、請求項16に記載の装置。
- パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成される液体供給システムと、を更に備える、請求項16に記載の装置。 - 基板テーブルの第1部分上に配置されるクランプ・デバイスを使用して、前記基板テーブルの前記第1部分と第2部分との間で封止を形成するために、可撓性突出部の端部をクランプすることと、
放射のパターン形成されたビームを前記基板テーブルの上に保持される基板の上に投影することと、を備える、デバイス製造方法。 - 前記クランプすることが低圧入り口を使用して実施される、請求項23に記載の方法。
- 前記可撓性突出部が、前記可撓性突出部の端部に近接してほぼ非可撓性の部分を備える、請求項23に記載の方法。
- 前記可撓性突出部が前記第1部分に接着される、請求項23に記載の方法。
- 前記第2部分が、前記基板テーブル上で前記基板を支持するように構成される基板サポートである、請求項23に記載の方法。
- 第1分部突出部を使用して、前記パターン形成放射ビームの放射から前記可撓性突出部をほぼ遮蔽することを更に備える、請求項23に記載の方法。
- 液体により前記パターン形成放射ビームを前記基板の標的部分上に投影することを備える、請求項23に記載の方法。
- 放射ビームをセンサ上に投影するステップであって、封止構造が、前記センサと、基板を保持するように構成される基板テーブルとの間に配置され、前記封止構造が、一端において前記センサに接着され、他端において前記基板テーブルに接着されるステップを備えるデバイス製造方法。
- 前記封止構造の上方に配置される低圧入り口ポートを使用して、液体を排出することを備える、請求項30に記載の方法。
- 前記センサの縁及び前記基板テーブルの縁が、前記基板テーブルの上部から前記封止構造までの経路が蛇行性であるように、前記封止構造より上に構成される相補インタロック・ステップを有する、請求項30に記載の方法。
- 前記封止構造が、ほぼ前記センサの中立軸において前記センサに接着される、請求項30に記載の方法。
- 液体により前記ビームを前記センサ上に投影するステップを備える、請求項30に記載の方法。
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