JP4587865B2 - 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
この組成物は可撓性に優れFPCへの適用が十分可能であるが、無電解金メッキ耐性については更なる性能の向上が望まれている。
CH2=CH−COO−R―NCO (1)
(式中、Rは炭素数1〜30の炭化水素基を表す。)
で示されるイソシアネート化合物(a−1)とポリヒドロキシ化合物(a−2)との反応産物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
(I)ポリエステルポリオール化合物、
(II)ポリカーボネートポリオール化合物、
(III)ポリアルキレンオキサイド化合物、
(IV)ポリウレタンポリオール化合物、及び
(V)ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独又は共重合体、
からなる群から選ばれる1種以上の化合物である、前記(1)に記載の感光性樹脂組成物。
CH2=CH−COO−R―NCO (1)
(式中、Rは炭素数1〜30の炭化水素基を表す。)
で示されるイソシアネート化合物(a−1)とポリヒドロキシ化合物(a−2)との反応物であるウレタンアクリレート化合物(A)を含有することを特徴とする。本発明において(A)の代わりにその他のウレタンアクリレートを用いた場合、又は(A)のアクリロイル基をメタクリロイル基とした場合には、無電解金メッキ耐性の向上はみられない。
本発明で使用されるポリエステルポリオール化合物は、1分子中に2以上のヒドロキシル基と1以上のエステル結合を有する化合物であり、多価アルコールと多塩基酸のエステルから得られるポリエステル系ポリオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリブチロラクトンジオール等のポリラクトン系ジオールが挙げられる。これらとして、カルボキシル基が残存するように合成された化合物などを使用することもできる。
本発明で使用されるポリカーボネートポリオールは、1分子中に2以上のヒドロキシル基および1以上のカーボネート結合を有する化合物であり、下記一般式(2):
HO−(R1−O−COO)n−(R2−O−COO)m−R3−OH (2)
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、ヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を有していてもよい炭素数2〜30の直鎖状、分岐状または環状炭化水素基を表し、mおよびnは、それぞれ独立に、0又は1〜100の整数を表し、mとnの合計は1以上である。)で示される化合物が好ましい。
本発明で使用されるポリアルキレンオキサイドは、アルキレングリコールが脱水して2以上縮合した構造を有する化合物であり、公知のものが使用できる。これらは、アルキレングリコールの縮合又はアルキレンオキサイドの開環重合等により製造される。アルキレングリコールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどが例示される。また、アルキレンオキサイドとしてはエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル等が例示される。ポリアルキレンオキサイドとしてはポリエチレングリコール、ポルプロピレングリコール、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド共重合体、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等が挙げられる。
本発明で使用されるポリウレタンポリオール化合物は、1分子中に2以上のヒドロキシル基と1以上のウレタン結合を有するものである。これらは、ポリイソシアネートとポリオールを任意の方法で反応させることにより得られる。この反応の際、イソシアネート化合物(a−1)を同時に仕込んで、本発明のウレタンアクリレート化合物(A)を製造してもよい。ポリイソシアナートとしては公知の化合物を使用することができ、具体的に2,4−トルエンジイソシアナート、2,6−トルエンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、ジフェニルメチレンジイソシアナート、(o、m又はp)−キシレンジイソシアナート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアナート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレレンジイソシアナートおよび1,5−ナフタレンジイソシアナート等のジイソシナートが挙げられる。これらのポリイソシアナートは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの1種以上を任意の方法により重合させて得られる重合体である。ここで使用されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリルレート、トリメチロールプロパン−酸化アルキレン付加物−モノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキサノイルオキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのうち、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。これらのヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリエステルポリオールとしてポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業株式会社製、PLACCEL212、分子量1,250)625g(0.5mol)及び2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート142g(1.0mol)、p−メトキシフェノール及びジ−t−ブチル−ヒドロキシトルエンを各々1.0gずつ投入した。攪拌しながら60℃まで加熱した後、加熱を停止してジブチル錫ジラウレート0.2gを添加した。反応容器内の温度が低下し始めたら再度加熱を始め、80℃で攪拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアナート基の吸収スペクトル(2,280cm-1)が消失したことを確認して反応を終了し、粘稠液体のウレタンアクリレート化合物を得た。得られたウレタンアクリレート(UA−1)の平均分子量は1,600であった。
ポリカプロラクトンジオールの代わりにポリカーボネートジオール(ダイセル化学(株)製商品名プラクセルCD210PL、平均分子量1,000)500g(0.5mol)を使用した以外は製造例1と同様にして合成した。得られたウレタンアクリレート(UA−2)の数平均分子量は1,300であった。
ポリカプロラクトンジオールの代わりにポリテトラメチレングリコール(保土ヶ谷化学工業社製、PTMG−850、分子量850)425g(0.5mol)を使用した以外は製造例1と同様にして合成した。得られたウレタンアクリレート(UA−3)の数平均分子量は1,200であった。
ポリテトラメチレングリコール(保土ヶ谷化学工業社製、PTMG−850、分子量850)255g(=0.3mol)、ジメチロールプロピオン酸67g(=0.5mol)、イソホロンジイソシアナート133g(=0.6mol)、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート56.8g(0.4mol)、p−メトキシフェノール及びジ−t−ブチル−ヒドロキシトルエンを各々0.1gずつ投入した。攪拌しながら60℃まで加熱した後、加熱を停止してジブチル錫ジラウレート0.1gを添加した。反応容器内の温度が低下し始めたら再度加熱を始め、80℃で攪拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアナート基の吸収スペクトル(2,280cm-1)が消失したことを確認して反応を終了し、粘稠液体のウレタンアクリレート化合物を得た。得られたウレタンアクリレート(UA−4)の数平均分子量は22,000、酸価は46mgKOH/gであった。
ポリカーボネートジオール(ダイセル化学(株)製商品名プラクセルCD210PL、平均分子量1,000)1000g(1mol)、ジメチロールプロピオン酸938g(7mol)、ポリイソシアナートとしてイソホロンジイソシアナート1,332g(6mol)及び2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート142g(1.0mol)を各々使用した以外は製造例1と同様にして合成した。得られたウレタンアクリレート(UA−5)の数平均分子量は16,000、酸価は120mgKOH/gであった。
滴下漏斗、温度計、冷却管、撹拌機を付した4つ口フラスコにメタクリル酸12.0重量部、メチルメタクリレート14.0重量部、ブチルメタクリレート43.0重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート6.0重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート225.0重量部を仕込み、1時間4つ口フラスコ内を窒素置換した。さらにオイルバスで90℃まで加温した後、メタクリル酸12.0重量部、メチルメタクリレート14.0重量部、ブチルメタクリレート43.0重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート6.0重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート225.0重量部、アゾビスイソブチロニトリル3.2重量部の混合液を1時間かけて滴下した。3時間重合を行った後、アゾビスイソブチロニトリル1.0重量部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート15.0重量部の混合液を加え、さらに100℃に昇温して1.5時間重合を行った後放冷した。
ポリテトラメチレングリコール(保土谷化学工業社製PTG−850SN、分子量850)850g(=1mol)、ジメチロールプロピオン酸938g(=7mol)、イソホロンジイソシアナート1,998g(=9mol)を投入した。攪拌しながら60℃まで加熱して停止し、ジブチル錫ジラウレート1.4gを添加した。反応容器内の温度が低下し始めたら再度加熱して80℃にし、75〜85℃に保ちながら攪拌を続け、残存NCOの濃度が理論値になったところで反応を停止させウレタンオリゴマーを合成した。さらにp−メトキシフェノールおよびジ−t−ブチル−ヒドロキシトルエンを各々0.9gずつ反応容器に導入してから、2−ヒドロキシエチルアクリレート238g(=2.05mol)を加え、反応を再開した。赤外線吸収スペクトルでイソシアナート基の吸収スペクトル(2,280cm-1)が消失したことを確認して反応を終了し、粘稠液体のウレタンアクリレート化合物を得た。得られたウレタンアクリレート(UA−7)の平均分子量は16,000、酸価は90mgKOH/gであった。
製造例1において、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナートの代わりに同一モル数の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアナートを使用した以外は同様に製造しウレタンアクリレート(UA−8)を得た。
以下の表1に示す配合割合(質量部)で、上記のように製造したウレタンアクリレート化合物(A)、エチレン性不飽和基を有する化合物(B)、熱硬化性樹脂(C)、光重合開始剤(D)、及び熱重合触媒(E)を混合して、組成物を調製した。熱硬化性樹脂(C)としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂EPICON 860(大日本インキ化学工業株式会社製)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂EPICON N660(大日本インキ化学工業株式会社製)、及びビフェニル型エポキシ樹脂YL6121H(油化シェルエポキシ株式会社製)を使用した。光重合開始剤(D)としては2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド TPO(BASF社製)、4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン EAB−F(保土谷化学工業株式会社製)を使用した。熱重合触媒(E)としては、メラミン PC−1(日産化学工業株式会社製)を使用した。
表1に示す配合割合で調製した感光性組成物に、メチルセロソルブアセテートを添加して粘度5,000mPa・sとしたものを、厚さ23μmのポリエチレンテレフタレート製フィルム上にドクターブレードを使用して塗工し、80℃、5分で乾燥して感光層を形成した。その後、この感光層上に30μmポリエチレンフィルムを貼合して、カバーフィルムを有する感光性ドライフィルムを製造した。乾燥後の感光層の膜厚は30±1μmであった。
厚さ35μmの銅箔を厚さ50μmのポリイミドフィルムの片面に積層したプリント基板(宇部興産株式会社製ユピセル(登録商標)Nを1%硫酸水溶液で洗浄し、水洗後、空気流で乾燥したもの。)を60℃に加温した。ついで上記で製造した感光性ドライフィルムのカバーフィルムを剥がして感光層を70℃に加熱したものを、加圧ロールを具備したラミネーターで前記プリント基板に貼合した。
上記で得られた各積層物試験片を、メタルハライドランプを有する露光機〔オーク(株)製〕HMW−680GWにより、4cm×6cmの範囲に1cm×1cmの正方形を有するネガパターンを用いて500mJ/cm2で露光した。次に、30℃で1質量%炭酸ナトリウム水溶液を60秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去し現像後、150℃、30分で加熱処理して、1cm×1cmの正方形の銅箔が露出した銅張り積層板を得た。
上記で得た銅張り積層板を用いて下記の工程のように無電解金メッキを行ない、その試験片について外観の変化及びセロテープ(登録商標)を用いたピーリング試験を行ないレジストの剥離状態を判定した。結果を上記表1中に示す。
B…外観の変化はないが、レジストにわずかに剥れがある。
C…レジストの浮きが見られ、レジストと銅箔の間へのメッキ潜りが認められ、ピーリング試験でレジストの剥れが大きい。
脱脂:試験片を30℃の酸性脱脂液((株)日本マクダーミッド製、Metex L−5Bの20vol%水溶液)に3分間、浸漬。
水洗:流水中に試験片を浸漬、3分間。
ソフトエッチ:14.3wt%、過硫酸アンモン水溶液に室温で試験片を1分間、浸漬。
水洗:流水中に試験片を浸漬、3分間。
水洗:流水中に試験片を浸漬、30秒〜1分間。
触媒付与:試験片を30℃の触媒液((株)メルテックス製、メタルプレートアクチベーター350の10vol%水溶液)に7分間、浸漬。
水洗:流水中に試験片を浸漬、3分間。
酸浸漬:10vol%硫酸水溶液に室温で試験片を1分間、浸漬。
水洗:流水中に試験片を浸漬、30秒〜1分間。
水洗:流水中に試験片を浸漬、3分間。
湯洗:60℃の温水に試験片を浸漬、3分間十分に水洗後、水を良くきり乾燥し無電解金メッキした試験片を得る。
Claims (17)
- ウレタンアクリレート化合物(A)と当該ウレタンアクリレート化合物(A)を除くエチレン性不飽和基を有する化合物(B)とを含む光硬化成分と、熱硬化性樹脂(C)と、光重合開始剤(D)と、熱重合触媒(E)とを含有し、当該ウレタンアクリレート化合物(A)が下記一般式(1):
CH2=CH−COO−R―NCO (1)
(式中、Rは炭素数1〜30の炭化水素基を表す。)
で示されるイソシアネート化合物(a−1)とポリヒドロキシ化合物(a−2)との反応産物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 前記ポリヒドロキシ化合物(a−2)が、下記(I)〜(V):
(I)ポリエステルポリオール化合物、
(II)ポリカーボネートポリオール化合物、
(III)ポリアルキレンオキサイド化合物、
(IV)ポリウレタンポリオール化合物、及び
(V)ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独又は共重合体、
からなる群から選ばれる1種以上の化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記ウレタンアクリレート化合物(A)が、カルボキシル基を有するものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記ウレタンアクリレート化合物(A)が、1,000〜40,000の数平均分子量、かつ、5〜150mgKOH/gの酸価を有することを特徴とする、請求項3に記載の感光性樹脂組成物。
- 有機溶媒をさらに含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物の25℃での粘度が500〜500,000mPa・sである、請求項5に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記熱硬化性樹脂(C)がエポキシ樹脂である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物をレジストとして使用する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物をソルダーレジストとして使用することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物から形成された感光層を支持体上に有するドライフィルムレジスト。
- 前記支持体がポリエステルフィルムである、請求項10に記載のドライフィルムレジスト。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して乾燥する感光層形成工程を有するドライフィルムレジストの製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
- 請求項14に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。
- フレキシブルプリント配線基板である、請求項15に記載のプリント配線基板。
- 請求項10又は11に記載のドライフィルムレジストの感光層と基板とを貼合する貼合工程と、感光層を露光する露光工程と、露光工程後の現像工程と、感光層を熱硬化させる熱硬化工程とを有するプリント配線基板の製造方法。
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