JP4553124B2 - Vacuum deposition method and EL display panel - Google Patents
Vacuum deposition method and EL display panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP4553124B2 JP4553124B2 JP2004364484A JP2004364484A JP4553124B2 JP 4553124 B2 JP4553124 B2 JP 4553124B2 JP 2004364484 A JP2004364484 A JP 2004364484A JP 2004364484 A JP2004364484 A JP 2004364484A JP 4553124 B2 JP4553124 B2 JP 4553124B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent substrate
- mask plate
- alignment
- luminescent dye
- brought
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 158
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 18
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Description
本発明は、透明基板の表面に真空蒸着によって所定のパターンの蒸着膜を形成するための真空蒸着方法及びＥＬディスプレイ用パネルに関するものである。 The present invention relates to a vacuum deposition method and an EL display panel for forming a deposition film having a predetermined pattern on a surface of a transparent substrate by vacuum deposition.
近年、液晶ディスプレイに代わるディスプレイとして、透明基板に有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子のドットパターンを形成したディスプレイ用パネル（以下、ＥＬパネルという）が開発され、実用化も始まっている。ＥＬパネルは、正孔と電子とが結合したときに生じるエネルギーにより発光するため、バックライトを必要とせず、液晶ディスプレイと比較して極めて薄いものにすることができるディスプレイである。その他にも、コントラストが高く、応答性が高いため、次世代のディスプレイとして実用化が進められている。 In recent years, a display panel (hereinafter referred to as an EL panel) in which a dot pattern of an organic EL (Electro Luminescence) element is formed on a transparent substrate has been developed as a display to replace a liquid crystal display, and its practical use has begun. An EL panel emits light by energy generated when holes and electrons are combined, and thus does not require a backlight and can be made extremely thin as compared with a liquid crystal display. In addition, since it has high contrast and high responsiveness, it is being put to practical use as a next-generation display.
ＥＬパネルは、ガラス基板等の透明基板上に正孔を注入するために陽極（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が形成され、さらに電子を注入するための陰極が形成される。これら陽極と陰極との間には、正孔と電子とが結合してエネルギーを放出することにより発光する発光層が設けられ、さらに発光層と陽極との間には、正孔注入率が低下することを防止するために正孔注入層が設けられ、また発光層と陰極との間には、電子注入率が低下することを防止するための電子注入層や発光層に入った正孔が電子注入層に侵入することを防止するための電子輸送層が設けられる。従って、ＥＬパネルは、陽極と陰極との間に上記各層が挟み込まれる構成を採ることにより構成される。そして、ＥＬパネルの各画素を駆動するために、例えば、陽極をＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路により２次元に形成し、画素ごとに応じて電圧を印加するか否かにより、その画素が発光させるか否かを制御することができる。 In the EL panel, an anode (IT: Indium Tin Oxide) is formed on a transparent substrate such as a glass substrate, and a cathode for injecting electrons is further formed. Between these anode and cathode, there is a light-emitting layer that emits light by combining holes and electrons and releasing energy, and the hole injection rate decreases between the light-emitting layer and the anode. A hole injection layer is provided between the light emitting layer and the cathode to prevent the electron injection rate and the holes entering the light emitting layer from being reduced. An electron transport layer is provided for preventing entry into the electron injection layer. Therefore, the EL panel is configured by adopting a configuration in which the above layers are sandwiched between an anode and a cathode. In order to drive each pixel of the EL panel, for example, an anode is formed two-dimensionally by a TFT (Thin Film Transistor) circuit, and the pixel emits light depending on whether or not a voltage is applied according to each pixel. It is possible to control whether or not.
ところで、ＥＬパネルは、透明基板上の発光層をＲ、Ｇ、Ｂの三原色のＥＬ発光層のドットパターンで形成する必要があるが、ＥＬパネルの高精度化、大型化に伴いドットパターンを透明基板に密に形成する必要があるため、パターンの微細化、透明基板への固着強度等の観点から、パターン形成は真空蒸着方式で行われる。真空蒸着は、内部を真空状態にしたチャンバの下部位置に蒸着源を配置し、またこの蒸着源の上部位置には蒸着される透明基板を着脱可能に保持するホルダ部材を設けたものであり、蒸着源としては、加熱手段を備えた坩堝に発光色素材料を入れ、この坩堝を加熱することにより、発光色素材料を蒸発させて、ホルダ部材に保持された基板の下面に発光色素材料を蒸着させるようにしたものである。 By the way, in the EL panel, it is necessary to form the light emitting layer on the transparent substrate with the dot pattern of the EL light emitting layer of the three primary colors of R, G, and B. Since it is necessary to form it densely on the substrate, the pattern formation is performed by a vacuum deposition method from the viewpoints of pattern miniaturization, adhesion strength to the transparent substrate, and the like. In vacuum deposition, a deposition source is disposed at a lower position of a chamber whose inside is in a vacuum state, and a holder member that detachably holds a transparent substrate to be deposited is provided at an upper position of the deposition source. As a vapor deposition source, a luminescent dye material is put in a crucible equipped with a heating means, and the crucible is heated to evaporate the luminescent dye material and deposit the luminescent dye material on the lower surface of the substrate held by the holder member. It is what I did.
ここで、真空チャンバ内において、ＥＬパネルを構成する透明基板に上記発光色素材料のドットパターンを形成するために、透明基板の外周部を保持した状態で、微細なピッチ間隔でパターンが形成されている金属製のマスク板を透明基板に密着した状態で三原色のうち１色の発光色素材料を蒸着した後に、画素ピッチ分ずらした後に、残りの２色の発光色素材料の蒸着が行われる。このとき、透明基板上に発光色素材料が蒸着される被処理面を下部に向けて配置し、この被処理面に対して極めて高い精度でアライメントされた後にマスク板を密着して発光色素材料の蒸着が行われることになる。 Here, in the vacuum chamber, in order to form the dot pattern of the luminescent dye material on the transparent substrate constituting the EL panel, the pattern is formed at a fine pitch interval while holding the outer peripheral portion of the transparent substrate. After depositing a luminescent dye material of one of the three primary colors with the metal mask plate in contact with the transparent substrate, the luminescent dye material of the remaining two colors is deposited after shifting by the pixel pitch. At this time, the surface to be processed on which the luminescent dye material is vapor-deposited is disposed on the transparent substrate, and the mask plate is brought into close contact with the surface to be processed after alignment with extremely high accuracy. Vapor deposition will be performed.
従って、真空チャンバ内で透明基板の外周部を固定的に保持した状態で、マスク板とのアライメントが行われるが、透明基板は主にガラス板からなるため、どのようにして透明基板の外周部を固定的に保持するかが問題となる。透明基板を固定的に保持する手段としては、一般的には真空吸着によるものが考えられるが、上記のように、透明基板に対する発光色素材料の蒸着は真空状態が維持されている真空チャンバ内において行われるため、真空吸着によって透明基板を固定的に保持することはできない。そこで、透明基板の外周部をクランプにより保持する方法が考えられるが、微細なドットパターンの蒸着が行われるため、透明基板は極めて安定した状態で保持しなくてはならない。そのため、透明基板の外周部をクランプ部材で強固に保持する必要があるが、あまり強く透明基板を保持すると、透明基板を損傷するおそれがある。特にガラス材料からなる透明基板は、摩擦力が極めて低いため、非常に強固に保持しなければ、安定した状態で保持することはできない。 Therefore, alignment with the mask plate is performed in a state where the outer peripheral portion of the transparent substrate is fixedly held in the vacuum chamber. However, since the transparent substrate is mainly made of a glass plate, how is the outer peripheral portion of the transparent substrate? It is a problem whether to hold the fixedly. As a means for holding the transparent substrate in a fixed manner, generally, vacuum adsorption may be considered. However, as described above, the luminescent dye material is deposited on the transparent substrate in a vacuum chamber in which a vacuum state is maintained. As a result, the transparent substrate cannot be fixedly held by vacuum suction. Therefore, a method of holding the outer peripheral portion of the transparent substrate with a clamp is conceivable. However, since a fine dot pattern is deposited, the transparent substrate must be held in an extremely stable state. Therefore, it is necessary to firmly hold the outer peripheral portion of the transparent substrate with the clamp member. However, if the transparent substrate is held too strongly, the transparent substrate may be damaged. In particular, a transparent substrate made of a glass material has a very low frictional force, and cannot be held in a stable state unless it is held very firmly.
そこで、透明基板を固定保持するための部材としてシートマグネットを用い、このシートマグネットの磁力で透明基板にマスク板を引き付けるようにして保持する構成としたものが、例えば特許文献１の開示されている。
上述した特許文献１の発明では、マスクホルダにマスク板を固定して、このマスク板と対向状態となるように透明基板を近接配置してアライメントを行い、両者を重ね合わせた後に、シートマグネットを透明基板に載置することにより、磁力により透明基板を介してマスク板をマグネットに保持させる構成を採っている。このとき、マスクホルダに固定されたマスク板の上部に配置された透明基板とマスク板とをアライメントする必要があるが、両者は近接配置した状態で、アライメントがされて重ね合わせが行われる。この、アライメント時には、透明基板の被処理面とマスク板とを非接触に保つために、透明基板はその外周部分がクランプ部材等により保持される。また、マスク板はマスクホルダに接着材等により接着して固定する等により、ある程度の張力を持たせた状態で平面形状を維持させて、アライメントを行うことができる。透明基板とマスク板とをアライメントするときには、両者に夫々形成されているアライメントマークをＣＣＤカメラ等のカメラで観察して微細なアライメントを実現するが、かかるアライメントマークは、透明基板及びマスク板の角隅部に形成される。
In the invention of
ところで、近年のＥＬパネルは省スペース化の要請から、そのＥＬパネルは薄型のものが使用されるようになってきている。これに伴い、ＥＬパネルを構成する透明基板も当然に薄型化の要請を充足する必要があり、従って透明基板の厚みは極めて薄いものが使用されることになる。上述したとおり、透明基板はその外周部分が保持されてマスク板とのアライメントが行われるため、大型且つ薄型の透明基板の中央部分は自重により撓むこととなる。 By the way, in recent years, EL panels have come to be used thin because of the demand for space saving. Along with this, the transparent substrate constituting the EL panel must naturally satisfy the demand for thinning, and therefore, the transparent substrate having a very thin thickness is used. As described above, since the outer peripheral portion of the transparent substrate is held and alignment with the mask plate is performed, the central portion of the large and thin transparent substrate is bent by its own weight.
かかる撓みが生じている透明基板とマスク板とをアライメントすると、透明基板とマスク板との間にある程度の間隔を設けなければ、撓み部分（透明基板の中央部分）において、透明基板とマスク板とが一部接触することになる。ここで、アライメントのために位置調整を行うときには、透明基板又はマスク板のうち何れか一方（主に、透明基板）が水平方向に移動することになるため、接触部分における透明基板及びマスク板に損傷が発生するおそれがある。特に、上記ＥＬパネルには、Ｒ、Ｇ、Ｂ等の層の複数の発光色素材料を順次透明基板に蒸着した後に、画素ピッチ分だけずらして次の色の蒸着を行うため、三原色のうち何れか１つ又は２つの発光色素材料が透明基板の被処理面に蒸着された状態で、上記接触の問題が生じると、既に蒸着済みの発光色素材料に色ボケの問題が発生し、ＥＬパネルとしては使用することができないものとなる。 When the transparent substrate and the mask plate in which such bending occurs are aligned, if there is no space between the transparent substrate and the mask plate, the transparent substrate and the mask plate at the bending portion (the central portion of the transparent substrate) Will be partly in contact. Here, when the position is adjusted for alignment, either the transparent substrate or the mask plate (mainly the transparent substrate) moves in the horizontal direction. Damage may occur. In particular, in the EL panel, a plurality of luminescent dye materials of layers such as R, G, and B are sequentially deposited on a transparent substrate, and then the next color is deposited by shifting by the pixel pitch. If one or two luminescent dye materials are vapor-deposited on the surface to be processed of the transparent substrate and the above contact problem occurs, a problem of color blur occurs in the already-deposited luminescent dye material, and an EL panel is obtained. Cannot be used.
勿論、透明基板とマスク板との間隔をできる限り離した状態でアライメントを行えば、上述した接触の問題が生じる可能性は低い。すなわち、透明基板の最大の撓み量以上に透明基板とマスク板とを離間させてアライメントを行えば、中央部分における接触の問題は生じることはない。しかし、透明基板の撓みを考慮して、透明基板とマスク板との間隔を離すと、精度の高いアライメントを行うことはできないという問題がある。 Of course, if the alignment is performed with the distance between the transparent substrate and the mask plate as far as possible, the possibility of the above-described contact problem is low. That is, if the alignment is performed by separating the transparent substrate and the mask plate beyond the maximum deflection amount of the transparent substrate, the problem of contact at the central portion does not occur. However, there is a problem that high-precision alignment cannot be performed if the distance between the transparent substrate and the mask plate is increased in consideration of the bending of the transparent substrate.
すなわち、高精度なアライメントを行うためには、分解能を高くするために、焦点深度が浅いカメラを使用してアライメントマークを認識することになる。このように、高い分解能でアライメントを行うためにはできる限り焦点深度の浅いものを使用する必要があり、従って透明基板とマスク板とを非常に近接した位置に配置してアライメントを行わなくてはならない。 That is, in order to perform high-precision alignment, an alignment mark is recognized using a camera with a shallow depth of focus in order to increase the resolution. As described above, in order to perform alignment with high resolution, it is necessary to use one having a shallow focal depth as much as possible. Therefore, alignment must be performed by placing the transparent substrate and the mask plate in very close positions. Don't be.
特に、ＥＬパネルは高密度化、高画素化の傾向にあり、アライメントの精度は極めて高いものが要求されているため、分解能が高いカメラを使用してアライメントを行いたい要請がある。従って、透明基板及びマスク板の両者はできる限り近接した状態でアライメントする必要がある。一方、上述したように、透明基板を薄型化、大型化すると、アライメント時における透明基板の一部（中央部分）とマスク板とが接触する問題は回避しなくてはならない。 In particular, EL panels tend to have higher densities and higher pixels, and are required to have extremely high alignment accuracy. Therefore, there is a demand to perform alignment using a camera with high resolution. Therefore, it is necessary to align both the transparent substrate and the mask plate as close as possible. On the other hand, as described above, when the transparent substrate is made thinner and larger, the problem of contact between a part of the transparent substrate (center portion) and the mask plate at the time of alignment must be avoided.
そこで、本発明は、薄型且つ大型の透明基板と、この透明基板の被処理面にドットパターンを形成するためのマスク板とを近接した状態でアライメントすることができ、同時に透明基板の撓みによりマスク板と接触することを防止することができる真空蒸着方法及びＥＬディスプレイ用パネルを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention can align a thin and large transparent substrate and a mask plate for forming a dot pattern on the surface to be processed of the transparent substrate in close proximity, and at the same time, the mask is formed by bending the transparent substrate. An object of the present invention is to provide a vacuum deposition method and an EL display panel that can prevent contact with a plate.
本発明の真空蒸着方法は、真空蒸着により透明基板の表面に所定のパターンとなるように蒸着膜を形成する真空蒸着方法であって、前記透明基板の前記蒸着膜が蒸着される被処理面を下側に向けて配置し、この被処理面と対向する側に前記所定パターンを有する磁性金属材の薄板からなるマスク板を配置して、前記透明基板の夫々の角隅部に複数箇所形成されているアライメントマークを基準として、前記マスク板と前記透明基板とをアライメントするために、前記透明基板を、その中央部分が最も前記マスク板から離間されるように、反自重方向に向けて僅かに凸形状に湾曲させた状態で、前記マスク板と前記透明基板とを近接させて、前記マスク板に形成されている前記アライメントマークと、このアライメントマークに対応する前記透明基板の前記アライメントマークとを同一のカメラ視野内で観察してアライメントすることを特徴とする。 The vacuum vapor deposition method of the present invention is a vacuum vapor deposition method for forming a vapor deposition film on a surface of a transparent substrate by vacuum vapor deposition so as to have a predetermined pattern, and a surface to be treated on which the vapor deposition film of the transparent substrate is vapor-deposited. A mask plate made of a thin plate of magnetic metal material having the predetermined pattern is arranged on the side facing the surface to be processed, and is formed at a plurality of positions at each corner of the transparent substrate. In order to align the mask plate and the transparent substrate on the basis of the alignment mark that is present, the transparent substrate is slightly moved in the anti-self-weight direction so that the central portion thereof is farthest from the mask plate. The mask plate and the transparent substrate are brought close to each other with the convex curve, and the alignment mark formed on the mask plate and the transparent mark corresponding to the alignment mark are formed. And said alignment mark of the substrate was observed with the same camera view, characterized in that alignment.
本発明の真空蒸着方法は、焦点深度が浅いカメラを用いて、高精度なアライメントを行うことができ、同時に透明基板とマスク板とが接触することによる色ボケ等の問題を回避することができる。 The vacuum deposition method of the present invention can perform high-precision alignment using a camera with a shallow depth of focus, and can simultaneously avoid problems such as color blur due to contact between the transparent substrate and the mask plate. .
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、発光色素材料が蒸着される透明基板１と、この透明基板１に所定のドットパターンを形成するためのマスク板２とがアライメントされるときの状態を示す説明図である。ここで、図示はしていないが、真空ポンプ等で真空引きされ、真空状態が維持されている真空チャンバ内で透明基板１の被処理面に対して発光色素材料が蒸着される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a state in which a
透明基板１は、大型且つ薄型の透明の基板であり、その一面（被処理面）に発光色素材料が蒸着されてＥＬパネルを形成する。この透明基板１は、その外周部分において、支持基台７に支持され回動自在なクランプ部材６と支持基台７とにより固定保持され、中空状態においてもその姿勢を維持する。そして、この透明基板１の角隅部には、図３に示されるように、マスク板２とアライメントをするためのアライメントマーク１Ｍが形成されている。
The
マスク板２には、図２（ａ）及び（ｂ）に示されるように、多数のドットパターンの打ち抜き部２Ｂが形成されており、真空蒸着時には、この打ち抜き部２Ｂのパターンが透明基板１に転写される。この場合、ドットパターンの転写精度を高めるためには、マスク板２は極めて薄い金属板から構成されることから、このマスク板２の外周部には保形性を持たせるために金属性の補強枠２Ａが取り付けられている。かかる補強枠２Ａが取り付けられているマスク板２は、その補強枠２Ａの一部（又は全部）に適宜の方法で固定される。このとき、マスク板２は張力を持って固着することにより、平面状態を維持することができる。また、マスク板２の角隅部には夫々、後述するアライメントマーク２Ｍが形成されているものとする。
As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the
カメラ５は、ＣＣＤカメラ等のカメラであり、マスク板２の角隅部に形成されているアライメントマーク２Ｍと透明基板１の角隅部に形成されている１Ｍとを基準としてアライメントを行うときに、両アライメントマークを撮影（主に、拡大撮影）する。従って、図１には２台のカメラ５が図示されているが、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍは通常４箇所に形成されるものであるため、４台のカメラ５が具備されているものとする。このカメラ５が撮影する両アライメントマークを基準として、透明基板１又はマスク板２の何れか一方を水平方向に微調整することにより、透明基板１とマスク板２とが正確な位置に重ね合わせられることになる。
The
ここで、カメラ５が、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍを撮影してアライメントが行われるが、このとき両アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍは、図３に間隔ＳＬで示したように、近接した間隔をもってアライメントされることが好ましい。すなわち、両アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍは高精度にアライメントがされる必要があるため、両アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍを極めて鮮明に撮影する必要がある。そのため、図３のＳＬで示されるように、焦点深度ができる限り浅いカメラ５を用いてアライメントを行うことが好ましい。従って、透明基板１及びマスク板２はできるだけ近接した距離に配置する必要がある。
Here, the
そこで、透明基板１とマスク板２とはできる限り近接した間隔に配置して、アライメントを行う必要があるが、大型且つ薄型の透明基板１の外周部分をクランプしたときには、その中央部分に撓みが生じるため、アライメントを行うときに撓み部分において透明基板１とマスク板２とが接触する。ここで、クランプ時に透明基板１に張力を作用させることが考えられるが、クランプ強度を高くして張力を作用させると、クランプ部材６にすべりが発生すると共に、ガラス材料からなる透明基板１に損傷が生じるおそれがある。従って、透明基板１のクランプ時には、必然的に中央部分に撓みが生じることになる。
Therefore, it is necessary to align the
そこで、透明基板１とマスク板２との接触を回避するために、透明基板１を僅かに反自重方向に湾曲させるように保持する。そのため、透明基板１を固定保持するための回動自在なクランプ部材６に透明基板１を支持させるときに、僅かに上方（反自重方向）に向けて傾斜するように癖付けをする。これによって、透明基板１に対して中央に向かって盛り上がるような力が作用して透明基板１は反自重方向に向けて傾斜するための力が作用するため、透明基板１は反自重方向に凸形状に湾曲する。そして、クランプ部材６、６により、反自重方向に向かう力の成分が抑制されるため、透明基板１は、図１に示されるように、僅かに反自重方向に向けて湾曲した姿勢を維持する。
Therefore, in order to avoid contact between the
この状態で、透明基板１の被処理面がマスク板２と対向するようにマスク板２を配置して、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍがカメラ５の被写界深度ＳＬとなる位置にまで、透明基板１とマスク板２とを近接させる。このとき、透明基板１は僅かに反自重方向に向けて湾曲した姿勢を維持した状態で近接されるため、中央部分において撓みによる透明基板１とマスク板２とが接触することはない。そして、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５で観察して、微細なアライメントを行った後に、透明基板１の被処理面とマスク板２とを当接させて、さらに透明基板１の被処理面とは反対面の上部に配置されているマグネット３（マスク板２を磁力により吸着保持する磁石部材）を下降して、透明基板１に当接させる。マグネット３は磁石部材であり、マスク板２は磁性金属材であるため、両者の間には透明基板１を介して磁力が作用し、マスク板２は透明基板１の被処理面に対して完全に密着する。これにより、透明基板１の外周部を強力に固定保持することなく、マスク板２の上部からの磁力により、強固にマスク板２を固定保持することができ、部分的な隙間等が生じることもない。
In this state, the
かかる状態において、真空チャンバ内の下部に配置されている発光色素材料の材料となる発光色素材料の複数層の何れか１つ（例えば、本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色の蒸着の場合について説明し、そのうち何れか一色）が収容されている坩堝を加熱することにより、発光色素材料が蒸発し、マスク板２のドットパターン状に透明基板１の被処理面に発光色素材料が蒸着される。このとき、マスク板２は透明基板１の被処理面に対して完全に密着しているため、発光色素材料の転写精度は良好なものになり、高精度な膜付けを行うことができる。
In such a state, any one of a plurality of layers of the luminescent dye material that becomes the material of the luminescent dye material disposed in the lower part of the vacuum chamber (for example, in this embodiment, deposition of the three primary colors of R, G, and B) When the crucible in which one of the colors is stored is heated, the luminescent dye material evaporates, and the luminescent dye material is deposited on the surface to be processed of the
次に、発光色素材料の残りの２色を透明基板１の被処理面に対して蒸着させるために、マスク板２を画素ピッチ分だけずらした状態で、再度別の色の発光色素材料の蒸着を行う必要がある。そこで、まず、マグネット３を退避させ、透明基板１とマスク板２との密着状態を解除する。そして、画素ピッチ分だけずらした状態でアライメントを行い、再度透明基板１とマスク板２とを当接させて、上部からマグネット３を下降させる。マグネット３とマスク板２との間には透明基板１を介して磁力が作用するため、マスク板２は透明基板１の被処理面に密着した状態になる。この状態で、発光色素材料を蒸着させることにより、三原色のうち２色の発光色素材料を蒸着することができる。さらに、残りの１色についても同様の処理を行うことにより、三原色全ての発光色素材料を蒸着することができる。
Next, in order to deposit the remaining two colors of the luminescent dye material on the surface to be processed of the
ところで、上述したように、透明基板１とマスク板２とは、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍを基準としてアライメントされた後に当接されるが、当接時に若干のずれが発生する可能性もある。従って、当接後に、再度アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５により観察して、両アライメントマークにずれが生じているか否かを検査する。ここで、ずれが生じていた場合は、アライメントミスであるとして、一旦、密着状態にある透明基板１とマスク板２とを離間させて、再度アライメントを行う必要がある。また、三原色のうち１色の発光色素材料の蒸着が終了した後には、他の色の発光色素材料の蒸着を行うために、再度アライメントを行う必要がある。このとき、マスク板２は、ドットパターンの転写精度を高めるために、その厚みが極めて薄い金属板からなることから、マスク板２は弾性力を有することになる。
Incidentally, as described above, the
図４において、アライメント位置が仮想線で示した位置であったとして、マスク板２から透明基板１を上方に向けて離間させるときに、同図の実線位置まで持ち上げても、マスク板２の一部が密着した状態で透明基板１と共に上昇することがある。すなわち、マスク板２は、その厚みが極めて薄いため透明基板１と当接されたときに、密着力が作用することになる。そして、同時にマスク板２は弾性力を有することにより、前記密着力の作用により、マスク板２の一部（主に、中央部分）が透明基板１に圧着された状態で、透明基板１と共に上昇し、大きく撓むことがある。そして、マスク板２の厚みが薄くなる程、大きな弾性力が作用するため、透明基板１をマスク板２から大きく離さなければ、両者を完全に離間させることができず、一部において接触状態が維持される。
In FIG. 4, assuming that the alignment position is a position indicated by a virtual line, even when the
そこで、マスク板２の弾性力に基づく撓みによる圧着量を超えて両者が完全に離間する位置にまで透明基板１を上昇させる。その後、再度下降を行う際には、アライメントマーク１Ｍ及び２Ｍがカメラ５の焦点深度内に収まる位置にまで、透明基板１とマスク板２とを近接させて、アライメントを行う。これにより、再度、水平方向に微調整を行うアライメントが行われたとしても、透明基板１とマスク板２とは完全に離間している状態でアライメントすることができるため、上記接触の問題は生じることなくアライメントされるため、透明基板１に既に付着している発光色素材料をこすることによる色ボケの問題は起こることはない。
Therefore, the
以上説明したように、透明基板１とマスク板２とをアライメントするときに、透明基板１を予め反自重方向に向けて僅かに凸形状に湾曲させることにより、角隅部に形成されているアライメントマーク１Ｍ及び２Ｍを近接した位置でアライメントしたとしても、透明基板１の中央部分が撓むことはなく、その結果、透明基板１とマスク板２とは接触することがない。従って、焦点深度を極めて浅くとったとしても、透明基板１及びマスク板２を非常に近接させることができ、両アライメントマークを極めて鮮明に撮影して、高精度にアライメントを行うことができると同時に、上記接触の問題が回避でき、色ボケが発生することはない。
As described above, when the
また、再度のアライメントを行うときに、透明基板１とマスク板２とを大きく離間させることにより、透明基板１とマスク板２との密着力及びマスク板２の曲げ量に基づく弾性力の作用によって生じる接触の問題を回避でき、色ボケが発生することはない。
Further, when the alignment is performed again, the
１ 透明基板 ２ マスク板
３ マグネット ５ カメラ
６ クランプ部材 ７ 支持基台
1
6 Clamping
Claims (5)
前記透明基板の前記蒸着膜が蒸着される被処理面を下側に向けて配置し、この被処理面と対向する側に前記所定パターンを有する磁性金属材の薄板からなるマスク板を配置して、前記透明基板の夫々の角隅部に複数箇所形成されているアライメントマークを基準として、前記マスク板と前記透明基板とをアライメントするために、
前記透明基板を、その中央部分が最も前記マスク板から離間されるように、反自重方向に向けて僅かに凸形状に湾曲させた状態で、前記マスク板と前記透明基板とを近接させて、前記マスク板に形成されている前記アライメントマークと、このアライメントマークに対応する前記透明基板の前記アライメントマークとを同一のカメラ視野内で観察してアライメントすることを特徴とする真空蒸着方法。 A vacuum deposition method for forming a deposited film so as to form a predetermined pattern on the surface of a transparent substrate by vacuum deposition,
A surface to be processed on which the vapor-deposited film of the transparent substrate is deposited is disposed facing downward, and a mask plate made of a thin magnetic metal material having the predetermined pattern is disposed on the side facing the surface to be processed. In order to align the mask plate and the transparent substrate with reference to alignment marks formed at a plurality of corners of each of the transparent substrates,
In the state where the transparent substrate is curved in a slightly convex shape toward the anti-self-weight direction so that the central portion is most separated from the mask plate, the mask plate and the transparent substrate are brought close to each other, A vacuum deposition method, wherein the alignment mark formed on the mask plate and the alignment mark of the transparent substrate corresponding to the alignment mark are observed and aligned in the same camera field of view.
前記マスク板を介して前記透明基板の前記被処理面に蒸着物質を付着させることを特徴とする請求項１記載の真空蒸着方法。 After the transparent substrate and the mask plate are aligned and brought into close contact with each other, a magnet member made of an electromagnet or a permanent magnet is brought into contact with the transparent substrate from the surface opposite to the surface to be processed of the transparent substrate, and the magnet Holding the mask plate by a magnetic force acting between a member and the mask plate;
The vacuum deposition method according to claim 1, wherein a deposition material is attached to the surface to be processed of the transparent substrate through the mask plate.
前記マスク板と前記透明基板とをアライメントした後に、前記マスク板と前記透明基板とを密着させ、前記磁石部材により前記マスク板が前記透明基板に吸着保持した状態で、前記三原色の発光色素材料のうち何れか１色の発光色素材料を蒸着した後に、前記マスク板を前記透明基板から離間して画素ピッチずらし、
前記マスク板と前記透明基板とをアライメントした後に、前記マスク板と前記透明基板とを密着させ、前記磁石部材により前記マスク板が前記透明基板に吸着保持した状態で、蒸着していない２色の発光色素材料のうち１色の発光色素材料を蒸着した後に、前記マスク板を前記透明基板から離間して画素ピッチずらし、
前記マスク板と前記透明基板とをアライメントした後に、前記マスク板と前記透明基板とを密着させ、前記磁石部材により前記マスク板が前記透明基板に吸着保持した状態で、蒸着していない１色の発光色素材料を蒸着して、
前記被処理面に三原色からなる発光層を形成することを特徴とする請求項４記載の真空蒸着方法。 The vapor deposition material adhering to the surface to be treated is a luminescent dye material of three primary colors of R, G, and B,
After aligning said transparent substrate and the mask plate is brought into close contact with said transparent substrate and the mask plate in a state in which the mask plate by the magnet member is held by suction on the transparent substrate, the luminescent dye material of the three primary colors out after depositing the one color luminescent dye material, and the pixel pitch Shifts apart the mask plate from the transparent substrate,
After aligning the mask plate and the transparent substrate, the mask plate and the transparent substrate are brought into close contact with each other, and the mask plate is attracted and held on the transparent substrate by the magnet member. After vapor-depositing a luminescent dye material of one color among the luminescent dye materials, the mask plate is separated from the transparent substrate and shifted by a pixel pitch,
After aligning the mask plate and the transparent substrate, the mask plate and the transparent substrate are brought into close contact with each other, and the mask plate is attracted and held on the transparent substrate by the magnet member. Evaporating the luminescent dye material,
Vacuum deposition process according to claim 4, wherein the that form a light emitting layer comprising a three primary colors to the treated surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004364484A JP4553124B2 (en) | 2004-12-16 | 2004-12-16 | Vacuum deposition method and EL display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004364484A JP4553124B2 (en) | 2004-12-16 | 2004-12-16 | Vacuum deposition method and EL display panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006172930A JP2006172930A (en) | 2006-06-29 |
| JP4553124B2 true JP4553124B2 (en) | 2010-09-29 |
Family
ID=36673442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004364484A Expired - Fee Related JP4553124B2 (en) | 2004-12-16 | 2004-12-16 | Vacuum deposition method and EL display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4553124B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140008567A (en) * | 2012-07-06 | 2014-01-22 | 주식회사 원익아이피에스 | Holding apparatus for deposition, deposition apparatus comprising the same, and mask-frame assembly for the same |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4510609B2 (en) * | 2004-12-21 | 2010-07-28 | 株式会社アルバック | Substrate and mask alignment method, organic thin film deposition method, and alignment apparatus |
| JP5623786B2 (en) | 2009-05-22 | 2014-11-12 | 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | Thin film deposition equipment |
| TWI472639B (en) | 2009-05-22 | 2015-02-11 | Samsung Display Co Ltd | Thin film deposition apparatus |
| US8882920B2 (en) | 2009-06-05 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| US8882921B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| KR101127575B1 (en) | 2009-08-10 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Apparatus for thin film deposition having a deposition blade |
| JP5328726B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | Thin film deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same |
| JP5677785B2 (en) | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | Thin film deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same |
| US8696815B2 (en) | 2009-09-01 | 2014-04-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
| KR101084184B1 (en) | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Apparatus for thin layer deposition |
| KR101174875B1 (en) | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition, method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR101193186B1 (en) | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition, method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR101156441B1 (en) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Apparatus for thin layer deposition |
| KR101202348B1 (en) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| US8894458B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
| KR101223723B1 (en) | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition, method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR101673017B1 (en) | 2010-07-30 | 2016-11-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| KR101723506B1 (en) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for organic layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| KR101738531B1 (en) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | Method for manufacturing of organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR20120045865A (en) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Apparatus for organic layer deposition |
| KR20120065789A (en) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Apparatus for organic layer deposition |
| KR101760897B1 (en) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition source and apparatus for organic layer deposition having the same |
| KR101840654B1 (en) | 2011-05-25 | 2018-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for organic layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| KR101852517B1 (en) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for organic layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| KR101857249B1 (en) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | Patterning slit sheet assembly, apparatus for organic layer deposition, method for manufacturing organic light emitting display apparatus and organic light emitting display apparatus |
| KR101826068B1 (en) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for thin layer deposition |
| KR102052069B1 (en) | 2012-11-09 | 2019-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for organic layer deposition, method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR101707278B1 (en) | 2013-02-25 | 2017-02-15 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | Pattern forming apparatus, pattern forming method, alignment apparatus and alignment method |
| KR102075525B1 (en) | 2013-03-20 | 2020-02-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition apparatus for organic layer, method for manufacturing organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method |
| KR102107104B1 (en) | 2013-06-17 | 2020-05-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for organic layer deposition, and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same |
| KR101520640B1 (en) * | 2013-12-23 | 2015-05-18 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | Apparatus for fixing a substrate |
| KR101844317B1 (en) | 2015-12-30 | 2018-04-03 | 주식회사 에스에프에이 | Apparatus and Method for aligning substrate |
| KR101833264B1 (en) | 2016-02-29 | 2018-02-28 | 주식회사 선익시스템 | Appratus for aligning substrate using electrostatic chuck and Appratus of deposition having the same |
| KR101853889B1 (en) * | 2016-02-29 | 2018-05-02 | 주식회사 선익시스템 | Method for aligning substrate using electrostatic chuck |
| KR102520693B1 (en) * | 2016-03-03 | 2023-04-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Deposition Apparatus |
| JP6843533B2 (en) | 2016-07-01 | 2021-03-17 | キヤノントッキ株式会社 | Film deposition equipment and control method of film deposition equipment |
| JP6309047B2 (en) | 2016-07-01 | 2018-04-11 | キヤノントッキ株式会社 | Substrate clamping apparatus, film forming apparatus and film forming method |
| KR101904671B1 (en) * | 2017-09-29 | 2018-10-04 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | Structure for supporting substrate, vacuum deposition apparatus including the same and deposition method |
| KR101893309B1 (en) * | 2017-10-31 | 2018-08-29 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | Alignment apparatus, alignment method, film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of electronic device |
| CN108624842B (en) * | 2018-05-23 | 2020-03-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask member, mask device, and vapor deposition device |
| JP7194006B2 (en) * | 2018-12-18 | 2022-12-21 | キヤノントッキ株式会社 | Substrate mounting method, film forming method, film forming apparatus, and organic EL panel manufacturing system |
| CN110158027A (en) * | 2019-05-17 | 2019-08-23 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Exposure mask panel assembly and its setting method and application method |
| WO2023084634A1 (en) * | 2021-11-10 | 2023-05-19 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | Vapor deposition device |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001290259A (en) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle for lithography and mitigating method of warp of pellicle film |
| JP2002105622A (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-10 | Sony Corp | Vapor deposition tool and vapor deposition method |
| JP2003017254A (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacturing method of electroluminescent display |
| JP2004176124A (en) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Ulvac Japan Ltd | Alignment apparatus, film deposition system, and alignment method |
| JP2004259598A (en) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | Vacuum evaporation method, vacuum evaporation device and el panel manufactured by this vacuum evaporation method |
| JP2005256094A (en) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Seiko Epson Corp | Film-forming apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4058149B2 (en) * | 1997-12-01 | 2008-03-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | Mask alignment method for vacuum deposition system |
-
2004
- 2004-12-16 JP JP2004364484A patent/JP4553124B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001290259A (en) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle for lithography and mitigating method of warp of pellicle film |
| JP2002105622A (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-10 | Sony Corp | Vapor deposition tool and vapor deposition method |
| JP2003017254A (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacturing method of electroluminescent display |
| JP2004176124A (en) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Ulvac Japan Ltd | Alignment apparatus, film deposition system, and alignment method |
| JP2004259598A (en) * | 2003-02-26 | 2004-09-16 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | Vacuum evaporation method, vacuum evaporation device and el panel manufactured by this vacuum evaporation method |
| JP2005256094A (en) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Seiko Epson Corp | Film-forming apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140008567A (en) * | 2012-07-06 | 2014-01-22 | 주식회사 원익아이피에스 | Holding apparatus for deposition, deposition apparatus comprising the same, and mask-frame assembly for the same |
| KR101897652B1 (en) * | 2012-07-06 | 2018-09-12 | 주식회사 원익아이피에스 | Holding apparatus for deposition, deposition apparatus comprising the same, and mask-frame assembly for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006172930A (en) | 2006-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4553124B2 (en) | Vacuum deposition method and EL display panel | |
| JP4971723B2 (en) | Manufacturing method of organic light emitting display device | |
| JP4773834B2 (en) | Mask film forming method and mask film forming apparatus | |
| US7396558B2 (en) | Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same | |
| US10581025B2 (en) | Deposition apparatus for organic light-emitting diodes | |
| JP5623598B2 (en) | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and manufacturing method of organic electroluminescence display apparatus | |
| TWI301904B (en) | Method of manufacturing a display by mask alignment | |
| TWI327175B (en) | ||
| TWI300168B (en) | Device for aligning substrate with mask and method using the same | |
| KR100712953B1 (en) | Substrate align device and align method using the same | |
| JP2008007857A (en) | Alignment device, alignment method, and manufacturing method of display device | |
| KR102630638B1 (en) | Mask assembly, apparatus and method for manufacturing a display apparatus | |
| KR20110128579A (en) | Thin layers deposition apparatus for manufacturing oled | |
| JP4609757B2 (en) | Substrate mounting method in film forming apparatus | |
| JP4616667B2 (en) | Mask structure, vapor deposition method using the same, and method for manufacturing organic light emitting device | |
| JP6407479B2 (en) | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and organic EL display device manufacturing method | |
| JP2020015946A (en) | Manufacturing apparatus of mask unit | |
| JP2008240088A (en) | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, electro-optical apparatus, and electronic apparatus | |
| KR102388719B1 (en) | Mask for thin film deposition, method for manufacturing thereof, and method for manufacturing a display apparatus using the same | |
| JP7202329B2 (en) | Alignment Apparatus, Film Forming Apparatus, Alignment Method, Electronic Device Manufacturing Method, Program and Storage Medium | |
| JP2008198500A (en) | Manufacturing method and apparatus of organic el display | |
| JP7113861B2 (en) | Mask mounting device, film forming device, mask mounting method, film forming method, electronic device manufacturing method | |
| JP2004152704A (en) | Manufacturing method of organic electroluminescent element | |
| JP2005163182A (en) | Mask frame combination, substrate using the same, and mask alignment method | |
| JP4478472B2 (en) | Organic thin film deposition method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060516 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070306 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100104 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100407 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100604 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100623 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100706 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |