JP4550484B2 - 薄膜トランジスタ表示板及びこれを含む多重ドメイン液晶表示装置 - Google Patents
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Description
が強く形成される。したがって、画素電極の縁に位置する液晶が側方向電場の影響を受けて配向が乱れる。これにより、テクスチャーや光漏れが発生して表示特性を低下させる。
本願第2発明は、第1発明において、前記第2信号線の前記屈曲部分は、互いに接続された1対の直線部を含み、前記直線部は前記第1信号線に対して実質的に-45度及び45度をなす、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第4発明は、第3発明において、前記画素電極の第1及び第2画素電極は、前記第2信号線に対して互いに反対に配置され、前記第1及び第2薄膜トランジスタは、前記第2信号線に対して互いに反対に配置される、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第5発明は、第4発明において、前記画素電極の第1及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含む、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第7発明は、第6発明において、前記連結部は、前記画素電極と同一層からなる、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第8発明は、第6発明において、前記連結部は、前記ゲート線と同一層からなる、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第10発明は、第1発明において、前記画素電極の少なくとも一つの縁辺は前記第2信号線に重畳している、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第12発明は、第11発明において、前記ギャップは、前記第2信号線の対応部分と重畳する、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第14発明は、第13発明において、前記第3信号線は、前記画素電極の前記第1又は第2画素電極の少なくとも一つの縁辺に隣接して配置される分枝をさらに含む、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第16発明は、第14発明において、前記第1画素電極の前記端部と、前記第2画素電極の前記端部とは、ギャップによって物理的に分離されており、前記ギャップは前記第2信号線の対応部分と平行に延在している、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第18発明は、第17発明において、前記画素電極の第1画素電極及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含み、前記分枝は前記連結部とは分離されている、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第20発明は、第19発明において、前記第3信号線の分枝は、前記画素電極と前記第2信号線との間に配置され、前記画素電極の縁辺と重畳する、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
少なくとも一部分が前記半導体層上に形成され、前記ソース電極と反対に配置される第1ドレイン電極と、前記半導体層上に形成される保護層と、前記第1ドレイン電極に接続される画素電極と、を含み、前記画素電極は第1及び第2画素電極を含んでおり、前記第1画素電極及び前記第2画素電極のそれぞれは前記データ線に対して平行に延在している端部を含み、前記第2画素電極の端部は、前記第1画素電極の前記端部と物理的に分離され、かつ隣接している、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第22発明は、第21発明において、前記データ線の前記屈曲部分は、互いに接続された1対の直線部を含み、前記直線部は前記ゲート線に対して実質的に-45度及び45度をなす、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第24発明は、第21発明において、前記画素電極の前記第2画素電極に接続された第2ドレイン電極をさらに含み、前記第1ドレイン電極は、前記画素電極の前記第1画素電極に接続される、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第25発明は、第24発明において、前記第1及び第2画素電極は、前記データ線に対して互いに反対に配置され、前記第1及び第2ドレイン電極は、前記データ線に対して互いに反対に配置される、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第27発明は、第25発明において、前記画素電極の第1及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含む、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第28発明は、第27発明において、前記連結部は、前記画素電極と同一層からなる、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第30発明は、第21発明において、前記データ線は前記画素電極の外側に、前記端部に隣接して配置される、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第33発明は、第32発明において、前記第1及び第2信号線と分離された第3信号線をさらに含み、前記第3信号線は画素電極と維持キャパシタを形成するように重畳し、前記第2信号線に平行に延在する分枝を含む、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第35発明は、第32発明において、前記液晶層の液晶分子は正の誘電率異方性を有しており、前記液晶分子の長軸は、実質的に前記第1及び第2絶縁基板の表面と平行であり、前記第1絶縁基板から第2絶縁基板にかけてツイストしている、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
本願第37発明は、第32発明において、前記ドメイン定義部材は、前記共通電極又は画素電極の切欠部である、薄膜トランジスタ表示板を提供する。
からなる第2層の二重層からなることができ、必要に応じて単一膜または二重膜以上からなることもできる。
(つまり、データ線171のうちの屈折部が占める比率は50%から90%の間)である。
る。
金属層をスパッタリングなどの方法で連続積層し、マスクを用いた第1の写真エッチング工程で乾式または湿式エッチングして、ゲート線121と維持電極配線131、133a、133bを形成する。
ても、データ線171を中心にして両側に第1及び第2画素電極191a、191bが位置して互いに補償する構造となるので、各データ線171と第1及び第2画素電極191a、191bとの間に寄生容量の偏差を最少化することができ、ショット(shot)間の境界部分でも画面明るさの差が発生することを防止できて、ステッチ不良を除去することができる。
り同様の作用効果を奏する。このように、4枚のマスク工程で製造することにより、製造工程を簡略化することができる。
れている切開部(図5中、斜線部)もドメイン分割手段として利用される。
維持電極134が配置されており、第3維持電極134には共通電極270に印加される共通電圧が伝達されて第1及び第2画素電極191a、191bの縁で形成されるフリンジフィールドを強化させる役目をする。通常、液晶分子を分割配向する時にフリンジフィールドを利用して安定的に制御するために、切開部の幅である第1画素電極191aと第2画素電極191bとの間の間隔が10μm以上であるのが好ましいが、第1画素電極191aと第2画素電極191bとの間に第3維持電極134を配置してフリンジフィールドを
強化することにより、第1画素電極191aと第2画素電極191bとの間の間隔を5μmの程度まで減らすことができる。したがって、画素の開口率を極大化することができる。
5が形成されている。維持電極線131a、131bは横方向(ゲート線方向)に延在して、第3維持電極のうちの一部134は後に形成されるデータ線171の両側に配置されており、残りの一部135は互いに隣接する画素のサブ画素(Pa、Pb)の間に配置されてい
る。
110 絶縁基板
121 ゲート線
123a、123b 第1及び第2ゲート電極
131 維持電極線
133a、133b 第1及び第2維持電極
140 ゲート絶縁膜
171 データ線
175a、175b 第1及び第2ドレーン電極
180 保護膜
191a、191b 画素電極
200 共通電極表示板
220 ブラックマトリックス
230 色フィルター
240 突起
270 共通電極
300 液晶層
Claims (37)
- 絶縁基板と、
前記絶縁基板上に形成されている第1信号線と、
前記絶縁基板上に形成され、前記第1信号線と交差する交差部分とこれに連結され、かつ屈曲されている屈曲部分とを含む第2信号線と、
前記第1及び第2信号線と連結されている第1薄膜トランジスタと、
前記第1薄膜トランジスタに接続されている画素電極と、
を含み、
前記画素電極は第1及び第2画素電極を含んでおり、前記第1画素電極及び前記第2画素電極のそれぞれは前記第2信号線に対して平行に延在している端部を含み、前記第2画素電極の前記端部は、前記第1画素電極の前記端部と物理的に分離され、かつ隣接している、薄膜トランジスタ表示板。 - 前記第2信号線の前記屈曲部分は、互いに接続された1対の直線部を含み、前記直線部は前記第1信号線に対して実質的に-45度及び45度をなす、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の第2画素電極に接続される第2薄膜トランジスタをさらに含み、
前記第1薄膜トランジスタは、前記画素電極の第1画素電極に接続される、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。 - 前記画素電極の第1及び第2画素電極は、前記第2信号線に対して互いに反対に配置され、前記第1及び第2薄膜トランジスタは、前記第2信号線に対して互いに反対に配置される、請求項3に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の第1及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含む、請求項4に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第2信号線の屈曲部分は、互いに連結されている一対の斜線部を有し、前記連結部は、前記一対の斜線部がつながる部分と重畳している、請求項5に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記連結部は、前記画素電極と同一層からなる、請求項6に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記連結部は、前記ゲート線と同一層からなる、請求項6に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記連結部は、前記第2信号線の前記交差部分に配置され、前記画素電極と同一層からなる、請求項5に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の少なくとも一つの縁辺は前記第2信号線に重畳している、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の第1画素電極の前記端部と、前記画素電極の第2画素電極の前記端部とは、物理的に所定のギャップを有して分離されており、前記ギャップは前記第2信号線の対応部分と平行に延在する、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ギャップは、前記第2信号線の対応部分と重畳する、請求項11に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第1及び第2信号線と分離された第3信号線をさらに含み、前記第3信号線は、前記画素電極の少なくとも一部及び前記画素電極に接続される第1薄膜トランジスタの一部のうち、少なくとも一つと重畳する部分を有する、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第3信号線は、前記画素電極の前記第1又は第2画素電極の少なくとも一つの縁辺に隣接して配置される分枝をさらに含む、請求項13に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の前記第1又は第2画素電極の少なくとも一つの縁辺は、前記第3信号線の分枝と重畳している、請求項14に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第1画素電極の前記端部と、前記第2画素電極の前記端部とは、ギャップによって物理的に分離されており、前記ギャップは前記第2信号線の対応部分と平行に延在している、請求項14に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ギャップは、前記第3信号線の分枝と重畳する、請求項16に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の第1画素電極及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含み、前記分枝は前記連結部とは分離されている、請求項17に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極及び前記第2信号線はギャップによって分離されており、前記ギャップは前記第2信号線と平行に延在する、請求項14に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第3信号線の分枝は、前記画素電極と前記第2信号線との間に配置され、前記画素電極の縁辺と重畳する、請求項19に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 絶縁基板と、
前記絶縁基板上に形成され、ゲート電極を含むゲート線と、
前記ゲート線上に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される半導体層と、
前記ゲート線と交差する交差部分と、前記交差部分に連結されている屈曲部分と、少なくとも一部分が前記半導体層上に形成されるソース電極と、を含むデータ線と、
少なくとも一部分が前記半導体層上に形成され、前記ソース電極と反対に配置される第1ドレイン電極と、
前記半導体層上に形成される保護層と、
前記第1ドレイン電極に接続される画素電極と、
を含み、
前記画素電極は第1及び第2画素電極を含んでおり、前記第1画素電極及び前記第2画素電極のそれぞれは前記データ線に対して平行に延在している端部を含み、前記第2画素電極の前記端部は、前記第1画素電極の前記端部と物理的に分離され、かつ隣接している、薄膜トランジスタ表示板。 - 前記データ線の前記屈曲部分は、互いに接続された1対の直線部を含み、前記直線部は前記ゲート線に対して実質的に-45度及び45度をなす、請求項21に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ゲート線及び前記データ線と分離された維持電極線をさらに含み、前記維持電極線は、前記ゲート線に実質的に平行であり、前記第1ドレイン電極に重畳される拡張領域を有している維持電極を含む、請求項21に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の前記第2画素電極に接続された第2ドレイン電極をさらに含み、前記第1ドレイン電極は、前記画素電極の前記第1画素電極に接続される、請求項21に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第1及び第2画素電極は、前記データ線に対して互いに反対に配置され、前記第1及び第2ドレイン電極は、前記データ線に対して互いに反対に配置される、請求項24に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ゲート線及び前記データ線と分離された維持電極線をさらに含み、前記維持電極線は、前記ゲート線に実質的に平行であり、前記画素電極の少なくとも1の前記第1及び第2画素電極の縁辺に重畳される維持電極を含む、請求項25に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記画素電極の第1及び第2画素電極を接続する連結部をさらに含む、請求項25に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記連結部は、前記画素電極と同一層からなる、請求項27に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記連結部は、前記ゲート線と同一層からなる、請求項27に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記データ線は前記画素電極の外側に、前記端部に隣接して配置される、請求項21に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記データ線の屈曲部分は、互いに連結されている一対の斜線部を含み、
前記保護層の下部に配置されたカラーフィルター層をさらに含み、前記カラーフィルター層は、前記一対の斜線部に平行にのびている部分を有する、請求項21に記載の薄膜トランジスタ表示板。 - 第1絶縁基板と、
前記第1絶縁基板上に形成されている第1信号線と、
前記絶縁基板上に形成され、前記第1信号線と交差する交差部分とこれに連結され、かつ屈曲されている屈曲部分とを含む第2信号線と、
前記第1及び第2信号線と連結されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに接続されている画素電極と、
前記第1絶縁基板に対向する第2絶縁基板と、
前記第2絶縁基板上に形成される共通電極と、
前記第1及び第2絶縁基板の間の液晶層と、
各ドメインが前記第2信号線の対応部分に平行な2つの主端部を有するように、液晶層を複数のドメインに分割するドメイン定義部材と、
を含み、
前記画素電極は第1及び第2画素電極を含んでおり、前記第1画素電極及び前記第2画素電極のそれぞれは前記第2信号線に対して平行に延在している端部を含み、前記第2画素電極の前記端部は、前記第1画素電極の前記端部と物理的に分離され、かつ隣接している、薄膜トランジスタ表示板。 - 前記第1及び第2信号線と分離された第3信号線をさらに含み、前記第3信号線は画素電極と維持キャパシタを形成するように重畳し、前記第2信号線に平行に延在する分枝を含む、請求項32に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記液晶層の液晶分子は負の誘電率異方性を有しており、前記液晶分子の長軸は、実質的に前記第1及び第2絶縁基板の表面と垂直をなしている、請求項32に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記液晶層の液晶分子は正の誘電率異方性を有しており、前記液晶分子の長軸は、実質的に前記第1及び第2絶縁基板の表面と平行であり、前記第1絶縁基板から第2絶縁基板にかけてツイストしている、請求項32に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ドメイン定義部材は、前記共通電極の突出部である、請求項32に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記ドメイン定義部材は、前記共通電極又は画素電極の切欠部である、請求項32に記載の薄膜トランジスタ表示板。
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