JP4510419B2 - ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
したがって、簡単な構成で、かつ高い加工精度およびスループットをもってデバイスを製造することができる。
さらに、本ステージ装置を露光装置に適用した場合には、簡便な構成で、オーバレイ精度や線幅精度を向上させ、露光処理の迅速化を図ることができる。
Claims (8)
- 構造体と、対象物を保持して移動する天板と、前記天板に固定されたマグネットを含む可動子とコイルと前記コイルを支持する部材とを含み前記構造体上に設けられた固定子とによって前記天板を駆動する駆動手段と、前記固定子とは別に前記構造体上に設けられ前記天板を移動方向に案内するガイド面を有し鉄を含む材料で構成されたガイド部と、前記天板に設けられ前記ガイド面に対して前記天板を非接触に支持するための軸受手段と、前記天板に設けられ前記天板と前記ガイド部との間に吸引力を発生させるための磁石と、前記ガイド部に設けられた前記ガイド部の温度を検出する温度センサと前記ガイド部を冷却する冷媒を流すための冷却管を有し前記温度センサの検出結果に基づいて前記冷媒の温度を制御することにより前記ガイド部の温度を一定に調整することで前記天板の温度変動を低減する温度調整手段とを具備することを特徴とするステージ装置。
- 前記温度調整手段は、前記ガイド部の異なる複数の部分を別個に温度調整するものであることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記温度調整手段は、前記天板の駆動パターンに応じて前記ガイド部の異なる各部分を別個に温度調整するものであることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記温度調整手段は、前記天板に設けた温度センサを備え、その検出信号に基づいて前記温度の調整を行うものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記ガイド部は、前記構造体にスペーサを介して支持されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記固定子は前記天板の移動方向に直交する方向に前記ガイドを挟んで2つ設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のステージ装置を用いて原版または基板の位置決めを行うことを特徴とする露光装置。
- 請求項7に記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01195389A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-07 | Canon Inc | 精密移動テーブル |
JPH05203773A (ja) * | 1991-07-09 | 1993-08-10 | Nikon Corp | ステ−ジ装置の調整方法、およびステ−ジ装置 |
JPH10127035A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Canon Inc | リニアモータおよびこれを用いたステージ装置ならびに露光装置 |
JP2000032733A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Nikon Corp | 平面モータ装置及び露光装置 |
WO2000036734A1 (fr) * | 1998-12-16 | 2000-06-22 | Nikon Corporation | Dispositif moteur plat, son procede d'assemblage et d'entrainement, dispositif a etage et procede d'entrainement associe, systeme et procede d'exposition, et dispositif et procede de production associes |
JP2002118050A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01195389A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-07 | Canon Inc | 精密移動テーブル |
JPH05203773A (ja) * | 1991-07-09 | 1993-08-10 | Nikon Corp | ステ−ジ装置の調整方法、およびステ−ジ装置 |
JPH10127035A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Canon Inc | リニアモータおよびこれを用いたステージ装置ならびに露光装置 |
JP2000032733A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Nikon Corp | 平面モータ装置及び露光装置 |
WO2000036734A1 (fr) * | 1998-12-16 | 2000-06-22 | Nikon Corporation | Dispositif moteur plat, son procede d'assemblage et d'entrainement, dispositif a etage et procede d'entrainement associe, systeme et procede d'exposition, et dispositif et procede de production associes |
JP2002118050A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法 |
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