JP4497407B2 - 洗浄処理方法及びその装置 - Google Patents
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Description
図2は、この発明に係るチャックの洗浄処理装置40の第1実施形態を示す概略断面図、図3は、第1実施形態における洗浄状態を示す概略断面図、図4は、第1実施形態における洗浄・乾燥ノズルとチャックを示す概略斜視図である。
図9は、この発明に係るチャックの洗浄処理装置の第2実施形態を示す概略断面図、図10は、第2実施形態における保持溝洗浄状態を示す概略断面図である。
31 下部保持部材
31a 保持溝
32,33 側部保持部材
32a,33a 保持溝
34,35 保持部材
34a,35a 上部保持溝
34b、35b 下部保持溝
50 2流体供給ノズル(洗浄液供給手段)
80 二次乾燥ガス供給ノズル
90 純水供給源
91 N2ガス供給源
97 管路
100 CPU(制御手段)
300 エアシリンダ(移動手段)
400 陽圧室
401 挿通口
V1 第1の開閉弁(切換手段)
V2 第2の開閉弁(切換手段)
V3 第3の開閉弁
V4 第4の開閉弁
V5 第5の開閉弁(切換手段)
Claims (6)
- 被洗浄体と、洗浄液を噴射する洗浄液供給手段とを相対的に被洗浄体に沿って水平方向に往復移動して、被洗浄体を洗浄する洗浄処理方法において、
上記洗浄液供給手段を洗浄液及び気体を噴射する2流体供給ノズルにて形成し、
上記2流体供給ノズルに対して少なくとも上記被洗浄体への洗浄時の移動方向側に、被洗浄体が挿通可能な陽圧室を形成し、
上記2流体供給ノズルから洗浄液を上記被洗浄体に向かって噴射する間、上記陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制し、
往移動の際、上記2流体供給ノズルから気体と共に洗浄液を被洗浄体に向かって噴射する洗浄工程と、
復移動の際、上記2流体供給ノズルから気体のみを上記被洗浄体に向かって噴射する乾燥工程とを切換可能にした、
ことを特徴とする洗浄処理方法。 - 請求項1記載の洗浄処理方法において、
上記陽圧室は、往移動の際、上記2流体供給ノズルから洗浄液を上記被洗浄体に向かって噴射する間、上記陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制し、
復移動の際、上記陽圧室内に供給される気体を被洗浄体に向かって噴射する乾燥工程を更に有する、
ことを特徴とする洗浄処理方法。 - 請求項1又は2記載の洗浄処理方法において、
上記被洗浄体が複数枚の基板を保持する複数の保持溝を列設する保持部材を具備する基板保持用チャックであり、上記保持部材の保持溝に向かって洗浄液及び又は気体を噴射する、
ことを特徴とする洗浄処理方法。 - 被洗浄体に向かって洗浄液及び気体を噴射する2流体供給ノズルと、
上記2流体供給ノズルと、上記被洗浄体とを相対的に被洗浄体に沿う方向に往復移動する移動手段と、
上記2流体供給ノズルに対して少なくとも上記被洗浄体への洗浄時の移動方向側に形成され、被洗浄体が挿通可能な陽圧室と、
上記陽圧室内に向かって気体を噴射する気体供給ノズルと、
上記2流体供給ノズルへの洗浄液と気体の供給を選択的に切り換える切換手段と、
上記切換手段の切換動作を制御する制御手段と、を具備し、
上記2流体供給ノズルから洗浄液を上記被洗浄体に向かって噴射する間、上記気体供給ノズルから上記陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制するように形成し、
往移動の際、上記2流体供給ノズルから気体と共に洗浄液を噴射する洗浄工程と、
復移動の際、上記2流体供給ノズルから気体のみを噴射する乾燥工程と、を切換可能に形成してなる、
ことを特徴とする洗浄処理装置。 - 請求項4記載の洗浄処理装置において、
上記陽圧室は、往移動の際、上記2流体供給ノズルから洗浄液を上記被洗浄体に向かって噴射する間、上記気体供給ノズルから上記陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制し、
復移動の際、上記気体供給ノズルから陽圧室内に供給される気体を被洗浄体に向かって噴射し、被洗浄体を乾燥可能に形成してなる、
ことを特徴とする洗浄処理装置。 - 請求項4又は5記載の洗浄処理装置において、
上記被洗浄体が複数枚の基板を保持する複数の保持溝を列設する保持部材を具備する基板保持用チャックであり、上記保持部材の保持溝に向かって洗浄液及び又は気体を噴射可能に形成してなる、
ことを特徴とする洗浄処理装置。
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