JP4493411B2 - Ndフィルタの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、NDフィルタの製造方法に関し、特にビデオカメラあるいはスチルビデオカメラ等の撮影系に使用するに適したNDフィルタの製造方法に関するものである。
光量絞りは銀塩フィルムあるいはCCD等への固体撮像素子へ入射する光量を制御するため、撮影光学系の光路中に設けられており、被写界が明るい場合に光量をより小さく絞り込まれるように構成されている。
従って、快晴時や高輝度の被写界を撮影すると絞りは小絞りとなり、絞りのハンチング現象や光の回折の影響も受け易く、像性能の劣化を生じる。
これに対する対策として、絞り羽根にフィルム状のND(Neutral Density)フィルタを取り付けて被写界の明るさが同一でも絞りの開口が大きくなる様な工夫がされている。
近年、撮像素子の感度が向上するに従い、前記NDフィルタの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させ、被写界の明るさが同一でも絞りの開口を大きくする様な工夫がなされてきている。しかしながら、この様にNDフィルタの濃度が濃くなると、図13に示す様にフィルムを通過した光aと通過しない光bの光量差が大きく異なり、画面内で明るさが異なる“シェーディング”現象が起きたり、解像度が低下してしまうという欠点がある。この欠点を解決するためにNDフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となる様な構造を取る必要が出てきている。
因みに図13で6A,6B,6C,6Dは撮影光学系6を構成するレンズ、7は固体撮像素子で8はローパスフィルタである。また11から14は絞り装置で、11がNDフィルタ、12と13が対向的に移動する絞り羽根で、2枚の絞り羽根は略菱形の開口を形成する。NDフィルタは普通、絞り羽根に接着されている。14は絞り羽根支持板である。
一般的にNDフィルタの作製方法としては、フィルム状をなす材料(セルロースアセテート、PET(ポリエチレンテレフタレート)、塩化ビニル等)中に光を吸収する有機色素または顔料を混ぜ、練り込むタイプのものと、前記材料に光を吸収する有機色素または顔料を塗布するタイプのものがある。これらの製造方法では、濃度が均一なフィルタは作製可能であるが、濃度が変化するタイプのフィルタ(グラデーションフィルタ)は作製が著しく困難である。
また、特許文献1、特許文献2、特許文献3等に開示されているように、マイクロ写真法による濃度が変化するタイプのフィルタの作製が提案されている。
これらが提案された当時のビデオカメラでは、この方法により作製したNDフィルタで画質の向上が図られたが、近年のCCDの更なる高感度化、小型化、高画質対応により特に特殊条件での使用(例えば逆光下での小径絞り状態)において、銀塩粒子による光の散乱による影響により画質が劣化してしまうことがある。
また、特許文献4には、真空蒸着法により楕円形グラデーションフィルタの製造方法が開示されている。この方法では、微少領域(例えば3mmの範囲で透過率3%から80%までの変化等)での濃度変化ができない欠点がある。
さらに、上記高画質対応の対策として、単一濃度のNDフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させることにより、単一濃度フィルタでも複数重なった部分と重ならない部分とから、濃度変化させることは可能である。
しかしながら、この方法ではNDフィルタの枚数が増えることによるコストupになること、及び絞り羽根に複数枚NDフィルタが存在することにより厚くなってしまい、近年の小型・省スペース化に対応できない等の欠点がある。
さらに、近年、段階的な多濃度NDフィルタが使用され始めてきているが、異なる濃度の境界部分で重なったり隙間ができたりして光学特性が変化し、画質の劣化を引き起こすことがわかってきた。
このような現象の解決には、連続的に濃度を変化させたグラディエントなNDフィルタが必要である。そのため、特許文献5、特許文献6等では、真空蒸着法等を用い、基板とスリット型マスクとの間隔を一定に保つようにして、基板に対しスリット型マスクを設け、スリット型マスクを該基板と一体的にドーム上を公転させ、成膜蒸着源と基板との位置関係から、該基板に蒸着させる蒸着粒子が該スリット型マスクを通過して基板に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板まで到達できなかったりすることで、グラデーション濃度分布を有するNDフィルタを製造する方法が提案されている。
特許第2754518号公報 特許第2771078号公報 特許第2771084号公報 特開平11−38206号公報 特開2004−061900号公報 特開2004−061903号公報
上記特許文献5、特許文献6等によるNDフィルタの製造方法によれば、連続的に濃度を変化させたグラディエントなNDフィルタの作製が可能となる。しかしながら、これらのNDフィルタの場合、最高均一濃度部では反射防止条件が合っているので、反射率は所定値以下に抑えることができるが、濃度が連続的に変化する濃度傾斜部(膜厚傾斜部)においては、各層の膜厚が連続的に変化するため、反射防止条件が合わない領域が生じ、部分的に反射率が高くなり、これらによってゴースト、フレア現象が生じるという点で、必ずしも満足の行くものではなかった。
そこで、本発明は、膜厚傾斜部における反射率の低減が可能となり、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することができ、各濃度において分光特性がフラットであるNDフィルタの製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、以下のように構成したNDフィルタの製造方法を提供するものである。
すなわち、本発明のNDフィルタの製造方法は、基板上に少なくとも2種類以上の膜を真空蒸着法により成膜してNDフィルタを製造するNDフィルタの製造方法であって、第1のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、グラデーション濃度分布をもつ第1層から最表層の膜を成膜する工程と、前記第1のスリット型マスクと位置をずらせた第2のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、前記第1層から最表層とは逆方向の膜厚分布をもつ前記最表層と同組成の膜を更に成膜する工程と、を有することを特徴としている
本発明によれば、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することが可能となり、各濃度において分光特性がフラットで、傾斜部の反射率の低減が可能であるグラデーション濃度分布を有するNDフィルタの製造方法を実現することができる。
本発明は、上記のような構成に特徴を有するものであるが、それは本発明者らが鋭意検討したつぎのような知見に基づくものである。以下の本発明の実施の形態の説明により、これらを明らかにする。
図1は本実施の形態に用いる真空蒸着機の構成を説明する図であり、(a)は真空蒸着機におけるチャンバー内の簡易図、(b)は基板の拡大図である。
図1において101は蒸着傘、102は成膜を施す基板、103は蒸着源、104は実際に成膜を実施する基材、105は基材104を固定する為の基板治具である。また、本実施の形態において説明する基板102とは、図1(b)に示すように基板治具105に基材104がセットされた状態のものを意味している。
図2は、本実施の形態に用いるマスクを説明する図であり、ここでは一例として、図2(a)のノーマル型のスリット型マスクが用いられている。
図2において106はスリット型マスク、107はスリット型マスクにおけるスリット間の幅、108は基板とスリット型マスクとの距離である。
本実施の形態において用いる真空蒸着法においては、図1の様にチャンバー内の基板は蒸着傘101に備え付けられ、この蒸着傘101と共に基板102が回転し成膜が行われる。この基板102の成膜側に例えば図2(a)に示すようなスリット型マスクを設けることにより、蒸着源103と基板102との位置関係から、蒸着する蒸着粒子はスリットを通過し基板102に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板102まで到達できなかったりすることになり、図5(a)に示すような膜厚分布を得ることとなる。
図5(a)は、実際に図2(a)に示すスリット型マスクを用いて膜厚分布シミュレーションを実施した結果であり、図5(b)は図5(a)のパラメータである基板上の位置Δxの説明図、図5(c−1)は蒸着傘中の位置の鳥瞰図、図5(c−2)は蒸着傘中の位置の断面図をそれぞれ示している。109は蒸着傘101中の基板位置である。
図5(a)で示されている膜厚分布は、当然、蒸着傘中の基板位置109や、マスクのスリット間の幅107や、基板とマスクとの距離108等によっても異なったものになる。このことは図5(a)に示すように、蒸着傘中の基板位置109により、膜厚分布が一致しない結果から考慮しても明らかであろう。したがって、反対にマスクのスリット間の幅107や基板とマスクとの距離108を調整することにより、基板上に成膜される薄膜は任意のグラデーション膜厚分布を得ることになる。膜厚が増加すると言うことは、膜の濃度が濃くなり透過率が下がることを意味しているため、任意の膜厚分布を得ることとは、言い換えれば本発明が課題とする任意のグラデーション濃度分布を得ることと言える。
また、このような任意のグラデーション濃度分布を作製するためのスリット型マスクの形状は、本実施の形態では図2(a)に示すような形状のスリット型マスクを用い、図5(a)におけるシミュレーション結果と共に説明してきたが、実際は、図2(b)に示すノコギリ歯型、あるいは図2(c)に示すクシ型等、作製したいNDフィルタのグラデーション濃度分布によって、様々のものを用いることができる。
以上のNDフィルタの製造方法によって、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜した場合、濃度が連続的に変化する濃度傾斜部(膜厚傾斜部)において部分的に反射率が高くなることが生じる。
これらを図4を用いて更に説明すると、図4(a)において領域XからXの最高均一濃度部は反射防止条件が合っているので、反射率は2%以下である。これに対して、領域Xから0の濃度傾斜部=膜厚傾斜部においては、各層の膜厚が連続的に変化するため、反射防止条件が合わない領域が生じ、部分的には5%以上の反射率となり、これらがゴースト、フレア現象が発生する原因となる(図4(b)参照。)。
本発明者らはこれらの問題点を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、第1のスリット型マスクで第1層から最表層まで膜を形成した後、該第1層から最表層の膜とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜を、該最表層上に更に成膜し、該最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層の膜厚が、光学膜厚で1/4λと一定、あるいは1/4λ±1/8λ(λ=500nmから600nm)(光学膜厚で)の膜厚分布になるようにすることで、膜厚傾斜部の反射率を2%以下に抑え(図4(c)参照。)、ゴースト・フレア現象を抑えることが可能となるという解決手段を見出したのである。
その際、このような膜の形成方法としては、第1のスリット型マスク(図4(b)の401参照)で1層から最表層まで形成した後、第1のスリット型マスクと位置をずらせた第2のスリット型マスク(図4(c)の402参照)を基板と一体的にドームを公転させて成膜することにより、前記1層から最表層とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜を、該最表層上に更に形成する方法を用いた。
以上において本実施の形態について説明したが、本発明はこれらの実施の形態によって何ら限定されるものではない。特に、図1等の説明においては、NDフィルタの成膜の実施方法として、真空蒸着法を用いた場合を例にとって説明しているが、本発明はスパッタリング法・インクジェットプリンティング法・スプレー法などにおいても同様な効果を得ることができ、これらの成膜法は一般的に知られていることでもあるから、ここでは記述を省略している。
つぎに、本発明の実施例について説明する。
本実施例は、上記した本発明の構成及び実施の形態を適用したものであり、これらを図を用いて説明する。
図3の(a−1)は本実施例の第1層から最表層までの成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、図3の(a−2)は(a−1)を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第1層から最表層までの膜の付き方を表した図である。また、図3の(b−1)は本実施例の最表層と同組成の膜の成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、図3の(b−2)は(b−1)を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより最表層と同組成の膜の付き方を表わした図である。
図3において、301、301’はスリットマスク、302はPET基板、303は成膜治具、304は第1層から最表層の膜、305は最表層と同組成の膜である。
以下に、本実施例によるNDフィルタの製造方法について説明する。
まず、材質厚75μmのプラスチック基材(以下、PET基材と記す)上に、真空蒸着法により図6に示す膜構成のうち、その第1層から最表層までを次のようにして形成した。
本実施例においては、スリットマスクは図2(a)のノーマル型を使用し、図3に示す様に配置した。図3のようにマスク301を基板302から離して設定することにより、第1層から最表層までの膜は図3の(a−2)の304に示すような膜厚分布となる。
また、膜生成法として、膜厚を比較的容易に制御でき、かつ可視域の波長域で散乱が非常に小さいことから、真空蒸着法を選択した。また、基材の材質としては、耐熱性(ガラス転移点Tg)が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水性が低いPETを選択した。
次に、このスリットマスク301を外し、図3の(b−2)に示すように、別のスリットマスク301’を用いて、最表層と同組成の膜を第1層から最表層までの膜厚傾斜方向と逆方向の膜厚傾斜になるように、前記最表層上に成膜した。これにより最表層と同組成の膜は図3の(b−2)の305に示すような膜厚分布となる。
前記最表層及び最表層と同組成の膜を合わせた層を、ここでは改めて最表層と称す。
理由は、第1層から最表層までの連続膜厚傾斜する部分の最表層膜と、最表層と同組成の膜を逆方向の膜厚傾斜になるように成膜した膜は、最終形態では足されて、最表層になるためである。
最表層及び最表層と同組成の膜、つまりは最終形態の最表層の膜は、光学膜厚n×d(nは屈折率、dは機械膜厚)で1/4λ(λ:540nm)の条件により成膜した。この最終形態の最表層の膜の屈折率nは可視域の波長域で1.5以下のものを選んだ。具体的にはMgFを使用した。
これにより、斜め部分の反射率は3%以下にすることが可能になった。
以上のように第1層から最表層と同組成の膜まで成膜した後、110℃ 1時間、空気中で熱処理を行った。110℃を選んだのは、100℃未満では環境安定性向上の効果が不十分であり、130℃を超えると基材の熱的劣化を生じて膜にクラックが発生する等問題が発生する。したがって、熱処理の温度は、110℃から130℃の間が適当である。
環境安定性を調べるため、前記プラスチックNDフィルタを60℃85%240時間の放置試験を行い、試験前後での透過率を測定すると、その差が0.2%以下とほとんど差は見られなかった。参考として、熱処理を行わないものを同様な環境試験を行い、試験前後での透過率を測定すると2%前後増加していた。
このような現象が起きる要因としては、真空蒸着時の基板温度が低いことがあげられる。
膜の封止密度は成膜時の基板温度が大きく影響し、温度が低いと封止密度が低くなり、水分・酸素等を透過しやすく、そのため吸収膜であるTi自体の酸化が促進されること、及びそれを保護するAl膜等の誘電体膜の保護効果が少ないことの両方の影響から透過率が上昇するものと考えられる。熱処理を行うと環境安定性が向上するのは、“エージング効果”であると考えられる。
通常、ガラス基板を用いる場合、基板温度は200℃〜250℃、望ましくは300℃前後まで加熱して成膜する。
しかし、今回のように基板がプラスチックの場合、基板が熱収縮を起こさない温度で成膜する必要があり、その基板温度は150℃未満に制約される。
ここで、NDフィルタの一例を示すと、図11(a)のようなパターンを作製して、図11(b)のように略三角形の形状に切り抜き、その後、この切り抜いたフィルタ11を羽根12に貼って図12の状態になる。絞り装置は、図13を用いて説明したものと同様のもので、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根を備えている。フィルター1枚は図11(b)のようになっていて、0が端面部でそこからXまでが濃度変化領域である。XからXは最も濃い均一濃度が形成されている。XからXはフィルターを羽根に接着するための接着領域である。
図4(a)に、NDグラデーションフィルタとそれに対応した各膜厚の状態を示す。
まず、第1層から最表層までについて述べる。
0,X,X,X領域では連続的にそれぞれの膜厚が増加している。この変化の仕方は前記スリットマスクのスリット幅と基板とスリット間のスペースで所望のパターンに設定できる。
,X領域では一定濃度のため、各膜厚も一定膜厚である。
次に、最表層と最表層と同組成の膜(最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層)であるが、これは反射防止・環境安定性も兼ねている膜で光学膜厚n×dで1/4λ(λ=500nm〜600nm)と0〜Xまでの領域で一定膜厚が最も好ましいが、1/4λ±1/8λの膜厚分布内であれば、反射率3%以下になった。
また、最表層と同組成の膜は、0,X,X,X領域では、第1層から最表層までとは反対に、連続的に膜厚が減少している。この変化の仕方は概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。
最表層と同組成の膜の膜厚は、第1層から最表層までの膜厚変化を補正する膜厚に設定する。この2つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。
このような膜構成にすることにより、各領域における傾斜部の反射率の低減が可能となり、“ゴースト”“フレア”現象が抑えられた。
この時の距離と濃度の関係は図7、距離と反射率の関係は図8に示すようになった。
さらに、分光透過率は図9、分光反射率は図10に示すようになった。
因みにスリット幅は0.02m、マスクと基板との浮かせ距離は0.01mの結果である。
距離と濃度の関係における変化の仕方は、概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。この2つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。さらに、図2(b),(c)のようにスリットを直線からノコギリ歯型、クシ歯型にすることにより、より細かな制御が可能となる。例えば、裾を長く取りたい時は、ノコギリ歯型の方が有利である。
以上で説明した実施例によれば、各濃度において分光特性がフラットなグラデーションNDフィルタの作製が可能となり、グラデーションの変化に対する様々なニーズに対応できる。さらに、蒸着後に熱処理を行うことにより、環境安定性を向上させることができる。
また、部分的に膜厚が変化する時に発生する、反射防止条件の変化による反射率の増大を抑制することが可能となり、高画質対応の要請に応えられる絞り装置を実現することができる。また、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記した光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有するカメラを実現することができる。
本発明の実施の形態に用いる真空蒸着機の構成を説明する図であり、(a)は真空蒸着機におけるチャンバー内の簡易図、(b)は基板の拡大図である。 本発明の実施の形態に用いるマスクを説明する図である。 (a−1)は本発明の実施例の第1層から最表層までの成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、(a−2)は(a−1)を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第1層から最表層までの膜の付き方を表した図、(b−1)は本実施例の最表層と同組成の膜の成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、(b−2)は(b−1)を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより最表層と同組成の膜の付き方を表わした図である。 本発明の実施の形態を説明する図であり、(a)はNDグラデーションフィルタとそれに対応した各膜厚の状態を表わした図、(b)は第1のスリット型マスクで最表層まで成膜した時の各膜厚の状態を表わした図、(c)は第2のスリット型マスクで最表層と同組成の膜を成膜した時の各膜厚の状態を表わした図である。 本発明の実施の形態におけるスリット型マスクによる膜厚分布シミュレーション例を示す図である。 本発明の実施例によって作製される蒸着NDフィルタの膜構成を示す図である。 本発明の実施例における距離と濃度の関係を表わしたグラフである。 本発明の実施例における距離と反射率の関係を表わしたグラフである。 本発明の実施例における分光透過率を表わしたグラフである。 本発明の実施例における分光反射率を表わしたグラフである。 本発明の実施例におけるフィルタ製造の際のプレス抜き状態を説明する図であり、(a)は略三角形状の切り抜きパターンを示す図、(b)は切り抜かれた略三角形状のNDフィルタの構成を示す図である。 本発明の実施例により作製されたNDグラデーションフィルタの図である。 従来例におけるビデオカメラに使用される撮影光学系を表した図である。
符号の説明
101:蒸着傘
102:基板
103:蒸着源
104:基材
105:基板治具
106:スリット型マスク
107:マスクのスリット間の幅
108:基板とマスクの距離
109:蒸着傘中の基板位置
301、301’:スリットマスク
302:PET基板
303:成膜治具
304:第1層から最表層の膜
305:最表層と同組成の膜
401:第1のスリットマスク
402:第2のスリットマスク

Claims (3)

  1. 基板上に少なくとも2種類以上の膜を真空蒸着法により成膜してNDフィルタを製造するNDフィルタの製造方法であって、
    第1のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、グラデーション濃度分布をもつ第1層から最表層の膜を成膜する工程と、
    前記第1のスリット型マスクと位置をずらせた第2のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、前記第1層から最表層とは逆方向の膜厚分布をもつ前記最表層と同組成の膜を更に成膜する工程と、
    を有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
  2. 前記第1及び第2のスリット型マスクにおけるスリット間の幅と、該スリット型マスクと前記基板との距離とを、それぞれ調整して任意のグラデーション濃度分布を形成することを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタの製造方法。
  3. 前記第1層から最表層の膜及び前記最表層と同組成の膜を成膜した後に、成膜された前記基板を100℃から130℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のNDフィルタの製造方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6439518B2 (ja) * 2015-03-13 2018-12-19 コニカミノルタ株式会社 膜厚傾斜膜の製造装置および製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004061900A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Canon Electronics Inc Ndフィルタの製造方法及びndフィルタ、並びにこれらのndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004061900A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Canon Electronics Inc Ndフィルタの製造方法及びndフィルタ、並びにこれらのndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

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