JP3701932B2

JP3701932B2 - Ｎｄフィルタの製造方法及びｎｄフィルタ、並びにこれらのｎｄフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

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Publication number: JP3701932B2
Application number: JP2002220776A
Authority: JP
Inventors: 道男柳; 孝幸若林; 真志内山; 史江石井
Original assignee: Canon Electronics Inc
Current assignee: Canon Electronics Inc
Priority date: 2002-07-30
Filing date: 2002-07-30
Publication date: 2005-10-05
Anticipated expiration: 2022-07-30
Also published as: JP2004061903A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置及びカメラに関し、特にビデオカメラあるいはスチルビデオカメラ等の撮影系に使用するに適したグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光量絞り装置は、銀塩フィルムあるいはＣＣＤ等への固体撮像素子へ入射する光量を制御するため、撮影光学系の光路中に設けられており、被写界が明るい場合に光量をより小さく絞り込むように構成されている。
従って、快晴時や高輝度の被写界を撮影すると絞りは小絞りとなり、絞りのハンチング現象や光の回折の影響も受け易く、像性能の劣化を生じる。
これに対する対策として絞り羽根にフィルム状のＮＤ（ＮｅｕｔｒａｌＤｅｎｓｉｔｙ）フィルタを取りつけて被写界の明るさが同一でも絞りの開口が大きくなる様な工夫をしている。
【０００３】
近年、撮像素子の感度が向上するに従い、前記ＮＤフィルタの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させ、被写界の明るさが同一でも絞りの開口を大きくする様になっている。しかしながら、この様にＮＤフィルタの濃度が濃くなると図９に示す様な状態でＮＤフィルタを通過した光ａとＮＤフィルタを通過しない光ｂの光量差が大きく異なり、画面内で明るさが異なる“シェーディング”現象が起きたり、解像度が低下してしまうという欠点がある。この欠点を解決するためにＮＤフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となる様な構造を取る必要が出てきている。
【０００４】
因みに図９で９０６Ａ，９０６Ｂ，９０６Ｃ，９０６Ｄは撮影光学系９０６を構成するレンズ、９０７は固体撮像素子で９０８はローパスフィルタである。また９１１から９１４は絞り装置を構成する部材で、９１１がＮＤフィルタ、９１２と９１３が対向的に移動する絞り羽根で、２枚の絞り羽根は略菱形の開口を形成する。ＮＤフィルタは普通、絞り羽根に接着されている。９１４は絞り羽根支持板である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
一般的にＮＤフィルタの作製方法としては、フィルム状をなす材料（セルロースアセテート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、塩化ビニル等）中に光を吸収する有機色素または顔料を混ぜ、練り込むタイプのものと、前記材料に光を吸収する有機色素または顔料を塗布するタイプのものがある。これらの製造方法では、濃度が均一なフィルタは作製可能であるが、同一フィルタ内で濃度が変化するタイプのフィルタ（グラデーションフィルタ）は作製が著しく困難である。
【０００６】
このような濃度可変タイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルタに関して、本発明者らは、特許第２７５４５１８号公報（特開平０５−２８１５９３）、特許第２７７１０７８号公報（特開平０６−０９５２０８）、特許第２７７１０８４号公報（特開平０６−１７５１９３）において、マイクロ写真法による濃度可変タイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルタの作製方法等を提案している。当時のビデオカメラではこの方法により作製したＮＤフィルタで画質の向上が図られたが、近年のＣＣＤの更なる高感度化、小型化、高画質対応により特に特殊条件での使用（例えば逆光下での小径絞り状態）において、銀塩粒子による光の散乱による影響により画質が劣化してしまうことがある。
【０００７】
また、特開平１１−３８２０６号公報には、真空蒸着法により楕円形グラデーションフィルタの製造方法が開示されている。この方法では、微少領域（例えば３ｍｍの範囲で透過率３％から８０％までの変化等）での濃度変化ができない欠点がある。
【０００８】
さらに、上記高画質対応の対策として、単一濃度のＮＤフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させることにより、単一濃度フィルタでも複数重なった部分と重ならない部分とから、濃度変化させることは可能である。しかしながら、この方法ではＮＤフィルタの枚数が増えることによるコストアップ、及び絞り羽根に複数枚ＮＤフィルタが存在することにより厚くなってしまい、近年の小型・省スペース化に対応できない等の欠点がある。
【０００９】
さらに、近年、段階的な多濃度ＮＤフィルタが使用され始めてきているが、濃度の異なる領域で、光路長が変わるとその分だけ透過位相が変化し、画質の劣化（解像度低下）を引き起こすことがわかってきた。この画質の劣化は透過位相差がλ/2の時最も大きくなり、比較的良好なのは、λ／４〜λ／８以下の時である（λ：５４０ｎｍ）。このような現象の解決には光路長を補正する層が必要である。
【００１０】
そこで、本発明は、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することが可能となり、各濃度において分光特性がフラットで、低反射率であり、膜厚が連続的に変化することによる光路長の違いから発生する透過位相差を補正することができるグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有し光量の均一性の向上を図ることができる光量絞り装置を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、つぎの（１）〜（１４）のように構成したグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置及びカメラを提供するものである。
（１）基板上に少なくとも２種類以上の膜を成膜してＮＤフィルタを製造するに際し、
ドーム内に回転可能に配置された基板保持部材に保持された前記基板を第１のスリット型マスクと一体的に前記基板保持部材の回転軸を中心に公転させてグラデーション濃度分布をもつ第１層の膜を成膜する工程と、
該第１のスリット型マスクと位置をずらせた第２のスリット型のマスクを前記基板と一体的に前記基板保持部材の回転軸を中心に公転させて前記第１層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第２層から最表層手前の膜を成膜する工程と、
最表層の膜を前記のマスクを用いずに成膜する工程と、
を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
（２）前記第１及び第２のスリット型マスクにおけるスリット間の幅と、該スリット型マスクと前記基板との距離とを、それぞれ調整して任意のグラデーション濃度分布を形成することを特徴とする上記（１）に記載のＮＤフィルタの製造方法。
（３）前記第１層の膜及び第２層から最表層手前の膜に引き続いて前記最表層の膜を成膜した後に、成膜された前記基板を１００℃から１３０℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする上記（１）または上記（２）に記載のＮＤフィルタの製造方法。
（４）前記最表層の膜を、光学膜厚ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の一定膜厚に成膜することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のＮＤフィルタの製造方法。
（５）前記屈折率ｎを、可視域の波長域で１．５以下とすることを特徴とする上記（４）に記載のＮＤフィルタの製造方法。
（６）基板上に少なくとも２種類以上の膜を有するＮＤフィルタであって、
前記膜は、最表層以外の膜がグラデーション濃度分布をもつ第１層の膜及び前記第１層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第２層から最表層手前の膜で構成され、最表層の膜が一定の膜厚で構成されていることを特徴とするＮＤフィルタ。
（７）前記第２層から最表層手前の膜は、膜厚が連続的に変化していることを特徴とする上記（６）に記載のＮＤフィルタ。
（８）前記第１層の膜は、光路長ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）の違いから発生する透過位相差を補正するため、膜厚が前記第２層から最表層手前の膜と逆方向に連続的に変化していることを特徴とする上記（６）または上記（７）に記載のＮＤフィルタ。
（９）前記第１層の膜は、ＮＤフィルタの濃度が薄くなるに従い、膜厚が厚くなるように構成されていることを特徴とする上記（８）に記載のＮＤフィルタ。
（１０）前記最表層の膜は、光学膜厚ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）であることを特徴とする上記（６）に記載のＮＤフィルタ。
（１１）前記屈折率ｎは、可視域の波長域で１．５以下であることを特徴とする上記（１０）に記載のＮＤフィルタ。
（１２）前記ＮＤフィルタは、膜側反射率が３％未満、透過位相差（光路長差）の全体バラツキがＭａｘ−Ｍｉｎでλ／４以下（λ：５４０ｎｍ）であることを特徴とする上記（６）〜（１１）のいずれかに記載のＮＤフィルタ。
（１３）相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタが、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方法によって製造されたＮＤフィルタ、または上記（６）〜（１２）のいずれかに記載のＮＤフィルタによって構成されていることを特徴とする光量絞り装置。
（１４）光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記（１３）に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について説明するが、本発明はこれらの具体的な実施形態によって何ら限定されるものではない。特に、以下の図４等の説明においては、ＮＤフィルターの成膜の実施方法として、真空蒸着法を用いた場合を例にとって説明しているが、本発明はスパッタリング法・インクジェットプリンティング法・スプレー法等においても同様な効果を得ることができ、これらの成膜法は一般的に知られていることでもあるから、ここでは記述を省略している。
【００１３】
図４は、本実施の形態を説明するため、一例として用いる真空蒸着機におけるチャンバー内の簡易図であり、図４において１０１は蒸着傘（基板保持部材）、１０２は成膜を施す基板、１０３は蒸着源、１０４は実際に成膜を実施する基材、１０５は基材１０４を固定する為の基板治具である。
また、本実施の形態において説明する基板１０２とは、図４（ｂ）に示すように基板治具１０５に基材１０４がセットされた状態を示しているものとする。
【００１４】
図５は、本実施の形態を説明するために、一例として用いるスリット型マスク形状を有するスリット型マスクであり、図５において１０６はスリット型マスク、１０７はスリット型マスクにおけるスリット間の幅、１０８は基板とスリット型マスクとの距離である。
【００１５】
本実施の形態において用いる真空蒸着法においては、図４の様にチャンバー内の基板は蒸着傘１０１に備え付けられ、この蒸着傘１０１と共に基板１０２が回転し成膜が行われる。この基板１０２の成膜側に例えば図５（ａ）に示すようなスリット型のマスクを設けることにより、蒸着源１０３と基板１０２との位置関係から、蒸着する蒸着粒子はスリットを通過し基板１０２に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板１０２まで到達できなかったりすることになり、図６（ａ）に示すような膜厚分布を得ることとなる。
【００１６】
図６（ａ）は、実際に図５（ａ）に示すスリット型マスクを用いて膜厚分布シミュレーションを実施した結果であり、図６（ｂ）は図６（ａ）のパラメータである基板上の位置Δｘの説明図、図６（ｃ−１）は蒸着傘中の位置の鳥瞰図、図６（ｃ−２）は蒸着傘中の位置の断面図をそれぞれ示している。１０９は蒸着傘１０１中の基板位置である。
【００１７】
図６（ａ）で示されている膜厚分布は、当然、蒸着傘中の基板位置１０９や、マスクのスリット間の幅１０７や、基板とマスクとの距離１０８等によっても異なったものになる。このことは図６（ａ）に示すように、蒸着傘中の基板位置１０９により、膜厚分布が一致しない結果から考慮しても明らかであろう。したがって、反対にマスクのスリット間の幅１０７や基板とマスクとの距離１０８を調整することにより、基板上に成膜される薄膜は任意のグラデーション膜厚分布を得ることになる。膜厚が増加すると言うことは、膜の濃度が濃くなり透過率が下がることを意味しているため、任意の膜厚分布を得ることとは、言い換えれば本発明が課題とする任意のグラデーション濃度分布を得ることと言える。
【００１８】
また、このような任意のグラデーション濃度分布を作製するためのスリット型マスクの形状は、本実施例では図５（ａ）に示すような形状のスリット型マスクを用い、図６（ａ）におけるシミュレーション結果と共に説明してきたが、実際は、図５（ｂ）、（ｃ）に示すように、ノコギリ歯型であったり、クシ型であったり、作製したいＮＤフィルターのグラデーション濃度分布によって、様々のものを用いることができる。
【００１９】
【実施例】
以下に、本発明の実施例について説明する。図３の（ａ−１）は基板にマスクをセットした状態を上から見た図、同図の（ａ−２）は矢印方向から見た図である。
本実施例においては、まず、材質厚７５μｍのプラスチック基材（以下、ＰＥＴ基材と記す）上に、真空蒸着法により図７に示す膜構成のうち、その第１層をつぎのようにして形成した。
【００２０】
本実施例においては、スリットマスクは図５（ａ）のノーマル型を使用し、図３に示す様に配置した。同図において値３０２はＰＥＴ基板であり、３０３は成膜治具である。
図のようにマスク３０１を基板３０２から離して設定することにより、第１層の膜は図３の（ａ−２）の３０４に示す様な膜厚分布となる。この時の膜厚は濃度分布から生じる、位相差をキャンセルする膜厚に設定する。
また、膜生成法として、膜厚を比較的容易に制御でき、かつ可視域の波長域で散乱が非常に小さいことから、真空蒸着法を選択した。
また、基材の材質としては、耐熱性（ガラス転移点Ｔｇ）が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水率が低い、ＰＥＴを選択した。
【００２１】
次に、このスリットマスク３０１を外し、別のスリットマスク３０１’を用いて第２層から最表層手前までを成膜した。図３の（ｂ−１）は基板にマスクをセットした状態を上から見た図、同図の（ｂ−２）は矢印方向から見た図である。
これにより第２層から最表層手前までの膜は図３の（ｂ−２）の３０５に示す様な膜厚分布となる。
【００２２】
最後に、スリットマスク３０１’を外し、最表層を光学膜厚ｎ×ｄ（ｎは屈折率ｄは機械膜厚）で１／４λ λ：５４０ｎｍの条件により成膜した。この最表層の膜の屈折率ｎは可視域の波長域で１．５以下のものを選んだ。具体的にはＭｇＦ₂を使用した。
【００２３】
以上のように第１層から最表層まで成膜した後、１１０℃ １時間、空気中で熱処理を行った。１１０℃を選んだのは、１００℃未満では環境安定性向上の効果が不十分であり、１３０℃を超えると基材の熱的劣化を生じて膜にクラックが発生する等問題が発生する。したがって、熱処理の温度は、１１０℃から１３０℃の間が適当である。
【００２４】
環境安定性を調べるため、前記プラスチックＮＤフィルタを６０℃８５％２４０時間の放置試験を行い、試験前後での透過率を測定すると、その差が０．２％以下とほとんど差は見られなかった。参考として、熱処理を行わないものを同様な環境試験を行い、試験前後での透過率を測定すると２％前後増加していた。
このような現象が起きる要因としては、真空蒸着時の基板温度が低いことがあげられる。
膜の封止密度は成膜時の基板温度が大きく影響し、温度が低いと封止密度が低くなり、水分・酸素等を透過しやすく、そのため吸収膜であるＴｉ_xＯ_y自体の酸化が促進されること、及びそれを保護するＡｌ₂Ｏ₃膜等の誘電体膜の保護効果が少ないことの両方の影響から透過率が上昇するものと考えられる。熱処理を行うと環境安定性が向上するのは、“エージング効果”であると考えられる。
【００２５】
通常、ガラス基板を用いる場合、基板温度は２００℃〜２５０℃、望ましくは３００℃前後まで加熱して成膜する。
しかし、今回のように基板がプラスチックの場合、基板が熱収縮を起こさない温度で成膜する必要があり、その基板温度は１５０℃未満に制約される。
【００２６】
一例を示すと、図２（ａ）のようなパターンを作製して、略三角形の形状に切りぬき、その後、この切りぬいたフィルター１１を羽根１２に貼って図１の状態になる。絞り装置は、図９を用いて説明したものと同様のもので、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根を備えている。フィルター１枚は図２（ｂ）のようになっていて、０が端面部でそこからＸ₁Ｘ₂Ｘ₃までが濃度変化領域である。Ｘ₃からＸ₄は最も濃い均一濃度が形成されている。Ｘ₄からＸ₅はフィルターを羽根に接着するための接着領域である。
【００２７】
この時の距離と膜厚の構成は、図８に示すようになった。
まず、第２層から最表層手前までについて述べる。
０，Ｘ₁，Ｘ₂，Ｘ₃領域では連続的にそれぞれの膜厚が増加している。この変化の仕方は前記スリットマスクのスリット幅と基板とスリット間のスペースで所望のパターンに設定できる。
Ｘ₃，Ｘ₄，Ｘ₅領域では一定濃度のため、各膜厚も一定膜厚である。
次に、最表層膜であるが、これは反射防止・環境安定性も兼ねている膜で光学膜厚ｎ×ｄで１／４λ （λ＝５００ｎｍ〜６００ｎｍ）と０〜Ｘ₅までの領域で一定膜厚である。
【００２８】
また、第１層膜は、０，Ｘ₁，Ｘ₂，Ｘ₃領域では、第２層から最表層手前までとは反対に、連続的に膜厚が減少している。この変化の仕方は概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。
第１層の膜厚は、第２層から最表層手前までの膜厚変化を補正する膜厚に設定する。この２つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。
【００２９】
このような膜構成にすることにより、０，Ｘ₁，Ｘ₂，Ｘ₃領域の連続的に濃度が変化することに対する光路長の差を補正することが可能となり、各領域の透過位相の変化を抑えることが可能となる。その結果、高画質の維持が可能となった。
また、反射率も各領域でほぼ一定にすることが可能となり、“ゴースト”“フレア”現象が抑えられた。
【００３０】
光路長差を補正する補正層は、第１層が最適である。理由は、第１層の膜厚を変化させるのが、最も透過率・反射率の分光特性に影響が無いからである。
また、この時の距離と透過率、距離と反射率の関係は図１０、図１１に示すようになった。
さらに、分光透過率は、図１２，分光反射率は、図１３に示すようになった。
【００３１】
因みにスリット幅は０．０２ｍ，マスクと基板との浮かせ距離は０．０１ｍの結果である。
距離と膜厚の関係は、この変化の仕方は、概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。この２つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。
さらに、図５（ｂ），（ｃ）のようにスリットを直線からノコギリ歯型、クシ歯型にすることにより、より細かな制御が可能となる。例えば、裾を長く取りたい時は、ノコギリ歯型の方が有利である。
【００３２】
以上説明した実施例によれば、各濃度において分光特性がフラットなグラデーションＮＤフィルターの作製が可能となり、グラデーションの変化に対する様々なニーズに対応できる。さらに、蒸着後に熱処理を行うことにより、環境安定性を向上させることができる。
また、部分的に膜厚が変化する時に発生する、反射防止条件の変化による反射率の増大を抑制することができ、膜厚が連続的に変化することによる光路長の違いから発生する透過位相差を補正することが可能となり、高画質対応の要請に応えられる絞り装置を実現することができる。
【００３３】
【発明の効果】
本発明によれば、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することが可能となり、各濃度において分光特性がフラットで、低反射率であり、膜厚が連続的にが変化することによる光路長の違いから発生する透過位相差を補正することができるグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有し光量の均一性の向上を図ることができる光量絞り装置及びカメラを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で得られたグラデーションＮＤフィルタを絞り羽根に取り付けた状態を示す斜視図。
【図２】本発明の実施例におけるフィルタ製造の際のプレス抜き状態を説明する図であり、（ａ）は略三角形状の切りぬきパターンを示す図、（ｂ）は切りぬかれた略三角形状のＮＤフィルタの構成を示す図。
【図３】（ａ−１）は本実施例の第１層の成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、（ａ−２）は（ａ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第１層の膜の付き方を表した図。また、（ｂ−１）は本実施例の第２層から最表層手前までの成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、（ｂ−２）は（ｂ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第２層から最表層手前までの膜の付き方を表した図。
【図４】本発明の実施の形態における真空蒸着法によるＮＤフィルタの製造方法を説明するための図であり、（ａ）は真空蒸着機におけるチャンバー内の構成図、（ｂ）は基板の拡大図である。
【図５】本発明の実施の形態、及び実施例に用いられるスリット型マスクとマスク形状を示す図。
【図６】本発明の実施の形態におけるスリット型マスクによる膜厚分布シミュレーション例を示す図。
【図７】本発明の実施の形態及び実施例等を説明するための蒸着ＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図８】本発明の実施例におけるＮＤグラデーションフィルタとそれに対応した各膜厚の状態を表した図。
【図９】従来技術を説明するためのビデオカメラに使用される撮影光学系を表わした図。
【図１０】実施例における距離と透過率の関係を表わしたグラフ。
【図１１】実施例における距離と反射率の関係を表わしたグラフ。
【図１２】実施例における分光透過率を表わしたグラフ。
【図１３】実施例における分光反射率を表わしたグラフ。
【符号の説明】
１１：ＮＤフィルター
１２：絞り羽根
１０１：蒸着傘
１０２：基板
１０３：蒸着源
１０４：基材
１０５：基板治具
１０６：スリット型マスク
１０７：マスクのスリット間の幅
１０８：基板とマスクとの距離
１０９：蒸着傘中の基板位置
３０１、３０１’：スリットマスク
３０２：ＰＥＴ基板
３０３：成膜治具
３０４：第１層の膜
３０５：第２層から最表層手前までの膜
９０６Ａ，９０６Ｂ，９０６Ｃ，
９０６Ｄ：撮影光学系９０６を構成するレンズ
９０７：固体撮像素子
９０８：ローパスフィルター
９１１：ＮＤフィルター
９１２，９１３：絞り羽根
９１４：絞り羽根支持板

Claims

基板上に少なくとも２種類以上の膜を成膜してＮＤフィルタを製造するに際し、
ドーム内に回転可能に配置された基板保持部材に保持された前記基板を第１のスリット型マスクと一体的に前記基板保持部材の回転軸を中心に公転させてグラデーション濃度分布をもつ第１層の膜を成膜する工程と、
該第１のスリット型マスクと位置をずらせた第２のスリット型のマスクを前記基板と一体的に前記基板保持部材の回転軸を中心に公転させて前記第１層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第２層から最表層手前の膜を成膜する工程と、
最表層の膜を前記のマスクを用いずに成膜する工程と、
を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
前記第１及び第２のスリット型マスクにおけるスリット間の幅と、該スリット型マスクと前記基板との距離とを、それぞれ調整して任意のグラデーション濃度分布を形成することを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタの製造方法。
前記第１層の膜及び第２層から最表層手前の膜に引き続いて前記最表層の膜を成膜した後に、成膜された前記基板を１００℃から１３０℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＮＤフィルタの製造方法。
前記最表層の膜を、光学膜厚ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の一定膜厚に成膜することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法。
前記屈折率ｎを、可視域の波長域で１．５以下とすることを特徴とする請求項４に記載のＮＤフィルタの製造方法。
基板上に少なくとも２種類以上の膜を有するＮＤフィルタであって、
前記膜は、最表層以外の膜がグラデーション濃度分布をもつ第１層の膜及び前記第１層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第２層から最表層手前の膜で構成され、最表層の膜が一定の膜厚で構成されていることを特徴とするＮＤフィルタ。
前記第２層から最表層手前の膜は、膜厚が連続的に変化していることを特徴とする請求項６に記載のＮＤフィルタ。
前記第１層の膜は、光路長ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）の違いから発生する透過位相差を補正するため、膜厚が前記第２層から最表層手前の膜と逆方向に連続的に変化していることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のＮＤフィルタ。
前記第１層の膜は、ＮＤフィルタの濃度が薄くなるに従い、膜厚が厚くなるように構成されていることを特徴とする請求項８に記載のＮＤフィルタ。
前記最表層の膜は、光学膜厚ｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）であることを特徴とする請求項６に記載のＮＤフィルタ。
前記屈折率ｎは、可視域の波長域で１．５以下であることを特徴とする請求項１０に記載のＮＤフィルタ。
前記ＮＤフィルタは、膜側反射率が３％未満、透過位相差（光路長差）の全体バラツキがＭａｘ−Ｍｉｎでλ／４以下（λ：５４０ｎｍ）であることを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項に記載のＮＤフィルタ。
相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタが、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法によって製造されたＮＤフィルタ、または請求項６〜１２のいずれか１項に記載のＮＤフィルタによって構成されていることを特徴とする光量絞り装置。
光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項１３に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。