JP4493413B2 - Ndフィルタの製造方法 - Google Patents
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Description
光量絞りは、銀塩フィルムあるいはCCD等への固体撮像素子へ入射する光量を制御するために設けられており、被写界が明るい場合により小さく絞り込まれる様になっている。
したがって、快晴時や高輝度の被写界を撮影すると絞りは小絞りとなり、絞りのハンチング現象や光の回折の影響も受け易く、像性能の劣化を生じる。
従来においては、これに対する対策として絞り羽根にフィルム状のNDフィルタを取りつけて、被写界の明るさが同一でも絞りの開口が大きくなる様な工夫がなされてきた。
因みに図11で6A、6B、6C、6Dは撮影光学系6を構成するレンズ、7は固体撮像素子で8はローパスフィルタである。また11から14は絞り装置で、11がNDフィルタ、12と13が対向的に移動する絞り羽根で、2枚の絞り羽根は略菱形の開口を形成する。NDフィルタは普通、絞り羽根に接着されている。14は絞り羽根支持板である。
以上のような“シェーディング”現象に基づく解像度の低下を解決するため、NDフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となるような構造を取る必要があるが、従来においては、そのために以下に述べるような様々な工夫がなされてきている。
一般的にNDフィルタの作製方法としては、フィルム状をなす材料(セルロースアセテート、PET(ポリエチレンテレフタレート)、塩化ビニル等)中に光を吸収する有機色素または顔料を混ぜ、練り込むタイプのものと、前記材料に光を吸収する有機色素または顔料を塗布するタイプのものがある。これらの製造方法では、濃度が均一なフィルタは作製可能であるが、濃度が順次淡、若しくは順次濃と変化するタイプのフィルタ(グラデーションフィルタ)を作製する事は著しく困難である。
また、上記高画質対応の対策として、単一濃度のNDフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させることにより、単一濃度フィルタでも複数重なった部分と重ならない部分とから、濃度変化させることは可能である。しかしながら、この方法ではNDフィルタの枚数が増えることによるコスト高になること、及び絞り羽根に複数枚NDフィルタが存在することにより厚くなってしまい、近年の小型・省スペース化に対応できない等の欠点がある。
このような現象の解決には、連続的に濃度を変化させたグラディエントなNDフィルタが必要である。そのため、本発明者らは特許文献5、特許文献6等において、真空蒸着法等を用い、基板に対し様々な形状のスリット型マスクを設け、基板とマスクとの距離、及びスリット幅を制御するようにし、スリット型マスクを該基板と一体的にドーム上を公転させ、成膜蒸着源と基板との位置関係から、該基板に蒸着させる蒸着粒子が該スリット型マスクを通過して基板に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板まで到達できなかったりすることで、グラデーション濃度分布を有するNDフィルタを製造する方法を提案している。
すなわち、本発明のNDフィルタの製造方法は、基板と蒸着源のうちの一方を回転機構により回転させ、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも2種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成する成膜工程を有するNDフィルタの製造方法であって、
前記成膜工程において、前記成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有し、前記スリット型マスクと前記蒸着源との間に設けられたマスク機構を、前記蒸着源に対して固定した位置関係で、前記回転機構により前記基板と前記蒸着源の一方を回転させ、前記スリット型マスクに対して固定された位置関係の前記基板上に前記グラデーション濃度分布を有する膜を成膜することを特徴としている。
図1は本実施の形態に用いる真空蒸着機の構成を説明する図であり、(a)は真空蒸着機におけるチャンバー内の構成を示す簡易図、(b)は基板の拡大図である。
図1において101は蒸着傘であり、また、102は成膜を施す基板、103は蒸着源、104は実際に成膜を実施する基材、105は基材104を固定するための基板治具、106はマスク、107はマスク機構である。真空蒸着機においては蒸着傘101によって回転機構が構成され、蒸着傘101に成膜するための基板が取り付けられている。なお、本実施の形態において説明する基板102とは、図1(b)に示すように基板治具105に基材104がセットされた状態のものを意味している。
図2は図1(a)で示すマスク機構を鳥観から垂直に見下ろした際のマスク機構の鳥観図であり、図3、図4はマスク機構の別の形態の構成例を示す鳥観図である。
ここでは、説明の簡略化の為、マスク機構107の鳥観図的外形は蒸着傘101と全く同様で、断面図的には同一平面上に存在する平板であり、図2で示すように蒸着粒子を通過させる或る一定の蒸着粒子通過領域110を持っており、成膜装置内でのマスク機構107の位置は、各成膜基板に設けたマスク106の全てよりも蒸着源103側で、蒸着源103から最も距離を持ち、図1のように蒸着傘からZ軸方向に平行移動した位置に配置されている事として説明する。しかしながら、実際は、マスク機構の形態は、図3に示すような蒸着粒子通過領域110’、あるいは図4に示すような蒸着粒子通過領域110”を有する様に、作製したい濃度分布によっては様々な形態を採ることが考えられる。同様に、成膜装置内でマスク機構が配置される位置も様々の形態が考えられる。
まず、従来例の真空蒸着法による成膜について説明すると、従来例においては、図1(a)の様にチャンバー内の基板は蒸着傘101に備え付けられ、この蒸着傘101と共に基板102が回転し成膜が行われる。その際、基板に所定間隔を置いて設けたマスクを取りつけ、このマスクを前記基板と一体的に蒸着傘101と共に回転させることにより、蒸着する蒸着粒子がマスクを通過し基板に到達できたり、マスク106に遮られ基板102まで到達できなかったりすることで、成膜する構成が採られていた。
図6に、本実施の形態によるマスク機構107を用いてシミュレーションした結果の膜厚分布の一例を示す。なお、図7は図6のパラメータとなっている基板上の位置Δxにおける、成膜側の位置関係を示す図である。
本実施例は、上記した本発明の構成及び実施の形態を、光量絞り用NDフィルタの作製方法に適用したものであり、これらを図を用いて説明する。
まず、材質厚75μmのプラスチック基材(以下、PET基材と記す)上に、真空蒸着法により図10に示す膜構成のうち第1層から最表層手前までを形成した。
マスク機構107は図2に示す形態のものを使用し、図1(a)に示す様に、各成膜基板に設けたマスクの全てよりも蒸着源側で、蒸着源から最も距離を持ち、蒸着傘からZ軸方向に平行移動した位置に配置した。
マスク機構の外形は、蒸着傘と同じものを使用し、マスクのスリット形状は図5で示す直線形を使用した。
以上のように第1層から最表層まで成膜した後、110℃ 1時間 空気中で熱処理を行った。
110℃を選んだのは、100℃未満では環境安定性向上の効果が不十分であり、130℃を超えると基材の熱的劣化を生じて膜にクラックが発生する等問題が発生する。したがって、熱処理の温度は、110℃から130℃の間が適当である。
このような現象が起きる要因としては、真空蒸着時の基板温度が低いことがあげられる。
膜の封止密度は成膜時の基板温度が大きく影響し、温度が低いと封止密度が低くなり、水分・酸素等を透過しやすく、そのため吸収膜であるTixOy自体の酸化が促進されること、及びそれを保護するAl2O3膜等の誘電体膜の保護効果が少ないことの両方の影響から透過率が上昇するものと考えられる。熱処理を行うと環境安定性が向上するのは、“エージング効果”であると考えられる。
通常、ガラス基板を用いる場合、基板温度は200℃〜250℃、望ましくは300℃前後まで加熱して成膜する。
しかし、今回のように基板がプラスチックの場合、基板が熱収縮を起こさない温度で成膜する必要があり、その基板温度は150℃未満に制約される。
但しこれは第1層から第8層までの分布である。最表層は一定膜厚である。
このように成膜されたNDフィルタが所定の形状に切り抜かれて羽根に接着されるまでの一例を示すと、図18(a)のようなパターンを作製して、略三角形の形状に切り抜き、その後、この略三角形状に切り抜かれたNDフィルタ1を絞り羽根2に貼って図19の状態になる。フィルタ1枚は図18(b)のようになっていて、0が端面部でそこからX1X2X3までが濃度変化領域である。X3からX4は最も濃い均一濃度が形成されている。X4からX5はフィルタを羽根に接着するための接着領域である。
この時の距離と膜厚の構成は、第1層から最表層手前までの8層の構成においては図12、第1層から第9層までの構成においては図13に示すようになった。またこの時の距離と透過率は図14、距離と反射率の関係は図15に示すようになった。
さらに分光透過率は16図、分光反射率は図17に示すようになった。
102:基板
103:蒸着源
104:基材
105:基板治具
106:マスク
107:マスク機構
108:マスク機構に設けたスリットの幅
109:蒸着傘とマスク機構との距離
110、110’、110”:蒸着粒子通過領域
Claims (4)
- 基板と蒸着源のうちの一方を回転機構により回転させ、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記蒸着源から到達した成膜材を付着させ、少なくとも2種類以上の層からなる膜を積層してグラデーション濃度分布を有する膜を形成する成膜工程を有するNDフィルタの製造方法であって、
前記成膜工程において、前記成膜材を通過させるための成膜材通過領域を有し、前記スリット型マスクと前記蒸着源との間に設けられたマスク機構を、前記蒸着源に対して固定した位置関係で、前記回転機構により前記基板と前記蒸着源の一方を回転させ、前記スリット型マスクに対して固定された位置関係の前記基板上に前記グラデーション濃度分布を有する膜を成膜することを特徴とするNDフィルタの製造方法。 - 前記成膜工程において、前記スリット型マスクのスリット幅、または前記スリット型マスクと基板上からの距離、または前記マスク機構の成膜材通過領域の形状の少なくとも1つを設定することを特徴とする請求項1に記載のNDフィルタの製造方法。
- 前記基板上に成膜した後、100℃から130℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のNDフィルタの製造方法。
- 前記成膜する工程は、前記マスク機構を用いて成膜する工程と、前記マスク機構を用いずに成膜する工程とを含み、前記マスク機構を用いて成膜する工程によって最表層以外のグラデーション濃度分布を有する膜を成膜し、前記マスク機構を用いずに成膜する工程によって最表層の膜を成膜することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のNDフィルタの製造方法。
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