JP4484934B2 - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents
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Description
上記の目的を達成するために、本発明の第1の側面は、基板と、前記基板上に形成された機能素子と、前記機能素子に接続された第1の端子電極と、前記第1の端子電極の上に積層された第2の端子電極を有する複数の端子と、一端が前記第1の端子電極に電気的に接続され且つ他端が前記基板の端に達する給電ラインとを具備し、前記給電ラインが、前記端に直接達する第1の部分と、前記第1の部分から分岐し、その後前記端に達する第2の部分を有する電子部品である。
本発明の第2の側面は、第1の側面において、前記第1の部分が、前記端に垂直であることを特徴とする。
本側面によれば、切削前の基板上に於いて、対向する第1の端子電極同士を最短距離で接続することができる。従って、給電ラインの抵抗が小さくなる。
本発明の第3の側面は、第1の側面において、前記第2の部分が、前記端に対して平行に進んだ後、折れ曲がることを特徴とする。
本発明の第4の側面は、第1の側面において、前記第2の端子電極が、メッキで形成されていることを特徴とする。
第4の側面によれば、給電ラインが基板の端に沿って切残されることがないので、メッキで端子を厚く形成する電子部品の歩留まりが向上する。
本発明の第5の側面は、第1の側面において、前記機能素子が、櫛型電極を含む弾性表面波デバイスであることを特徴とする。
本発明の第6の側面は、第5の側面において、前記櫛型電極、前記第1の端子電極、及び前記給電ラインが、同一の金属層で形成されていることを特徴とする。
本発明の第7の側面は、第6の側面において、前記給電ラインの上に、他の金属層が積層されていることを特徴とする。
本発明の第8の側面は、基板と、前記基板上に形成された機能素子と、前記機能素子に接続された第1の端子電極と、前記第1の端子電極の上に積層された第2の端子電極を有する複数の端子と、一端が前記第1の端子電極に電気的に接続され且つ他端が前記基板の端に達する給電ラインを具備し、前記端を越えて前記給電ラインが延長された仮想の配線が、同一構造を有する仮想の電子部品が備える仮想の給電ラインに接続するように、前記仮想の電子部品を前記基板の周囲に並置した場合に、前記給電ラインと前記仮想の配線の延長部分と前記仮想の給電ラインが接続された復元給電ラインが、一の前記第1の端子電極から始まり、その後、前記端と前記仮想の電子部品の間の溝を孤立した線分で横切り、前記仮想の電子部品が有する一の仮想の前記第1の端子電極に達し、その後、前記溝を孤立した線分で横切り、他の前記第1の端子電極に達することを繰り返しながら、前記溝の一端側から他端側に達する電子部品である。
本発明の第9の側面は、第8の側面において、前記給電ラインは、前記第1の端子を出発した後、一旦元来た経路を逆行し、その後分岐することを特徴とする。
本発明の第10の側面は、基板の切削が予定されている第1の切削予定領域の両側に沿って配列された、電子部品となる複数の領域に設けられる複数の第1の端子電極と、一の前記第1の端子電極から始まり、その後、前記第1の切削予定領域及び前記第1の切削領域に交差する第2の切削予定領域の何れか一方を孤立した線分で横切り、更に横切って到達した領域に設けられる一の前記第1の端子電極に達することを繰り返しながら、前記切削予定領域の一端から他端に達する給電ラインを形成し、前記給電ラインから供給する電流によって、前記第1の電極の上に、電解メッキによって第2の端子電極を形成し、前記切削予定領域で、前記基板を切削する電子部品の製造方法である。
本発明の第11の側面は、第10の側面において、前記給電ラインを形成する工程で、前記切削予定領域の中央に金属層によってダイシングラインを形成し、前記基板を切削する工程で、前記ダイシングラインを目印として、前記基板を切削することを特徴とする。
本発明の第12の側面は、第11の側面において、前記ダイシングラインが、分断されずに複数の前記領域に沿って形成されていることを特徴とする。
本発明の第13の側面は、第11の側面において、前記ダイシングラインの側面に複数の突起が形成されていることを特徴とする。
本発明の第14の側面は、第10の側面において、前記給電ラインが、前記第1の切削予定領域を挟んで真向いに配置される一対の前記第1の端子電極を、前記第1の切削予定領域を横切って接続する第1の部分と、前記第1の部分から分岐し、且つ前記第1の切削予定領域を挟んで斜めに配置される一対の前記第1の端子電極を、前記第1の切削予定領域を横切って接続する第2の部分を有することを特徴とする。
本発明の第15の側面は、第14の側面において、前記第1の部分が直線であることを特徴とする。
本発明の第16の側面は、第14の側面において、前記第2の部分がクランク状であることを特徴とする。
本実施の形態は、分岐し且つ一端が基板の端に達する給電ラインを有する弾性表面波部品及びその製造方法に関するものである。
図5は、本実施の形態に従う弾性表面波デバイス22の製造手順を示すフロー図である。また、図6乃至図10は、本実施の形態に従う弾性表面波デバイス22の製造手順を、図4のA−A´線に沿った断面に基づいて説明する工程断面図である。
まず、図6(a)に示すように、LiTaO3からなる圧電基板24を用意する。
次に、図6(b)に示すように、アルミニウム又はアルミニウム合金を用いてインターディジタルトランスデューサ26(interdigital transducer; 以下、IDTと称する)と、このIDT26に接続される第1の端子電極30と、幅40μmの給電ライン29と、幅10μmのダイシングライン32を、圧電基板24の上に同時に形成する。アルミニウム又はアルミニウム合金の厚さは、例えば、100nm〜400nmである。
次に、IDT26等の形成された圧電基板24の上に、スパッタによりSiO2膜48を堆積する(図6(c)参照)。
次に、フォトリソグラフィ法とエッチングにより、給電ライン29と第1の端子電極30の上に堆積したSiO2膜を除去する(図7(a))。
次に、リフトオフ法と蒸着法によって、ステップ4によって開口された、給電ライン29及び第1の端子電極30の上に、厚さ200nmのTi膜50と厚さ150nmのAu膜52を順次蒸着法によって堆積する。
次に、給電ライン29にTi膜50とAu膜52が積層された圧電基板24の上に、感光性のエポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂を塗布し、その後加熱して硬化させる。
次に、IDT26、第1の端子電極30、及び切削予定領域34の上で開口したエポキシ層あるいはポリイミド層56の上に、第1の感光性樹脂シート58を貼り付ける。
次に、給電ライン29から供給する電流によって、第1の電極30の上に、電解メッキによって厚い第2の端子電極60を形成する(図8(b)参照。)。
次に、第2の端子電極60の上に、ボール状の半田62を装着する(図9(a)参照)。
次に、ダイシングライン32を目印として、ダイサー64により、切削予定領域34で圧電基板24を切削する(図9(b)参照)。
図15は、切削後の圧電基板の平面図である。図15に示された圧電基板では、右側の切削領域14が、切削予定領域34からズレている。
最後に、以上の手順に従って製造される弾性表面波デバイス22の構成上の特徴について説明する。
本実施の形態は、ダイシングラインの側面に突起を設けた電子部品の製造方法に関する。
実施の形態1に従う電子部品の製造方法では、図13に示すように、切削予定領域34,34´を孤立した線分a,bとして横切る給電ライン29を機能素子の形成された基板上に設ける。
図20に示すように、右側の給電ライン88は、正しく分断されている。しかし、左側の給電ライン88´は、分断されていない。
図21及び図22は、実施の形態1の変形例である。
6・・・半導体基板 8・・・切削幅 10・・・給電ライン
12,12´・・・チップ化予定領域 14,14´・・・切削領域
16,16´・・・(給電ラインの)切残し
18・・・(給電ラインの切残しがある)チップ
20,20´・・・バンプ 22・・・弾性表面波デバイス
24・・・圧電基板 26・・・弾性表面波素子
28・・・IDT 29,29´・・・給電ライン(実施の形態1)
30,30´・・・第1の端子電極 32・・・ダイシングライン
34,34´・・・切削予定領域 36・・・(電子部品となる)領域
40・・・真向いに配置された一対の第1の端子電極
42・・・給電ラインの第1の部分
44・・・斜めに配置された一対の第1の端子電極
46,46´・・・給電ラインの第2の部分 48・・・SiO2膜
50・・・Ti膜 52・・・Au膜
54・・・Al膜 56・・・ポリイミド層
58・・・第1の感光性樹脂シート 59・・・第2の感光性樹脂シート
60・・・第2の端子電極 62・・・半田 64・・・ダイサー
66・・・端子 68・・・(基板の)端
70・・・(切削後の給電ラインの)第1の部分
72・・・(切削後の給電ラインの)第2の部分
74・・・仮想の弾性表面波デバイス 75・・・仮想の配線の延長部分
76・・・仮想の給電ライン
78・・・復元された給電ライン 80・・・溝
82・・・突起 84・・・給電幹線
86・・・給電枝線 88,88´・・・給電ライン(比較例)
Claims (6)
- 基板の切削が予定されている第1の切削予定領域の両側に沿って配列された、電子部品となる複数の領域に設けられる複数の第1の端子電極と、
一の前記第1の端子電極から始まり、その後、前記第1の切削予定領域及び前記第1の切削領域に交差する第2の切削予定領域の何れか一方を線分で横切り、更に横切って到達した領域に設けられる一の前記第1の端子電極に達することを繰り返しながら、前記切削予定領域の一端から他端に達する給電ラインを形成し、
前記給電ラインから供給する電流によって、前記第1の電極の上に、電解メッキによって第2の端子電極を形成し、
前記切削予定領域で、前記基板を切削する電子部品の製造方法であって、
前記給電ラインを形成する工程で、前記切削予定領域の中央に金属層によってダイシングラインを形成し、
前記基板を切削する工程で、前記ダイシングラインを目印として、前記基板を切削することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 請求項1に記載の電子部品の製造方法において、
前記ダイシングラインが、分断されずに複数の前記領域に沿って形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 請求項1に記載の電子部品の製造方法において
前記ダイシングラインの側面に複数の突起が形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 請求項1に記載の電子部品の製造方法において、
前記給電ラインが、
前記第1の切削予定領域を挟んで真向いに配置される一対の前記第1の端子電極を、前記第1の切削予定領域を横切って接続する第1の部分と、
前記第1の部分から分岐し、且つ前記第1の切削予定領域を挟んで斜めに配置される一対の前記第1の端子電極を、前記第1の切削予定領域を横切って接続する第2の部分を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 請求項4に記載の電子部品の製造方法において、
前記第1の部分が直線であることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 請求項4に記載の電子部品の製造方法において、
前記第2の部分がクランク状であることを特徴とする電子部品の製造方法。
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