JP4456958B2 - 光波干渉測定装置 - Google Patents
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Description
L=(λ/2)(N+b/a) ・・・(1)
b/aは端数部と呼ばれ、ベースプレートの干渉縞とブロックゲージの干渉縞との位相のずれとして観測されるが、この位相ずれを目視により読み取るのでは、測定者の癖などのために、高精度化が難しく、また測定者の疲労も大きい。
S=λfp/(2 tanr)
となる。
λf/(4 tanr)
以下とすることができる。
L+ΔL+LαΔt=(λv /2n)(N+b/a) ・・・(2)
ここで、Lはブロックゲージ呼び寸法、ΔLはブロックゲージ製作誤差、αはブロックゲージの熱膨張係数、Δtは標準温度(20℃)からの温度差、λv は、干渉光の真空中の波長、nは干渉光路の空気の屈折率、Nは干渉縞の整数部、b/aは干渉縞の端数部である(図3も参照のこと)。
I(x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) +δi] ・・・(3)
ここで、I'(x,y)は干渉縞の移動に依存しない光強度の成分であり、I"(x,y)は干渉縞の光強度の振幅であり、δi は位相のシフト量を表す。I'(x,y)、I"(x,y)、φ(x,y) が未知数であるから、位相がシフトされた最低3つの干渉縞の強度データが得られれば、測定対象物の表面の位相情報φ(x,y)、すなわち測定対象物の表面の、光路方向における位置(x,y) (ただし、波長の2分の1の範囲における位置)が求められる。基本的な上記の式を解く手法(位相シフトδi 、計算式など)の違いによって、各種のφ(x,y) の解法についてのアルゴリズムが存在している。例えば、ハリハラン(Hariharan) アルゴリズムでは、5枚の画像より干渉縞の位相を求めている。具体的には、光学楔50を移動させ、等間隔αで位相シフトδi を変化させる。したがって、位相シフトδi は、
δi =−2α,−α,0,α,2α i =1,2,3,4,5
となる。i が1,2,3,4,5のとき、それぞれ、式(3)は以下のようになる。
I1 (x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) −2α] ・・・(4a)
I2 (x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) −α] ・・・(4b)
I3 (x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) ] ・・・(4c)
I4 (x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) +α] ・・・(4d)
I5 (x,y)=I'(x,y)+I"(x,y)cos[φ(x,y) +2α] ・・・(4e)
これら式より次式が得られる。
tan[φ(x,y)]/2 sinα=(I2 −I4 )/(2I3 −I5 −I1 ) ・・・(5)
αをπ/2とすると、干渉縞の位相の算出式は、次式となる。
φ(x,y) = tan-1[2(I2 −I4 )/(2I3 −I5 −I1 )] ・・・(6)
S=λfp/(2 tanr) ・・・(7)
撮影間隔は、前述のように4分の1周期以下とする必要があるから、p≦0.5となり、移動速度Sは、次式とする必要がある。
S≦λf/(4 tanr) ・・・(8)
ε=(φp(x,y)−φb(x,y))/2π ・・・(9)
位相φ(x,y) と、測定対象物の表面の光路方向の位置h(x,y) (以下高さという)の関係は、次式で表される。
φ(x,y) =4πh(x,y) /λ ・・・(10)
したがって、位置(x,y) における測定対象物表面の高さは、位相φ(x,y) から求めることができる。計測領域の内の所定の測定点において、この高さを求めることにより、測定対象物表面の形状を求めることができる。また、測定点はCCDの画素ごとに対応させることができる。ブロックゲージ34の表面の位相情報φb(x,y)と、ベースプレート36の表面の位相情報φp(x,y)の一例が図4、図5に表されている。式(10)より、位相情報と高さの情報は、比例関係にあるので、図4、図5に表れている形状は、ブロックゲージ、ベースプレートそれぞれの表面の形状を示すものでもある。
Claims (2)
- 光源からの波長(λ)の光を分割し、その一方をベースプレートおよびこれの上に載置した被測定物の表面にて反射させ、分割された他方の光と干渉させて、ベースプレート表面の干渉縞と被測定物表面の干渉縞との位相ずれに基づき被測定物の寸法測定を行う光波干渉測定装置であって、
分割された光の光路の一方に挿入され、厚さに応じて通過する光の位相を変化させる光学楔であって、当該光学楔の表裏の面の一方は、他方に対し一定角度(r)で傾いている光学楔と、
前記光学楔を光路に直交する方向に一定の移動速度(S)で移動させ、その光路における光学楔の厚さを変える光学楔移動手段と、
前記光学楔を一定速度(S)で移動させつつ、1秒当たりf回の等時間間隔で干渉縞を撮影する撮影手段と、
を有し、
前記移動速度(S)は、
S≦λf/(4 tanr)
である、光波干渉測定装置。 - 光源からの波長(λ)の光を分割し、その一方をベースプレートおよびこれの上に載置した被測定物の表面にて反射させ、分割された他方の光と干渉させて、ベースプレート表面の干渉縞と被測定物表面の干渉縞との位相ずれに基づき被測定物の寸法測定を行う光波干渉測定方法であって、
分割された光の光路の一方に、厚さに応じて通過する光の位相を変化させる光学楔であって、当該光学楔の表裏の面の一方は、他方に対し一定角度(r)で傾いている光学楔を挿入し、
前記光学楔を光路に直交する方向に一定の移動速度(S)で移動させ、その光路における光学楔の厚さを変え、
前記光学楔を一定速度(S)で移動させつつ、1秒当たりf回の等時間間隔で干渉縞を撮影し、
このとき、前記移動速度(S)は、
S≦λf/(4 tanr)
である、光波干渉測定方法。
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JP2004232117A JP4456958B2 (ja) | 2004-08-09 | 2004-08-09 | 光波干渉測定装置 |
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JP2006047241A JP2006047241A (ja) | 2006-02-16 |
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JP5243706B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2013-07-24 | 株式会社ミツトヨ | 光波干渉測定装置 |
EP2399098B1 (en) | 2009-02-23 | 2018-11-21 | Dental Imaging Technologies Corporation | Apparatus for high-speed phase shifting for interferometric measurement systems |
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2004
- 2004-08-09 JP JP2004232117A patent/JP4456958B2/ja active Active
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