JP4441711B2 - 有機材料の安定剤としての１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を有するブロックオリゴマー - Google Patents

Description

本発明は１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を有するブロックオリゴマー、有機材料のための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤としての上記化合物の使用、および安定化された有機材料に関するものである。
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体での合成ポリマーの安定化は、例えばＵＳ−Ａ−４０８６２０４号、ＵＳ−Ａ−４３３１５８６号、ＵＳ−Ａ−４３３５２４２号、ＵＳ−Ａ−４２３４７０７号、ＵＳ−Ａ−４４５９３９５号、ＵＳ−Ａ−４４９２７９１号、ＵＳ−Ａ−５２０４４７３号、ＥＰ−Ａ−５３７７５号、ＥＰ−Ａ−３５７２２３号、ＥＰ−Ａ−３７７３２４号、ＥＰ−Ａ−４６２０６９号、ＥＰ−Ａ−７８２９９４号およびＧＢ−Ａ−２３０１１０６号に記載されている。
本発明は特に次式（Ｉ）：

〔式中、ｎは２ないし１４の数を表し、
基Ｒ₁は互いに独立して水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または−Ｏ−Ｒ₁はオキシル基を表し、
基Ｒ₂は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁（Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または水素原子を除く下記のＲ₄の定義の一つを有する）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は次式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：

（式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；そして
基Ｘ₃は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す）で表される基を表し、
基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ＣＮ基を表し、
Ｂは−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または次式（ＩＩ）：

で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相違して、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または次式（ＩＩＩ）：

（式中、Ｙは−Ｏ−基、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基または＞Ｎ−ＣＨ₃基を表す）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基はさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
Ｘは−Ｏ−基または＞Ｎ−Ｒ₆基を表し、
Ｒ₆は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または次式（ＩＶ）：

で表される基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そして
基Ｒは互いに独立してＲ₆に対して定義された意味の一つを有するが、
ただし式（Ｉ）中の個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₂の各々は同じか、または異なる意味を有する〕で表される化合物に関する。
式（Ｉ）中の個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₂の各々は好ましくは同じ意味を有する。
式（Ｉ）中、基Ｒおよび次式：

で表される基はランダム分布またはブロック分布を有し得る。
好ましくは炭素原子数１ないし１８のヒドロカルビル基（hydrocarbyl）としてのＲ₁は例えば炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基；炭素原子数６ないし１０の二環式または三環式ヒドロカルビル基、または非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基である。
炭素原子数１８以下のアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。Ｒ₁は好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基、例えば炭素原子数６ないし１２のアルキル基、特にヘプチル基またはオクチル基である。Ｒ₆は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル基である。Ａの好ましい意味の一つは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
−ＯＨ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は２−ヒドロキシエチル基である。
炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメトキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基である。
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
式（ＩＩＩ）で表される基は好ましくは次式：

で表されるものである。
式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は次式：

で表される基である。次式：

で表される基が特に好ましい。
非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。非置換または置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
炭素原子数６ないし１０の二環式または三環式ヒドロカルビル基の好ましい例は１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基である。
非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基の好ましい例はシクロヘキセニル基である。
炭素原子数１８以下のアルケニル基の例は、アリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニル基である。１位の炭素原子が飽和であるアルケニル基が好ましい。
炭素原子数５ないし１８のアルキニル基の好ましい例はオクチニル基である。
１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基、３，５−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およびブトキシフェニル基である。
非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい。
炭素原子数１２以下のアシル基（脂肪族，環状脂肪族または芳香族基）の例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノニル基、ヘキサノニル基、ヘプタノニル基、オクタノニル基およびベンゾイル基である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基およびベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に好ましい。
アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基である。
（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基の特に好ましい例はシクロヘキソキシカルボニル基である。（炭素原子数５ないし７のシクロアルコキシ）カルボニル基が好ましい。
（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基の例は、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基およびオクチルアミノカルボニル基である。（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基が好ましい。
（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基の特に好ましい例は、シクロヘキシルアミノカルボニル基である。（炭素原子数５ないし７のシクロアルキル）アミノカルボニル基が好ましい。
（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基の特に好ましい例はベンジルアミノカルボニル基である。
炭素原子数１２以下のアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ₂は例えば炭素原子数２ないし８のアルキレン基または炭素原子数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし６のアルキレン基、好ましくはヘキサメチレン基である。
炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基の例は３−ヘキセニレン基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例はシクロヘキシレン基である。
１，４−ピペラジンジイル基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、次式：

で表されるものである。
−Ｏ−、例えば１、２または３個の−Ｏ−により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、３−オキサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジイル基および４，７，１０−トリオキサトリデカン−１，１３−ジイル基である。
＞Ｎ−Ｘ₁により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、特に−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はシクロヘキシレンジメチレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例はメチレンジシクロヘキシレン基およびイソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はフェニレンジメチレン基である。
変数ｎは好ましくは２ないし８、特に２ないし６の数である。
Ｒは好ましくは水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、シクロヘキシル基または式（ＩＶ）で表される基、特に式（ＩＶ）で表される基である。
Ｒ₁は好ましくは、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基；炭素原子を６ないし１０個有する二環式または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基であるか、または−Ｏ−Ｒ₁基はオキシルである。
Ｒ₁は特に水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換またはメチル基により置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；シクロヘキセニル基、α−メチルベンジル基または１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基であり、例えばメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基である。
Ａは好ましくはアセチル基、（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基であり、特にアセチル基または（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基である。
基Ｂは好ましくは次式：

で表される基である。
上記式（Ｉ）中、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし７のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし７のシクロアルキル）アミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、アリル基またはベンジル基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル基または２もしくは３位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２もしくは３のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、そして
Ｒ₆が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル基、式（ＩＶ）で表される基または２もしくは３位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２もしくは３のアルキル基を表す化合物が好ましい。
上記式（Ｉ）中、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、シクロヘキソキシカルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロヘキシル基、アリル基またはベンジル基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、非置換またはメチル基により置換されたフェニル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または２もしくは３位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基もしくは４−モルホリニル基により置換された炭素原子数２もしくは３のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに４−モルホリニル基を表し、そして
Ｒ₆が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基、式（ＩＶ）で表される基または２もしくは３位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基もしくは４−モルホリニル基により置換された炭素原子数２もしくは３のアルキル基を表す化合物もまた好ましい。
式（Ｉ）で表される他の好ましい化合物は、式中、
ｎが２ないし６の数を表し、
Ｒが式（ＩＶ）で表される基を表し、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基またはアリル基を表し、
Ｂが−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または式（ＩＩ）で表される基を表し、
Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基または２−メトキシエチル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに４−モルホリニル基を表し、
Ｘが＞ＮＲ₆基を表し、そして
Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すものである。
式（Ｉ）で表される特に好ましい化合物は、式中、
ｎが２ないし６の数を表し、
Ｒが式（ＩＶ）で表される基を表し、
Ｒ₁がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｂが−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または式（ＩＩ）で表される基を表し、
Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに４−モルホリニル基を表し、
Ｘが＞ＮＲ₆基を表し、そして
Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すものである。
式（Ｉ）式中、
ｎが２ないし６の数を表し、
Ｒが式（ＩＶ）で表される基を表し、
Ｒ₁がメチル基、オクチル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基または（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基を表し、
Ｂが式（ＩＩ）で表される基を表し、
Ｘが＞ＮＲ₆基を表し、そして
Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す化合物もまた特に好ましい。
多分散性（多分散度，polydispersity）はポリマー化合物の分子量分散を示す。本出願において、多分散性は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比である。Ｍｗ／Ｍｎの値が１であることは、その化合物が単分散性であり、そして１つの分子量のみを有し、かつ分子量分散がないことを意味する。狭い分子量分散は１に近似する多分散性Ｍｗ／Ｍｎにより特徴づけられる。
一般に、本発明の化合物は多分散性Ｍｗ／Ｍｎにより制限されない。
式（Ｉ）に相当する化合物は、多分散性Ｍｗ／Ｍｎが１で、かつｎが２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４である単分散性化合物であっても、分子量分散を有する多分散性化合物であってもよい。そのような多分散性化合物は例えば変数ｎによってのみ異なる上記式（Ｉ）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物に相当する。該混合物の多分散性Ｍｗ／Ｍｎは例えば１．１ないし１．７、１．１ないし１．６５、１．１ないし１．６、１．１ないし１．５５または１．１ないし１．５である。ｎはこの混合物において好ましくは２、４および６である。
多分散性Ｍｗ／Ｍｎに対するその他の例は１．２ないし１．７、例えば１．２ないし１．６５、１．２ないし１．６、１．２ないし１．５５または１．２ないし１．５である。
本発明の化合物は例えば以下の方法によって製造され得る。
方法１）：次式（ＩＶ）：

で表される基を既に有する出発物質を使用する。
方法２）：出発物質として次式（Ｉ−０）：

（式中、ｎ、ＡおよびＲ₂は上記と同じ意味を有し、そしてＲ^*およびＢ^*は本明細書で下に定義される意味を表す）で表されるブロックオリゴマーを使用し、そして該ブロックオリゴマーに存在する次式（ＩＶ−０）：

で表される基を式（ＩＶ）で表される基に変える。
上記混合物は方法１）に従って以下のように調製され得る：
１）次式（α）：

で表される化合物を次式（β）：

で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式（γ）：

で表される化合物を得、
２）式（γ）で表される化合物を式（β）で表される化合物と１：２ないし１：３、好ましくは１：２ないし１：２．５のモル比で、特に１：２のモル比で反応させて、ｎが２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４であるか、または２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１または１２であるか、好ましくは２、３、４、５、６、７、８、９または１０であるか、または好ましくは２、３、４、５、６、７または８、特に２、４および６である次式（δ）：

で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物からなる混合物を得、
３）２）で得られた混合物を次式（ε）：
Ａ’−Ｘ’ （ε）
で表される化合物と、または次式（ζ）：
Ａ”−ＮＣＯ （ζ）
で表される化合物と、およそ化学量論的比率で反応させて、所望の混合物を得る。
上記各式において、
基Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₂およびＢは上で定義したものと同じ意味を表し、
Ｘ’は脱離基、例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、
Ａ’は炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または−ＣＨ₂ＣＮ基を表し、そして
Ａ”は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表す。
反応１）ないし３）は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われるが、ただし反応３）において式（ζ）で表される化合物が適用される場合、反応３）は無機塩基なしで行われる。
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基を表す場合、反応３）はまた、式（ε）で表される化合物の代わりに試薬として対応する酸無水物を用いて行われてもよい。
Ａがメチル基を表す場合、式（Ｉ）で表される化合物はまた、ホルムアルデヒド／ギ酸の混合物を式（δ）で表される化合物と、例えばＵＳ−Ａ−５１３０４２９号またはＵＳ−Ａ−３８９８３０３号に記載されるように反応させることにより製造されてもよい。
適当な有機溶媒の例は、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、そして特に水溶性有機ケトン、例えばメチルイソブチルケトンである。キシレンが好ましい。
無機塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。式（α）中の基ＢがＸが酸素原子である式（ＩＩ）で表される基である場合、反応１）および２）において無機塩基として炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムを使用することが適当である。
反応１）は例えば４０℃ないし７０℃、好ましくは５０℃ないし６０℃の温度で行われる。
反応２）は例えば１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
式（ε）で表される反応物が反応３）で使用される場合、該反応３）は、必要に応じて密閉容器内で例えば６０℃ないし１８０℃、好ましくは１４６℃ないし１６０℃の温度で行われる。
式（ζ）で表される反応物が反応３）で使用される場合、該反応３）は、例えば０℃ないし６０℃、好ましくは０℃ないし２５℃の温度で行われる。
可能性のある副生成物は次式（Ｉｄ）および（Ｉｅ）：

で表される化合物である。
これらの化合物の各々は全体の混合物に対して例えば３０モル％まで、好ましくは２０モル％まで、１０モル％まで、または８モル％までの量で混合物中に存在し得る。
式（α）で表される化合物は、例えば塩化シアヌルを化合物Ｂ−Ｈと化学量論的比率で有機溶媒および無機塩基の存在下に反応させることにより製造され得る。
式（α）で表される化合物の製造は、上記反応１）ないし３）におけるものと同じ溶媒および同じ無機塩基を用いることが適当である。
一般に、上記の方法において使用される出発物質は公知である。それらが市販されていない場合、公知方法と同様にして製造され得る。
Ｂが式（ＩＩ）で表される基である式（α）で表される出発物質の製造のために、ならびに式（β）で表される出発物質の製造のために、例えば次式（Ｓ−Ｉ）：

で表される化合物を使用することが適当である。
式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物は例えば１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンをヒドロペルオキシド、好ましくは第三ブチルヒドロペルオキシドと、ペルオキシド分解触媒、例えばＭｏＯ₃の存在下、炭化水素溶媒中で反応させることにより製造され得る。Ｒ₁の意味は使用される炭化水素溶媒に依存する。例えば、Ｒ₁がシクロヘキシル基である場合、使用される炭化水素溶媒はシクロヘキサンである。一般に、式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物の製造は参照により本明細書により編入されるＵＳ−Ａ−４９２１９６２号に記載されるものと類似の方法で行われてもよい。
１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンを炭化水素ラジカルとカップリングすることにより式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物を製造することもできる。そのような反応の原理は例えばR. L. Kinney等によってJ. Am. Chem. Soc., 1978, 100, 7902-7915（ヨウ化アルキルとトリｎ−ブチルスズヒドリドとの反応）に、およびD. W. Grattan等によってJ. Polym. Degrad. and Stability 1979, 69（ジ第三ブチルペルオキシドおよびシクロヘキサンの溶液の光分解）に記載されている。上記の反応は例えばＵＳ−Ａ−５０２１５７７号（実施例５および１６）ならびにＵＳ−Ａ−５２０４４７３号（実施例７ないし１０）に開示され、そして適当な出発物質を使用することにより式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物の製造に適用され得る。
Ｒ₁がメチル基を表す場合、式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物の製造は１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンを過酸化水素と、ジメチルスルホキシド中の硫酸鉄七水和物の存在下で反応させることにより、例えばＵＳ−Ａ−５３７４７２９号に開示されるように好都合に行われる。
１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンの製造は例えばNature 196, 472-474, Chemical Abstracts 58: 56264およびBeilstein EIII/IV 21 3279に記載されている。
以下の例Ｓ−ＡおよびＳ−Ｂは式（Ｓ−Ｉ）で表される化合物の製造をより詳細に説明する。
例Ｓ−Ａ（出発物質）：
１−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンの製造

５．０リットルの４つ口機械的攪拌フラスコに１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン（３００ｇ，１．７６モル）、硫酸鉄七水和物（５１３．７ｇ，１．８５モル）およびジメチルスルホキシド（１４５０ｇ）を仕込む。過酸化水素３０％（２７９．２ｇ，２．４６モル）を１時間４５分かけて添加する。温度を２９−３２℃に維持する。内容物を２５−３０℃でさらに３０分間攪拌し、そして次に１０℃未満に冷却する。水（１２５０ｍｌ）を添加し、そして混合物を酢酸エチル７５０ｍｌで４回に分けて抽出する。一緒にした抽出物を２×１．０ＬのＨ₂Ｏ、次に１×５００ｍｌの飽和ＮａＣｌで洗浄し、次いで無水のＭｇＳＯ₄で乾燥する。酢酸エチルを蒸発させ、生成物を蒸留する（８２−８４℃／０．３３×１０^-2ｂａｒ）と、淡黄色油状物２５４ｇが得られる（収率：理論値の７８％；ＩＲスペクトル：ケトンカルボニル，１７１０ｃｍ^-1）。
例Ｓ−Ｂ（出発物質）：
１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドンの製造

シクロヘキサン（２１５ｍｌ，２．０モル）、第三ブチルヒドロペルオキシド７０％水溶液（７７．１ｇ，０．６モル）、三酸化モリブデン（１．４４ｇ，０．０１モル）および１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリドン（３４ｇ，０．２モル）の混合物を、パレットトラップを備えた５００ｍｌフラスコに仕込む。混合物をそれ以上水が収集されなくなるまで還流下（８０℃）で２時間攪拌する。次に、混合物を重力により加圧ビン中に濾過し、そして三酸化モリブデン（１．４４ｇ，０．０１モル）を添加する。次に混合物を攪拌下に１０５℃（２．３４ｂａｒ）まで加熱し、そして色が濃い橙色から淡い黄色に変化するまで５時間保持する。混合物を濾過し、そして透明な溶液を亜硫酸ナトリウム１０％水溶液（１００ｍｌ）で、次に水（２×５０ｍｌ）で洗浄する。得られた透明溶液を硫酸ナトリウムで乾燥させ、そして次に濃縮して目的物質５０ｇを透明黄色油状物として得る（マススペクトル：ｍ／ｅ＝２５３）。
より詳細には、Ｂが式（ＩＩ）で表される基である式（α）で表される出発物質は次式：

に相当する。
Ｘが基＞Ｎ−Ｒ₆である場合、そのような化合物は例えば下記のようにスキーム１に従って製造され得る。
スキーム１：

スキーム１の反応ａ）は例えばＥＰ−Ａ−３０９４０２号（特に実施例４５および４６）に記載の方法と同様に行われ得、そしてスキーム１の反応ｂ）はＵＳ−Ａ−４０８６２０４号に記載された方法と同様に行われ得る。
Ｘが酸素原子である式（α−Ｉ）で表される化合物は、例えば下記のようにスキーム２に従って製造され得る。
スキーム２：

Ｌは例えばアルカリ金属塩、例えばリチウム、ナトリウムまたはカリウムである。反応は不活性有機溶媒、例えばトルエン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中−２０℃ないし７０℃、好ましくは０℃ないし６０℃の温度で、適当なモル比の反応物を用いて行われ得る。
式（Ｓ−ＩＩ）で表される化合物は、例えば適当な４−ヒドロキシピペリジン誘導体をアルカリアルコレートまたはアルカリ金属と、不活性有機溶媒、例えばトルエン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、還流温度で処理し、同時に反応の間に形成されたアルコールを留去することにより得られ得る。４−ヒドロキシピペリジン誘導体の製造はＥＰ−Ａ−３０９４０２号（特に実施例１２）に記載の方法と同様に行われ得る。
Ｒが例えば式（ＩＶ）で表される基である式（β）で表される出発物質は例えばスキーム３に従って製造され得る：
スキーム３：

反応物は例えばＥＰ−Ａ−３０９４０２号（特に実施例４５）に記載の方法と同様に行われ得る。式（β−１）で表される化合物は公知であり、そしてそれらの多くが市販されて利用可能である。式（β−１）で表されるいくつかの化合物はＷＯ−Ａ−９５／２１１５７号、ＵＳ−Ａ−４３１６８３７号およびＵＳ−Ａ−４７４３６８８号に記載されている。
多分散性Ｍｗ／Ｍｎが１の式（Ｉ）で表される化合物は上記化合物を着実に構築することにより製造され得る。そのような操作の代表的な例を以下に示す：
ｎが２である式（δ）で表される中間体は次式：

に相当し、そして式（γ）で表される化合物を式（β）で表される化合物とモル比１：１０ないし１：５０、好ましくは１：２０ないし１：４０、特に１：２０ないし１：３５で反応させることにより製造され得る。反応は例えば有機溶媒中または溶媒なしでそのまま、無機塩基の存在下で行われてもよい。溶媒および／または式（β）で表される過剰な反応物は適当な条件での蒸留により除去され得る。有機溶媒の例はトルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼンおよびジイソプロピルベンゼンである。キシレンが好ましい。無機塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。反応は例えば１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
続いて、得られた中間体を上記反応３）の条件に従ってアシル化剤またはアルキル化剤と好都合に反応させる。
特定の多分散性により特徴づけられない式（Ｉ）で表される化合物は、例えば式（α）で表される化合物を１０モル％まで過剰な式（β）で表される化合物と分子の構築を制御せずに反応させることにより製造され得る。引続き、得られた生成物を上記の式（ε）または（ζ）で表される化合物と反応させてもよい。
本発明の好ましい態様は以下のように行われる方法２）により得られる生成物に関する：
式（Ｉ−０）：

に相当するブロックオリゴマーに存在する次式（ＩＶ−０）：

で表される基を式（ＩＶ）：

（式中、Ｒ₁はヒドロカルビル基を表すか、または−Ｏ−Ｒ₁はオキシル基を表す）で表される基に変更するが、
該変更は炭化水素溶媒中、過酸化物分解触媒の存在下で式（Ｉ−０）に相当するブロックオリゴマーとヒドロペルオキシドとの反応により行われ；
上記式中、
ｎは２ないし１４の数を表し、
基Ｒ₂は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁（Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または下記のＲ₄の定義の一つを有する）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は次式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：

（式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；そして
基Ｘ₃は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す）で表される基を表し、
基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ＣＮ基を表し、
Ｂ^*は−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または次式（ＩＩ−０）：

で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相違して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または次式（ＩＩＩ）：

（式中、Ｙは−Ｏ−基、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基または＞Ｎ−ＣＨ₃基を表す）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ₃はさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基はさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
Ｘ^*は−Ｏ−基または＞Ｎ−Ｒ₆ ^*基を表し、
Ｒ₆ ^*は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または式（ＩＶ−０）で表される基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そして
基Ｒ^*は互いに独立してＲ₆ ^*に対して定義された意味の一つを有するが、
ただし式（Ｉ−０）中の個々の反復単位において、基Ｂ^*、Ｒ^*およびＲ₂の各々は同じか、または異なる意味を有する。
本発明の好ましい態様は方法２）により得られる下記の生成物に関し、該生成物は式中、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、または−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁（Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、またはＲ₄の定義の一つを有する）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂が式（ｂ）で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そしてＲ₃がさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
Ｒ₆ ^*が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または式（ＩＶ−０）で表される基を表す。
本発明の別の好ましい態様は方法２）により得られる生成物に関し、該生成物は式中、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジシクロヘキシレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、そして
Ｒ₆ ^*が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基、または式（ＩＶ−０）で表される基を表す。
本発明の別の好ましい態様はまた、方法２）により得られる生成物に関し、該生成物は式中、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ｂ^*が−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または式（ＩＩ−０）で表される基を表し、
Ｒ₄およびＲ₅が同一または相違して、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基がさらに４−モルホリニル基を表し、
Ｘ^*が＞ＮＲ₆ ^*基を表し、
Ｒ₆ ^*が炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す。
Ｒ^*は好ましくは式（ＩＶ−０）で表される基であり、そしてＢ^*は好ましくはＸ^*が＞Ｎ−（炭素原子数１ないし４のアルキル）基である式（ＩＩ−０）で表される基である。
式（ＩＶ−０）で表される基の式（ＩＶ）で表される基への変更は例えば参照により本明細書に編入されるＵＳ−Ａ−４９２１９６２号に記載されるものと類似の方法で行われてもよい。
Ｒ₁の意味は使用される炭化水素溶媒によって決まる。Ｒ₁は好ましくは炭素原子数５ないし１８のヒドロカルビル基である。
Ｒ₁は特に炭素原子数５ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素原子数６ないし１０の二環式または三環式ヒドロカルビル基または非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基であり、そして
炭化水素溶媒はＲ₁に応じて炭素原子数５ないし１８のアルカン、炭素原子数５ないし１８のアルケン、炭素原子数５ないし１８のアルキン、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキルにより置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルカン、非置換または炭素原子数１ないし４のアルキルにより置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン、炭素原子数６ないし１０の二環式または三環式炭化水素または非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルカンである。
Ｒ₁はまた好ましくは、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニル基、α−メチルベンジル基または１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基であり、そして炭化水素溶媒は従ってＲ₁に対応してヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタン、シクロヘキセン、エチルベンゼンまたはテトラリンである。
本発明の他の好ましい態様によれば、Ｒ₁はシクロヘキシル基またはオクチル基であり、そして炭化水素溶媒はＲ₁に応じてシクロヘキサンまたはオクタンである。
−Ｏ−Ｒ₁がオキシル基である場合、炭化水素溶媒は不活性有機溶媒が好都合であり、好ましくはトルエンまたは１，２−ジクロロエタンである。
ペルオキシド分解触媒は、例えば金属カルボニル、金属酸化物、金属アセチルアセトネートまたは金属アルコキシドであり、上記金属は周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ、ＶＩＩｂおよびＶＩＩＩ族から選択され、好ましくはバナジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、コバルトカルボニル、酸化クロム（ＶＩ）、チタン（ＩＶ）イソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、モリプデンヘキサカルボニル、三酸化モリブデン等である。最も好ましい触媒はＭｏＯ₃である。
適当なヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシド、第三アミルヒドロペルオキシド、第三ヘキシルヒドロペルオキシド、第三オクチルヒドロペルオキシド、エチルベンジエンヒドロペルオキシド、テトラリンヒドロペルオキシドまたはクメン（＝イソプロピルベンジエン）ヒドロペルオキシドである。最も好ましいヒドロペルオキシドは第三ブチルヒドロペルオキシドである。
２ないし８モル、好ましくは３ないし６モルのヒドロペルオキシド、０．００１ないし０．１モル、好ましくは０．００５ないし０．０５モルのペルオキシド分解触媒および５ないし３０モル、好ましくは１０ないし２０モルの炭化水素溶媒が、例えば式（Ｉ−０）に相当するブロックオリゴマーに存在する次式（ＩＶ−０）：

で表されるヒンダードアミン部分１モルあたり適用される。
式（ＩＶ−０）で表されるヒンダードアミン部分の次式：

で表される基への変更（転移）は例えば７５℃ないし１６０℃、好ましくは１００℃ないし１５０℃で行われる。
式（ＩＶ−０）で表されるヒンダードアミン部分が水性ヒドロペルオキシドと不活性有機溶媒中ペルオキシド分解触媒の存在下で最初に処理される場合（例えばＵＳ−Ａ−４６９１０１５号に記載された方法と同様に）、比較的短時間で得られる初期反応生成物は、強く着色され、かつそれ自体が単離され得る対応するＮ−オキシル中間体（−ＯＲ₁＝オキシル基）である。
有機溶媒が不安定な水素原子を有する炭化水素である場合、アミンを対応するＮ−オキシル誘導体に変換するのに必要とされる量以上の十分にモル過剰なヒドロペルオキシドが残留する場合、および反応混合物が適度な温度（好ましくは１００℃ないし１５０℃）でさらに加熱される場合、さらなる反応がＮ−オキシル誘導体（最初のアミンからその場で製造されるものか、または工程中に初期の開始中間体として使用されるもののいずれか）と炭化水素溶媒との間で生じて対応するＮ−ヒドロカルビルオキシ誘導体が得られる。
最初の反応混合物は無色であるが、Ｎ−オキシル中間体が形成されるにつれ強く着色されてくる。この色はＮ−オキシル化合物が無色のＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に変換されると消失する。従って、本質的にこの方法は反応の程度を示す内蔵の（ビルトイン）呈色指示薬を有する。反応混合物が無色になったとき、着色Ｎ−オキシル中間体がＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に完全に変換されたことを示す。
本発明の態様はまた、方法２）により得られる生成物に水素添加することにより得られる生成物であり、該生成物は式（ＩＶ）中の−ＯＲ₁がオキシル基であり、次式（ＩＶ−１）：

で表される基を有する生成物が得られる。
水素添加は公知方法、例えば有機溶媒、例としてメタノールまたはエタノール中、水素添加触媒、好ましくは、例えばＵＳ−Ａ−４６９１０１５号に記載されているような炭素上のパラジウムまたはＰｔＯ₂の存在下で行われる。
米国特許出願第０８／９９４９７７号およびＥＰ特許出願第９７８１０９８９．０号に記載されている式（Ｉ−０）に相当するブロックオリゴマー出発物質は、多分散性Ｍｗ／Ｍｎが１で、かつｎが例えば２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４である単分散性化合物であっても、分子量分散を有する多分散性化合物であってもよい。好ましくは上記ブロックオリゴマー出発物質は、例えば、変数ｎによってのみ異なる式（Ｉ−０）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物を意味する多分散性化合物であり、該混合物は例えば１ないし１．７、例として１．１ないし１．６５、１．１ないし１．６、１．１ないし１．５５または１．１ないし１．５または１．２ないし１．７、例として１．２ないし１．６５、１．２ないし１．６、１．２ないし１．５５または１．２ないし１．５の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有する。
例えば多分散性Ｍｗ／Ｍｎが１より大きく１．７までの値を有する式（Ｉ−０）に相当する多分散性ブロックオリゴマー出発物質は例えば以下のように製造され得る：
１^*）次式（α^*）：

で表される化合物を次式（β^*）：

で表される化合物と化学量論的比率で反応させて次式（γ^*）：

で表される化合物を得、
２^*）式（γ^*）で表される化合物を式（β^*）で表される化合物と１：２ないし１：３、好ましくは１：２のモル比で反応させて、ｎが２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４であるか、特に２、４および６である次式（δ^*）：

で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物からなる混合物を得、
３^*）２^*）で得られた混合物を次式（ε）：
Ａ’−Ｘ’ （ε）
で表される化合物と、または次式（ζ）：
Ａ”−ＮＣＯ （ζ）
で表される化合物と、およそ化学量論的比率で反応させて、所望の混合物を得る。
上記各式において、
Ｒ^*、Ｒ₂およびＢ^*は上記式（Ｉ−０）において定義したものと同じ意味を表し、
Ｘ’は脱離基、例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、
Ａ’は炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または−ＣＨ₂ＣＮ基を表し、そして
Ａ”は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表す。
反応１^*）ないし３^*）は無機塩基の存在下、有機溶媒中で行われるが、ただし反応３^*）において式（ζ）で表される化合物が適用される場合、該反応３^*）は無機塩基なしで行われる。
反応１）ないし３）に対して方法１）に上で示した注意事項は反応１^*）ないし３^*）にも当てはまる。
式（Ｉ−０）に相当する特に好ましいブロックオリゴマー出発物質は、例えば１．１ないし１．７のＭｗ／Ｍｎを有する多分散性化合物である。そのような多分散性化合物は例えば少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物である。該単分散性化合物は反復単位の数においてのみ異なり、そして
ａ）次式（ＳＭ−Ｉａ）：

で表される化合物
ｂ）次式（ＳＭ−Ｉｂ）：

で表される化合物、および
ｃ）次式（ＳＭ−Ｉｃ）：

で表される化合物
（式中、Ａ、Ｂ^*、Ｒ^*およびＲ₂は上記と同じ意味を表し、そして式（ＳＭ−Ｉａ）の化合物：（ＳＭ−Ｉｂ）の化合物：（ＳＭ−Ｉｃ）の化合物のモル比は２：２：１．５ないし２：０．５：０．０５、好ましくは２：１．５：１ないし２：０．５：０．０８、特に２：１：０．５ないし２：０．５：０．０８である）である。
式（ＳＭ−Ｉａ）で表される化合物、（ＳＭ−Ｉｂ）で表される化合物および式（ＳＭ−Ｉｃ）で表される化合物を含有する上記混合物を方法２）に従う出発物質として使用する場合、
ａ）次式（Ｉａ）：

で表される化合物、
ｂ）次式（Ｉｂ）：

で表される化合物、および
ｃ）次式（Ｉｃ）：

で表される化合物を含有する混合物が得られ、該混合物は本発明の別な態様である。式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）および式（Ｉｃ）で表される化合物は反復単位の数においてのみ相違し、式（Ｉａ）の化合物：式（Ｉｂ）の化合物：式（Ｉｃ）の化合物のモル比は２：２：１．５ないし２：０．５：０．０５、好ましくは２：１．５：１ないし２：０．５：０．０８、特に２：１：０．５ないし２：０．５：０．０８であり、そして
基Ｒ₁は水素原子またはヒドロカルビル基を表すか、または−Ｏ−Ｒ₁基はオキシルを表し、
基Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁（Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または下記のＲ₄の定義の一つを有する）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか、またはＲ₂は次式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：

（式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
基Ｘ₃は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す）で表される基を表し、
Ａは炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ＣＮ基を表し、
Ｂは−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または次式（ＩＩ）：

で表される基を表し、
Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相違して、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または次式（ＩＩＩ）：

（式中、Ｙは−Ｏ−基、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基または＞Ｎ−ＣＨ₃基を表す）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ₃はさらに水素原子を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基はさらに式（ＩＩＩ）で表される基を表し、
Ｘは−Ｏ−基または＞Ｎ−Ｒ₆基を表し、
Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または次式（ＩＶ）：

で表される基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基もしくは式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そして
ＲはＲ₆に対して定義された意味の一つを有する。
好ましいのは式中、
Ｒが次式（ＩＶ）：

で表される基を表し、
Ｒ₁がオクチル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基または（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基を表し、
Ｂが次式（ＩＩ）：

で表される基を表し、
Ｘが＞ＮＲ₆基を表し、そして
Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す、混合物である。
ブロックオリゴマー出発物質（式（ＳＭ−Ｉａ）、式（ＳＭ−Ｉｂ）および式（ＳＭ−Ｉｃ）で表される化合物を含有する混合物）に存在する次式（ＩＶ−０）：

で表される基を次式（ＩＶ）：

で表される基に変換した後、式（Ｉａ）の化合物：式（Ｉｂ）の化合物：式（Ｉｃ）の化合物の比率は、上記最初の式（ＳＭ−Ｉａ）の化合物：式（ＳＭ−Ｉｂ）の化合物：式（ＳＭ−Ｉｃ）の化合物の比率に相当する。それはこれらの化合物の骨格が反応の間に影響を受けないためである。
本発明に係る混合物において、基Ｒ₁は式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）および／または（Ｉｃ）で表される２またはそれ以上のブロックオリゴマーの間の連結基として作用し得る。この場合、次式（Ｌ−Ｉ）：

で表される橋が上記ブロックオリゴマー間に形成される。
Ｒ₁ ^*の意味はＲ₁の意味から誘導され得る。これらの２種類の基間の唯一の相違は、Ｒ₁ ^*が１または２の追加の原子価を有していることである。従って、シクロヘキシル基Ｒ₁はシクロヘキサンジイル基またはシクロヘキサントリイル基Ｒ₁ ^*に対応し、そしてオクチル基Ｒ₁はオクタンジイル基またはオクタントリイル基Ｒ₁ ^*に対応する。
本発明の生成物ならびに上記混合物は、有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの耐光性、耐熱性および酸化耐性の改良において非常に有効である。特に低い顔料相互作用ならびに非常に良好な色彩がポリプロピレン、特にポリプロピレン繊維において、とりわけ難燃剤の存在下ならびに農業用途のための低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）フィルムにおいて観察される。さらに本発明の生成物はそれ自身が難燃剤であることは注目すべきことである。
安定化され得る有機材料の例は以下のとおりである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（非架橋でも架橋されていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、すなわち前項に例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製造され得る：
ａ）ラジカル重合（通常、高温高圧下）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の金属１種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。これらの金属は通常１以上の配位子、典型的にはπ（パイ）−またはσ（シグマ）−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、または基質、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ自体が使用され得、またその他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用され得る（上記金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である）。活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で変性されてもよい。上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チーグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と呼ばれている。
２．前項１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびこれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー；および上記コポリマー相互の、および項１．に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれらとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９のもの）およびそれらの水素化変性体（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンとの混合物。
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン／スチレンまたはポリブタジエン／アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイン酸イミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクタレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと項６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
９．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃性に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
１０．前項９．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにこれらと項１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
１２．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、およびコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
１４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
１５．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されるポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
１６．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸および／またはテレフタル酸とから、場合により変性剤としてエラストマーを添加して製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。上記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
１８．ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエステルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
２１．一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。
２２．乾性および不乾性アルキド樹脂。
２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および容易に燃焼しないそれらのハロゲン含有変性物。
２４．置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
２６．脂肪族、環状脂肪族、複素環式または芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物であって、慣用の硬化剤、例えば無水物またはアミンで、そして促進剤を用いて、または用いずに架橋されたもの。
２７．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチルセルロース；並びにロジンおよびそれらの誘導体。
２８．前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
２９．純単量体化合物または該化合物の混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）をベースとしたオイル、脂肪およびワックス、並びにあらゆる重量比にある合成エステルと鉱油との混合物で、それらは典型的には紡績用組成物として、並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用される。
３０．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラテックス。
従って本発明はまた、光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料と本発明に係る生成物または混合物とを含有する組成物に関する。
有機材料は好ましくは合成ポリマー、特に上記の群から選択される１種である。ポリオレフィンが好ましく、そしてポリエチレンおよびポリプロピレンが特に好ましい。
本発明の別の態様は、本発明に係る生成物または混合物を有機材料に配合することからなる、前記有機材料を光、熱または酸化により誘導される分解から安定化する方法である。
本発明に係る生成物または混合物は、安定化されるべき材料の性質に応じて種々の比率で最終使用時および他の添加剤の存在時に使用され得る。
一般に、安定化されるべき材料の重量に対して本発明に係る生成物または混合物を例えば０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５ないし２重量％、特に０．０５ないし１重量％使用することが適当である。
本発明に係る生成物または混合物は、例えば、上記ポリマー有機材料に、該材料の重合もしくは架橋前、重合もしくは架橋中または重合もしくは架橋後に添加され得る。さらに、それは、そのままの形態またはワックス、オイルもしくはポリマー中にカプセル化されてポリマー材料中に配合され得る。
一般に、本発明に係る生成物または混合物は種々の方法、例えば粉末の形態での乾式混合、または溶液または懸濁液の形態またはマスターバッチの形態での湿式混合によりポリマー材料中に配合され得（この場合、本発明に係る生成物または混合物を２．５ないし２５重量％の濃度で含有する）、そのような操作において、上記ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態、またはラテックスの形態で使用され得る。
本発明に係る生成物または混合物で安定化された材料は成形品、フィルム、テープ、単繊維、繊維、表面コーティング等の製造のために使用され得る。
所望するならば、合成ポリマーのために慣用の他の添加剤、例えば酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、腐食防止剤および金属不活性化剤が本発明に係る生成物または混合物を含有する有機材料に添加され得る。
上記慣用の添加剤の特定の例は以下のとおりである：
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノールの例
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が線状でも分岐していてもよいノニルフェノール、例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびその混合物。
１．２．アルキルチオメチルフェノールの例
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノンの例
２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４．トコフェロールの例
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６．アルキリデンビスフェノールの例
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
１．７．Ｏ−，Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物の例
３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネートの例
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物の例
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
１．１０．トリアジン化合物の例
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１．ベンジルホスホネートの例
ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．アシルアミノフェノールの例
４−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸−アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドの例
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス〔２−（３−〔３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオニルオキシ）エチル〕オキサミド〔ナウガード（登録商標，Naugard）ＸＬ−１，ユニロイヤルにより供給される〕。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１９．アミン酸化防止剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス〔（２−メチルフェニル）アミノ〕エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス〔４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル〕アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの例
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−〕₂（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール；２−〔２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕ベンゾトリアゾール。
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノンの例
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
２．３．非置換および置換された安息香酸のエステルの例
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４．アクリレートの例
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５ ニッケル化合物の例
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
２．６ 立体障害性アミンの例
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの線状または環状縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシおよび４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、ならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ Ｒｅｇ．Ｎｏ．〔１３６５０４−９６−６〕）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ〔４．５〕デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン、Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンのジエステル、ポリ〔メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）〕シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
２．７．オキサミドの例
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの例
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス〔２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル〕−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−〔３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ〕フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
３．金属不活性化剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４．ホスフィットおよびホスホナイトの例
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ〔トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
５．ヒドロキシアミンの例
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシアミン。
６．ニトロンの例
Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシアミンから誘導されるニトロン。
７．チオ相乗剤（チオシンエルジスト）の例
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
８．過酸化物スカベンジャーの例
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
９．ポリアミド安定剤の例
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。
１０．塩基性補助安定剤の例
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
１１．核剤の例
無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例として二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩；有機化合物、例えばモノ−またはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（アイオノマー）。
１２．充填剤および強化剤の例
炭酸カルシウム、ケイ酸塩（シリケート）、ガラス繊維、ガラスバルブ、アスベスト、タルク、カオリン、雲母（マイカ）、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉およびその他の天然材料の粉末または繊維、合成繊維。
１３．その他の添加剤の例
可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
１４．ベンゾフラノンおよびインドリノンの例
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号またはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に開示された化合物または３−〔４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル〕−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−〔４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル〕ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス〔５，７−ジ第三ブチル−３−（４−〔２−ヒドロキシエトキシ〕−フェニル）ベンゾフラン−２−オン〕、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン。
本発明に係る生成物または混合物：慣用の添加剤の重量比は例えば１：０．５ないし１：５であってよい。
本発明の生成物はまた、例えばリサーチ・ディスクロージャー１９９０，３１４２９（４７４ないし４８０頁）に記載されるような写真再生および他の再生技術の分野において公知のほとんど全ての材料のための安定剤として、特に光安定剤として使用され得る。
本発明は以下の実施例によりさらに詳細に説明される。特記しない限り、全ての部は重量を基準とする。
以下の実施例Ｓ−１およびＳ−２は出発物質の製造の代表的なものである。実施例１ないし４は本発明に係る生成物の製造の代表的なものであり、そして特定の好ましい態様に関する。
ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィー）は分子を大きさの違いにより分離するための分析方法として使用され、そして分子量平均（Ｍｗ，Ｍｎ）またはポリマーの分子量分布に関する情報を得るために使用される。
上記の技術は十分に公知であり、そして例えばW. W. Yan等による“Modern Size-Exclusion Liquid Chromatography”, J. Wiley & Sons発行, N.Y., USA, 1979, 4-8, 249-283および315-340に記載されている。
狭い分子量分布は１に近い多分散性（Ｍｗ／Ｍｎ）により特徴づけられる。
以下の実施例Ｓ−１およびＳ−２に示されたＧＰＣ分析は、パーキン−エルマー（登録商標，Perkin-Elmer）ＲＩ検出器ＬＣ３０およびパーキン−エルマー（登録商標，Perkin-Elmer）オープンＬＣ１０１を備えたＧＰＣクロマトグラフ・パーキン−エマルー（登録商襟，Perkin-Elmer）ＬＣ２５０を用いて行われる。
全ての分析はＰＬＧＥＬ３μｍミックストＥ３００ｍｍ長さ×７．５ｍｍｉ．ｄ．（英国シュロップシアのポリマーズ・ラボラトリーズ・リミテッド製）の３本のカラムを用いて４５℃で行われる。
テトラヒドロフランは溶離剤として使用され（流速０．４０ｍｌ／分）、そして試料はテトラヒドロフラン中に溶解される（２％）（％ｗ／ｖ）。
以下の実施例に示す構造式において、ｎ’はその分子中に反復単位があり、そして得られた生成物が均一でないことを示す。
実施例Ｓ−１：次式：

に相当する生成物の製造
水３０ｍｌ中のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン３７．１ｇ（０．１７５モル）の溶液を０℃で、キシレン２５０ｍｌ中の塩化シアヌル３２．２ｇ（０．１７５モル）の溶液にゆっくり添加し、その添加の間およびさらに１時間温度を維持する。
室温で２時間後、混合物を０℃まで冷却し、そして水２５ｍｌ中の水酸化ナトリウム７．３ｇ（０．１８モル）の水溶液を添加する。
０℃で１／２時間および室温でさらに２時間後、この水溶液を分離し、そしてＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン３４．６ｇ（０．０８７モル）を添加する。
この混合物を５０℃まで１時間加熱し、炭酸カリウム粉末２４．２ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして６０℃まで４時間加熱する。
水で洗浄後、有機相を６０−７０℃／１０ｍｂａｒで真空下に濃縮してキシレン１２５ｍｌを回収する。
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして混合物を１５０℃まで２時間加熱し、再び冷却し、そして水酸化ナトリウム粉末７ｇ（０．１７５モル）を添加する。
混合物を１４０℃までさらに４時間加熱して、反応の残留水を共沸除去し、そして１６０℃でさらに４時間加熱する。
６０℃まで冷却した後、混合物をキシレン１３０ｍｌで希釈し、濾過し、そしてエチレングリコール５０ｍｌで３回洗浄する。
６０℃／１０ｍｂａｒで真空下に濃縮した後、無水酢酸７．５ｇ（０．０７３モル）を添加する。室温で１／２時間後、混合物を１３０℃まで５時間加熱する。室温まで冷却した後、炭酸カリウム粉末２０．２ｇ（０．１４６モル）を添加し、そして混合物を１３０℃まで２時間加熱する。
次に混合物を５０℃まで冷却し、濾過し、そして１４０℃／１ｍｂａｒで真空下に濃縮する。
乾燥後、融点１２８−１３４℃の固体が得られる。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２７１２ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４１
ＧＰＣ分析は図１のようなクロマトグラムを示す。
３種の主な単一成分の比率（得られた多分散性生成物の（ｎ’＝２）：（ｎ’＝４）：（ｎ’＝６））はモル％で２：０．９３：０．４である。
実施例Ｓ−２：次式：

に相当する生成物の製造
この生成物が実施例Ｓ−１に記載した操作に従い適当な試薬を用いて製造される。
融点１２２−１３０℃を有する固体が得られる。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２８１０ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４２
ＧＰＣ分析は図２のようなクロマトグラムを示す。
３種の主な単一成分の比率（得られた多分散性生成物の（ｎ’＝２）：（ｎ’＝４）：（ｎ’＝６））はモル％で２：０．８４：０．３２である。
実施例１：次式：

に相当する生成物の製造
ディーン−スターク（登録商標，Dean-Stark）トラップを備え磁力で攪拌される２００ｍｌの４つ口フラスコに実施例Ｓ−１の生成物７．０ｇ（０．０３１７モル）、シクロヘキサン６０ｍｌおよびＭｏＯ₃ ０．１ｇを仕込む。内容物を加熱して還流する。次に７０％第三ブチルヒドロペルオキシド２０．４ｇ（０．１５８モル）を、取りつけられた滴下ロートに入れ、そして３０分間で添加する。還流をさらに３０分間継続する。反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター（登録商標，Fisher-Porter）圧力ビンに追加のＭｏＯ₃ ０．１ｇと一緒に移す。内容物を１２０℃で３時間加熱し、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失し薄い黄色となる。ＭｏＯ₃を濾過し、そして濾液を蒸発させて黄色ガラス状物とする。収量は１０．１ｇで、定量的である。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．８４−２．５ｐｐｍ（ブロード，複雑な混合物）；３．２−３．４４ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．５４−３．７０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＯＣＨ）；４．７６−５．４ｐｐｍ（ブロード，ＮＣＨ）。
３．２，３．５４および４．７６ｐｐｍでの積分の比率： ２：１：１。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：８１．９ｐｐｍ（ＮＯＣ）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）。
実施例２：次式：

に相当する生成物の製造
ディーン−スターク（登録商標）トラップおよび滴下ロートを備え磁力で攪拌される２００ｍｌの４つ口フラスコに実施例Ｓ−１の生成物５．７ｇ（０．０２５８モル）、ｎ−オクタン５０ｍｌおよびＭｏＯ₃ ０．２０ｇを仕込む。内容物を加熱して還流する。滴下ロートに７０％第三ブチルヒドロペルオキシド１６．６ｇ（０．１２９モル）を入れ、それを３０分間かけて添加する。還流をさらに３０分間継続した後、反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター（登録商標）圧力ビンに移す。次に追加のＭｏＯ₃ ０．１ｇを添加する。内容物を真空下に１２５℃で３時間加熱し、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失し薄い黄色となる。ＭｏＯ₃を濾過し、そして濾液を蒸発させて薄い黄色のガラス状物とする。収量は１０．１ｇである（理論値の９１％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．８−２．５ｐｐｍ（ブロード，複雑な混合物）；３．２−３．５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．６５−３．９６ｐｐｍ（ブロード，ＮＯＣＨ）；４．９−５．４ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）。
３．２，３．６５および４．７６ｐｐｍでの積分の比率は２：１：１である。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：７８．７ｐｐｍ，８１．９ｐｐｍおよび８３．２ｐｐｍ（ＮＯＣ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）。
実施例３：次式：

に相当する生成物の製造
実施例Ｓ−２の生成物７．０ｇ（０．０３０３モル）、シクロヘキサン６０ｍｌおよびＭｏＯ₃ ０．２０ｇをディーン−スターク（登録商標）トラップ、冷却器および滴下ロートを備え磁力で攪拌される２００ｍｌの４つ口フラスコに仕込む。内容物を加熱して還流する。滴下ロートに７０％第三ブチルヒドロペルオキシド１９．５ｇ（０．１５２モル）を入れる。上記ロートの内容物を３０分間かけて添加する。ニトロキシル中間体の赤色が観察される。還流を１時間継続する。反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター（登録商標）ビンに追加のＭｏＯ₃ ０．１０ｇと一緒に移す。内容物を真空下に１２５℃で２時間加熱すると、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失する。ＭｏＯ₃を加圧濾過し、そして淡黄色濾液を蒸発させてガラス状物とする。収量は９．３ｇである（理論値の９３％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．８０−２．２ｐｐｍ（ブロード，複雑な混合物）；３．１−３．５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．５４−３．７０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＯＣＨ）；４．９０−５．４ｐｐｍ（ブロード，ＮＣＨ）。
３．２，３．５４および４．７６ｐｐｍでの積分の比率： ２：１：１。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：８１．８ｐｐｍ（ＮＯＣ）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）。
実施例４：次式：

に相当する生成物の製造
実施例Ｓ−２の生成物６．２ｇ（０．０２６８モル）、ｎ−オクタン５０ｍｌおよびＭｏＯ₃ ０．１０ｇをディーン−スターク（登録商標）トラップ、冷却器および滴下ロートを備え磁力で攪拌される２００ｍｌの４つ口フラスコに仕込む。内容物を加熱して還流する。滴下ロートに７０％第三ブチルヒドロペルオキシド１７．３ｇ（０．１３４モル）を入れる。上記ロートの内容物を３０分間かけて添加する。ニトロキシル中間体の赤色が観察される。還流を１時間継続する。反応混合物を磁力で攪拌されるフィッシャー−ポーター（登録商標）ビンに追加のＭｏＯ₃ ０．１０ｇと一緒に移す。内容物を真空下に１２５℃で２時間加熱すると、その時点でニトロキシル中間体の赤色が消失する。ＭｏＯ₃を加圧濾過し、そして淡黄色濾液を蒸発させてガラス状物とする。収量は８．４ｇである（理論値の８８％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ：０．６−２．５ｐｐｍ（ブロード，複雑な混合物）；３．１−３．５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．５６−３．９４ｐｐｍ（ブロード，ＮＯＣＨ）；４．９−５．４ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）。
３．１，３．５６および４．９ｐｐｍでの積分の比率は２：１：１である。
¹³Ｃ−ＮＭＲ：７８．５ｐｐｍ，８１．８ｐｐｍおよび８３．２ｐｐｍ（ＮＯＣ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）。
実施例Ａ：
ポリオレフィンブレンド〔エチレンプロピレンコポリマーを含有するポリプロピレン；エイ．シュルマン・インコーポレイテッド（米国オハイオ州アクロン）からのポリトロープ（登録商標，Polytrope）ＴＰＰ５１８−０８〕を下記の添加剤と一般的な全圧スクリュー（２４：１ Ｌ／Ｄ）を有するスーペリオール（登録商標，Superior）／ＭＰＭ １”一軸スクリュー押出機中、２００℃で混合し、水浴で冷却し、そしてペレット化することにより、顔料を配合した熱可塑性オレフィン（ＴＰＯ）ペレットを製造する。押出および成形に先立ち、添加剤をタンブルドライヤー中でドライブレンドする。
添加剤：

得られたペレットは厚さ１．５２４ｍｍで２”×２”のプラックに約１９０℃にてボーイ（登録商標，BOY）３０Ｍ射出成形機で成形する。
試験プラックを金属枠に取りつけ、そしてアトラス（登録商標，Atlas）Ｃｉ６５キセノンアークウエザロメーターで、７０℃ブラックパネル温度、３４０ナノメータで０．５５Ｗ／ｍ²および５０％相対湿度にて、断続的な明／暗サイクルおよび水噴霧を行いながら露光する〔ソサイアティ・オブ・オートモーティブ・エンジニアーズ（登録商標，Society of Automotive Engineers）−ＳＡＥ Ｊ１９６０試験法−屋外自動車条件〕。
ＡＳＴＭ Ｄ２２４４−７９に準拠する反射率方式によりアプライド・カラー・システムズ分光光度計で色測定を行うことにより、試験片を約６２５キロジュール毎に試験する。光沢測定はＡＳＴＭ Ｄ５２３に準拠してＢＹＫ−ガードナー・ヘイズ／グロス・メータ（登録商標，BYK-GARDNER Haze/Gloss Meter）で行う。
安定化された試料はＵＶ露光を行っても良好な光沢保持および色変化に対する良好な抵抗性を示す。

Claims (3)

1. 次式（Ｉ）：
   

   

   〔式中、ｎは２ないし１４の数を表し、
   基Ｒ₁は互いに独立して炭素原子数１乃至１８のアルキル基または非置換または炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表し、
   基Ｒ₂は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表し、
   基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基を表し、
   Ｂは−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基または次式（ＩＩ）：
   

   

   で表される基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同一または相違して、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置換された炭素原子数ないし４のアルキル基を表すか、
   または−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基はさらに式（ＩＩＩ）
   

   

   （式中、Ｙは−Ｏ−基を表す）
   で表される基を表し、
   Ｘは−Ｏ−基または＞Ｎ−Ｒ₆基を表し、
   Ｒ₆は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または次式（ＩＶ）：
   

   

   で表される基または２、３もしくは４位で−ＯＨ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置換された炭素原子数２乃至４のアルキル基を表し、そして
   基Ｒは互いに独立してＲ₆に対して定義された意味の一つを有するが、ただし式（Ｉ）中の個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₂の各々は同じか、または異なる意味を有する〕で表される化合物。
2. 光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料および請求項１記載の化合物を含有する組成物。
3. 有機材料に請求項１記載の生成物を配合することからなる、前記有機材料を光、熱または酸化により誘導される分解から安定化する方法。

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