JP4385048B2 - 荷電ビーム銃 - Google Patents
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Description
図1は、本発明による荷電ビーム銃の一実施例であるイオンビーム装置の概略構成図である。本例のイオンビーム装置1は、イオン銃2、真空容器3、真空排気装置4、高電圧電源部5を備える。真空容器3と真空排気装置4の間にはゲートバルブ7が設置されている。イオン銃2は、イオン源2−1、引出電極2−2、加速電極2−3を備える。真空容器3に内蔵されたイオン銃2は、イオンポンプ9によって排気されている。また、高電圧電源部5は、イオン加速用の高電圧発生装置5−1及びイオン加速制御部5−2を有し、高電圧ケーブル5−3aを介してイオン源2−1に正の高電圧を給電し、高電圧ケーブル5−3bを介して引出電極2−2に正の高電圧を給電している。加速電極2−3は接地されている。引出電極2−2によってイオン源2−1から引き出されたイオンビーム6は加速電極2−3で加速され、下流に照射される。このイオンビーム装置1に、イオンビーム照射試料からの信号を検出する信号検出系と照射イオンビームをレンズで細く絞り、ビームを偏向制御して試料に照射する機能を付加すると、集束イオンビーム加工観察装置を構成することができる。
Claims (5)
- 荷電ビーム銃が内蔵された真空容器と、
前記真空容器を加熱するヒータと、
前記荷電ビーム銃に高電圧を給電するケーブルが接続されたブッシング端子を底面に有する接続ブッシングと、
前記真空容器に設けられ、前記ブッシング端子が接続されるフランジ端子を有し、前記接続ブッシングを着脱自在に支持する受電側フランジとを有し、
前記受電側フランジと前記接続ブッシングとの間に形成された間隙部に絶縁性液体が注入され、
前記接続ブッシングに前記間隙部と大気とを連通する第一の配管及び第二の配管が設けられ、前記第一の配管及び前記第二の配管は、前記接続ブッシングをくり貫いて形成され、前記第一の配管は前記接続ブッシングの底面に開口を有する、
ことを特徴とする荷電ビーム装置。 - 請求項1記載の荷電ビーム装置において、前記第一の配管及び前記第二の配管にはそれぞれ弁が設けられていることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項2記載の荷電ビーム装置において、前記第一の配管に接続されたピストン機構と、前記ピストン機構及び前記第一の配管に設けられた弁を制御する制御部とを有し、前記制御部は前記ピストン機構及び前記第一の配管に設けられた弁を制御して、前記間隙部への前記絶縁性液体の吸排を行うことを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項3記載の荷電ビーム装置において、前記第二の配管に設けられた弁は一方向開放型の弁であることを特徴とする荷電ビーム装置。
- 請求項1記載の荷電ビーム装置において、前記第一の配管と前記第二の配管の開口は、前記接続ブッシングの底面からの高さが異なる位置に設けられていることを特徴とする荷電ビーム装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006334370A JP4385048B2 (ja) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | 荷電ビーム銃 |
US11/954,401 US7601971B2 (en) | 2006-12-12 | 2007-12-12 | Charged beam gun |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006334370A JP4385048B2 (ja) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | 荷電ビーム銃 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008147070A JP2008147070A (ja) | 2008-06-26 |
JP4385048B2 true JP4385048B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=39496858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006334370A Expired - Fee Related JP4385048B2 (ja) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | 荷電ビーム銃 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7601971B2 (ja) |
JP (1) | JP4385048B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009030722B4 (de) * | 2009-06-26 | 2012-08-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Aufzeichnung und Verarbeitung von Messdaten einer Hybrid-Bildgebungsvorrichtung sowie Hybrid-Bildgebungsvorrichtung |
CN105097580A (zh) * | 2014-05-08 | 2015-11-25 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 聚焦离子束分析方法 |
PL2991095T3 (pl) * | 2014-08-25 | 2018-07-31 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Zespół przepustowy wysokiego napięcia, urządzenie do dyfrakcji elektronów i sposób manipulowania urządzeniem elektrodowym w środowisku próżni |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4563587A (en) * | 1981-05-26 | 1986-01-07 | Hughes Aircraft Company | Focused ion beam microfabrication column |
US6107628A (en) * | 1998-06-03 | 2000-08-22 | Battelle Memorial Institute | Method and apparatus for directing ions and other charged particles generated at near atmospheric pressures into a region under vacuum |
JP2002270125A (ja) | 2001-03-07 | 2002-09-20 | Hitachi Ltd | 高電圧電気機器 |
US7138629B2 (en) * | 2003-04-22 | 2006-11-21 | Ebara Corporation | Testing apparatus using charged particles and device manufacturing method using the testing apparatus |
JP4261984B2 (ja) | 2003-05-23 | 2009-05-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム装置又はイオンビーム装置およびそのベーキング方法 |
-
2006
- 2006-12-12 JP JP2006334370A patent/JP4385048B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2007
- 2007-12-12 US US11/954,401 patent/US7601971B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080135756A1 (en) | 2008-06-12 |
JP2008147070A (ja) | 2008-06-26 |
US7601971B2 (en) | 2009-10-13 |
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