JP4383959B2 - 光電変換装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態による光電変換装置の模式的断面図である。
図6は、本発明の第2の実施形態による光電変換装置の模式的断面図である。
図10は、本発明の第3の実施形態による光電変換装置の模式的断面図である。第1、第2の実施形態と同じ機能を有するものに関しては同様の符号を付し、詳細な説明は省略する。
図11は、本発明の第4の実施形態による光電変換装置の模式的断面図である。第1、第2、第3の実施形態と同じ機能を有するものに関しては同様の符号を付し、詳細な説明は省略する。
2 素子分離領域
3 第1の絶縁膜
4 第1のパターン
5 第2の絶縁膜
6 第2のパターン
7 第3の絶縁膜
8 層内レンズ
8’ 層内レンズ形成膜
9 第1の平坦化膜
10 カラーフィルタ層
11 第1の平坦化膜
12 マイクロレンズ
13 半導体部材
14 パッド部
20 エッチングマスク
21 レジストパターン
121 有効画素領域
122 遮光領域
123 第1の絶縁層
124 第1のパターン
125 第2の絶縁層
126 第2のパターン
127 第3の絶縁層
128 第3のパターン
129 第4の絶縁層
130 遮光部材
Claims (11)
- 複数の光電変換素子と、
前記光電変換素子の上方に設けられた第1のパターンと、該第1のパターンの上方に設けられた第2のパターンと、を少なくとも含む複数の配線層と、
前記第1のパターンを覆う第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層よりも薄く形成され、前記第2のパターンを覆う第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上で、かつ、前記光電変換素子の光路中に配され、光の入射方向に対して凸形状の層内レンズと、を有する光電変換装置。 - 前記第2のパターン内に、オプティカルブラック領域を形成するための遮光部材と、外部回路が接続されるパッドとを有する、請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記パッドの外側に前記層内レンズが形成されている、請求項2に記載の光電変換装置。
- 前記層内レンズ上に配されたカラーフィルタと、該カラーフィルタ上に配されたマイクロレンズと、を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記層内レンズ上に配されたカラーフィルタと、該カラーフィルタ上に配されたマイクロレンズと、前記第2のパターンに設けられ、外部回路が接続されるパッドと、を有し、
少なくとも、前記層内レンズ、前記カラーフィルタ、および前記マイクロレンズのいずれかが前記パッドの外側に形成されている、請求項1に記載の光電変換装置。 - 前記光電変換素子からの信号を増幅する増幅素子を有し、該増幅素子は前記光電変換素子を含む画素、もしくは複数の画素ごとに設けられている、請求項1から5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記複数の配線層は、前記第1のパターンと前記第2のパターンとの間に、更に第3のパターンを有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 複数の光電変換素子の上方に配線層である第1のパターンを形成する工程と、
前記第1のパターンを覆う第1の絶縁層を形成する工程と、
前記第1のパターンの上方に、前記第1のパターンとは異なる配線層である第2のパターンを形成する工程と、
前記第2のパターンを覆う、前記第1の絶縁層よりも薄い第2の絶縁層を形成する工程と、
前記第2の絶縁層上に、光の入射方向に対して凸形状の層内レンズを形成する工程と、を有している光電変換装置の製造方法。 - 前記層内レンズを形成する工程は、前記層内レンズを構成するための層内レンズ形成膜を形成する工程と、前記層内レンズを形成するためのエッチングマスクを前記層内レンズ形成膜の上に形成する工程と、前記エッチングマスクを前記層内レンズの形状と実質的に同じ形状の凸レンズ形状にする工程と、前記層内レンズ形成膜の全面をエッチングして、前記層内レンズ形成膜に前記エッチングマスクの前記凸レンズ形状を転写し、前記層内レンズを形成する工程とを有している、請求項8に記載の光電変換装置の製造方法。
- 前記第2のパターンは外部回路が接続されるパッドを含むパターンであり、前記層内レンズを形成する工程は、前記パッドの上面を露出させることを含んでいる、請求項8または9に記載の光電変換装置の製造方法。
- 前記第1および第2の絶縁層を平坦化する工程を含む、請求項8から10のいずれか1項に記載の光電変換装置の製造方法。
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