JP4383555B2 - カルボシロキサンデンドリマー - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結合水素原子および/またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有する、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布が狭い新規なカルボシロキサンデンドリマーに関する。
【0002】
【従来の技術】
一つの核から放射状に高度な枝分かれ構造を有し、分子量分布が狭い高分子は、デンドリマーと呼ばれ、低粘度性、高反応性、高溶解性、低ガラス転移温度といった特徴的な性質を持っており、その応用が注目されている。有機ケイ素デンドリマーとしては、例えば、シロキサンデンドリマー{レブロフら、Dokl. Akad. Nauk. SSSR 309, 367 (1989); 正宗ら、J. Am. Chem. Soc. 112, 7077 (1990)参照)、カルボシロキサンデンドリマー{柿本ら、Macromolecules 24, 3469 (1991); 特開平7−17981号公報、シェイコら、Macromol. Rapid Commun. 17, 283 (1996)参照}、カルボシランデンドリマー{ルーバースら、Macromolecules 26, 963 (1993); 特開平8−311205号公報参照}などが知られている。その中に、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列したカルボシロキサンデンドリマーも開示されているが、{特開平7−17981号公報; シェイコら、Macromol. Rapid Commun. 17, 283 (1996)参照}これらは一個のケイ素原子に複数のビニル基またはアリル基が結合したシラン化合物をデンドリマーの核構成原料とするものに限定されており、これらの方法にしたがえば、階層数が小さい低分子量のデンドリマーしか得られないという欠点があった。また、一段階重合法によるシロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐状ポリマーの合成も開示されているが、{マシウスら、J. Am. Chem. Soc. 113, 4043 (1991)参照}この方法では、分子量分布が狭いデンドリマーは得られないという欠点があった。すなわち、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布が狭いカルボシロキサンデンドリマーはこれまで知られていなかった。
分子中に複数のケイ素原子結合水素原子を含有する有機ケイ素重合体は、ヒドロシリル化反応による架橋反応の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体合成の前駆体として利用されている。近年、架橋効率が高く、しかも機械的強度、接着性、耐久性等の諸特性に優れた硬化体を形成し得る新規な架橋剤や、特異な反応性を有する官能性有機ケイ素重合体を合成するための新規な前駆体の開発が望まれている。一方、分子中に複数のケイ素原子結合アルコキシ基を含有する有機ケイ素重合体は、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料もしくは湿気硬化型組成物の架橋剤として有用であることが知られている。さらに近年、反応性が高く、最終製品の機械的強度、接着性、耐久性等の諸特性の向上に有効な有機ケイ素重合体の開発が切望されている。デンドリマーの分岐末端に結合した官能基は、一般に反応性が高く、また分子量分布が狭いことから均質な反応性が期待できる。従って、上記反応性反応性基を分岐末端に有するデンドリマーは上記の要求解決に好適である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の目的は、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結合水素原子および/またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有する新規なカルボシロキサンデンドリマーを提供することにある。
【0004】
【問題を解決するための手段】
本発明は、一般式:
X1R1 aSiO(3-a)/2
{式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。
【化3】
(式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、Xi+1はi=i+1とした場合の上記シリルアルキル基または水素原子である。iは該シリルアルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、biは0〜3の整数であるが、一分子中に存在する少なくとも1個のX1中のb1は0〜2の整数である。)}で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキサン単位を含有するケイ素原子数2以上のポリシロキサン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマーに関する。
【0005】
【発明の実施の形態】
本発明のカルボシロキサンデンドリマーは、一般式:
X1R1 aSiO(3-a)/2
で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有するケイ素原子数2以上のポリシロキサン構造を有することを特徴とする。上式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、アルキル基としては、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,イソプロピル基,イソブチル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基が例示され、アリール基としては、フェニル基,ナフチル基が例示される。これらの中でもメチル基が好ましい。aは0〜2の整数である。X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。
【化4】
上式中、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ヘキシレン基などの直鎖状アルキレン基;メチルメチレン基,メチルエチレン基,1−メチルペンチレン基,1,4−ジメチルブチレン基などの分岐状アルキレン基が例示される。これらの中でも、エチレン基,メチルメチレン基,ヘキシレン基,1−メチルペンチレン基,1,4−ジメチルブチレン基が好ましい。R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,イソプロピル基が例示される。これらの中でもメチル基またはエチル基が好ましい。R1は前記と同じである。Xi+1は上記シリルアルキル基または水素原子である。iは1〜10の整数であり、これは該シリルアルキル基の階層数、即ち、該シリルアルキル基の繰り返し数を示している。従って、階層数が1である場合に、該シリルアルキル基は一般式:
【化5】
で示され、階層数が2である場合に、該シリルアルキル基は一般式:
【化6】
で示され、階層数が3である場合に、該シリルアルキル基は一般式:
【化7】
で示される。
【0006】
本発明のカルボシロキサンデンドリマーの中のケイ素原子数2以上のポリシロキサン構造は、一般式:
X1R1 aSiO(3-a)/2
で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有する必要がある。このようなオルガノシロキサンの構成単位としては、一般式:X1R1 2SiO1/2またはR1 3SiO1/2で示される1官能シロキサン単位(M単位)、一般式:X1R1SiO2/2またはR1 2SiO2/2で示される2官能シロキサン単位(D単位)、一般式:X1SiO3/2またはR1SiO3/2で示される3官能シロキサン単位(T単位)、SiO4/2で示される4官能シロキサン単位(Q単位)がある。このようなオルガノポリシロキサンとしては、一般式:R1 2SiO2/2またはX1R1SiO2/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)
で示される2官能性シロキサン単位を少なくとも1個含有するもの、一般式:
【化8】
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)
で示されるもの、一般式:
R1SiO3/2, X1SiO3/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)
から選ばれるシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が5以上であるもの、もしくは一般式:
SiO4/2,R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)
から選ばれるシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が6以上であるものが好ましく、具体的には次の一般式で示されるものが挙げられる。なお、式中、X1,R1は前記に同じ、m, n, x, y, z, p, q, r, s, tは一分子中に存在するシロキサン単位の数を示し、1以上であるが、p+qは5以上、s+tは6以上である。
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
(X1R1 2SiO1/2)p(R1SiO3/2)q
(X1SiO3/2)r
(X1R1 2SiO1/2)s(SiO4/2)t
【0007】
本発明のカルボシロキサンデンドリマーは単一化合物もしくはそれらの混合物として得られるが、ポリスチレン換算の分子量における分散度指数、即ち重量平均分子量と数平均分子量の商(Mw/Mn)が2以下であることが好ましい。具体的には下記平均分子式で示される重合体が挙げられる。
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【0008】
本発明のカルボシロキサンデンドリマーは、一般式:
HR1 aSiO(3-a)/2
(式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数である。)で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキサン単位を含有するケイ素原子数2以上のケイ素原子結合水素原子含有ポリシロキサンを出発物質として、下記の(x)工程と(y)工程を1回以上交互に行うことにより製造することができる。
(x)上記出発物質または下記(y)工程で生成するケイ素原子結合水素原子含有カルボシロキサンデンドリマーと、一般式:R4Si(OR3)3(式中、R3は前記と同じであり、R4は炭素原子数2〜10のアルケニル基である。)で示されるアルケニル基含有アルコキシシランとを、白金系遷移金属触媒の存在下に付加反応させる工程、
(y)上記(x)工程で得られたアルコキシ基含有カルボシロキサンデンドリマーと、一般式:
【化25】
(式中、R1は前記と同じである。)で示されるジシロキサンを酸性条件下に反応させる工程。
この製法では最後に(x)工程を行うことにより、分岐末端がアルコキシ基で封鎖されたカルボシロキサンデンドリマーを得ることができ、最後に(y)工程を行うことにより、分岐末端がケイ素原子結合水素原子で封鎖されたカルボシロキサンデンドリマーを得ることができる。
【0009】
上記(x)工程で使用される白金系遷移金属触媒としては、塩化白金酸,アルコール変性塩化白金酸,白金のオレフィン錯体,白金のジケトナート錯体が例示される。この白金系遷移金属触媒を用いて付加反応を行う際には、原料中のケイ素原子結合水素原子を完全に反応させるために、やや過剰のアルケニル基含有アルコキシシランを反応させるのが好ましい。過剰量のアルケニル基含有アルコキシシランは反応後、減圧蒸留等によって分別回収することができる。またこの付加反応は常温もしくは加熱条件下に行うことができ、反応を妨害しない溶媒を用いて行うこともできる。
【0010】
上記(y)工程での酸性条件を作るのに使われる酸性物質としては、塩酸、硫酸、カルボン酸類、スルホン酸類またはその混合物が好ましい。尚、(y)工程では、ケイ素原子結合水素原子がアルコール分解して、下記モノアルコキシシロキシ基が少量含まれることもある。
【化26】
(式中、R1およびR3は前記と同じである。)
【0011】
以上のような本発明のカルボシロキサンデンドリマーは、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結合水素原子および/またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有する、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布が狭いという特徴を有する。特に、ケイ素原子結合水素原子を含有する場合には、ヒドロシリル化反応硬化性組成物の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体のための前駆体として有用であり、また、ケイ素原子結合アルコキシ基を含有する場合には、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料もしくは湿気硬化型組成物の架橋剤として有用であるという利点を有する。
【0012】
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明する。実施例中、本発明のカルボシロキサンデンドリマーの同定は、29Si−核磁気共鳴分析およびゲル透過クロマトグラフィー分析(溶媒:トルエン)により行った。
【0013】
【実施例1】
撹拌装置,温度計,還流冷却管,滴下ロートを取り付けた200mlの4つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン121gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.04gを投入し、これらを撹拌しながら105℃に加熱した。次いでこれに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン50gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を115℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、158gの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた1リットル4つ口フラスコに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン180g、濃塩酸50ml、水100mlおよびイソプロパノール100mlを投入してこれらを撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体158gを滴下ロートを用いて1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、残った上層液を水100mlで3回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mlで1回洗浄して、無水塩化カルシウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、233gの無色透明液体が得られた。この反応生成物を29Si−核磁気共鳴分析により分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均4.6個のケイ素原子結合水素原子と平均1.4個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が1,039であり、分散度指数が1.08であることが確認された。
【化27】
【0014】
【実施例2】
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた200mlの4つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン88.9gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.04gを投入し、これらを撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこれに、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン30.0gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を120℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、100.4gの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた1リットル4つ口フラスコに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン93.0g、濃塩酸30ml、水60mlおよびイソプロパノール60mlを投入してこれらを撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体80.0gを滴下ロートを用いて1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、残った上層液を水100mlで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mlで1回洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、98.5gの無色透明液体が得られた。この反応生成物を29Si−核磁気共鳴分析により分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均9.6個のケイ素原子結合水素原子と平均2.4個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が1,819であり、分散度指数が1.15であることが確認された。
【化28】
【0015】
【実施例3】
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた100mlの3つ口フラスコに、ビニルトリエトキシシラン54.3gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.04gを投入し、これらを撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこれに、実施例2で得られたカルボシロキサンデンドリマー27.0gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を120℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、61.9gの微褐色液体が得られた。この反応生成物を29Si−核磁気共鳴分析により分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均29個のケイ素原子結合エトキシ基と平均2.4個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が3,690であり、分散度指数が1.17であることが確認された。
【化29】
【0016】
【実施例4】
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた100mlの3つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン49.4gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.04gを投入し、これらを撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこれに、平均式:
【化30】
で示されるポリシロキサン30.0gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を120℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液をなす型フラスコに移してロータリーエバポレーターにより減圧濃縮したところ、61.0gの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた300ml4つ口フラスコに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.3.3g、濃塩酸40ml、水20mlおよびイソプロパノール20mlを投入してこれらを撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体61.0gを滴下ロートを用いて1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、残った上層液を水100mlで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mlで1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、73.3gの無色透明液体が得られた。この反応生成物を29Si−核磁気共鳴分析により分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均7個のケイ素原子結合水素原子と平均7個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が2,547であり、分散度指数が1.71であることが確認された。
【化31】
【0017】
【実施例5】
撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた500mlの4つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン160gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.10gを投入し、これらを撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこれに、平均組成式:{H(CH3)2SiO1/2}10(SiO4/2)5 で示されるポリシロキサン100gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を120℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、231gの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた2リットル4つ口フラスコに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン193g、酢酸86gおよびトリフルオロメタンスルホン酸 0.24gを投入してこれらを撹拌しながら、50℃に昇温した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体207gを滴下ロートを用いて1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を50℃で1時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロートに移し、水200mlで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mlで1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、308gの無色透明液体が得られた。さらに続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた300mlの4つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン59.3gと塩化白金酸3%イソプロパノール溶液0.05gを投入し、これらを撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこれに、上記で得た無色透明液体57.6gを、滴下ロートを用いて反応温度が100〜110℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を120℃で1時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、109gの微褐色液体が得られた。最後に、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた2リットル4つ口フラスコに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン80.4g、酢酸36.0gおよびトリフルオロメタンスルホン酸 0.11gを投入してこれらを撹拌しながら、50℃に昇温した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体103gを滴下ロートを用いて1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を50℃で1時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロートに移し、水200mlで2回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mlで1回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、143gの無色透明液体が得られた。この反応生成物を29Si−核磁気共鳴分析により分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均51個のケイ素原子結合水素原子を有するカルボシロキサンデンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が3381であり、分散度指数が1.19であることが確認された。
【化32】
【0018】
【応用例1】
式:
【化33】
で表される粘度2,100センチストークスのオルガノポリシロキサン100部、実施例2で得られた式:
【化34】
で表されるケイ素原子結合水素原子を有するカルボシロキサンデンドリマー 部、白金濃度0.5%の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.1部および反応抑制剤として3-フェニル-1-ブチン-3-オール0.1部を均一に混合して、硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した(組成物中のビニル基とケイ素原子結合水素原子とのモル比は1:1.3であった)。得られたオルガノポリシロキサン組成物を、90℃の条件下で加熱して硬化時間を測定した。また、このオルガノポリシロキサン組成物を、90℃、20分間の条件下で硬化させて得られたシート(厚さ2mm)の引張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表1に示した。
【0019】
【応用比較例1】
式:
【化35】
で表される粘度2,100センチストークスのオルガノポリシロキサン100部、実施例2で得られたカルボン酸デンドリマーの代わりに式:
【化36】
で表されるケイ素原子結合水素原子を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン0.84部、白金濃度0.5%の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液0.1部および反応抑制剤として3-フェニル-1-ブチン-3-オール0.1部を均一に混合して、硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した(組成物中のビニル基とケイ素原子結合水素原子とのモル比は1:1.3であった)。得られたオルガノポリシロキサン組成物の硬化時間を応用例1と同様に測定した。また、このオルガノポリシロキサン組成物を、130℃、20分間の条件下で硬化させて得られたシート(厚さ2mm)の引張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表1に示した。
【0020】
【表1】
【0021】
【発明の効果】
本発明のカルボシロキサンデンドリマーは、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有し、一分子中にケイ素原子結合水素原子および/またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有し、反応性に優れているという特徴を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、実施例1で得られたカルボシロキサンデンドリマーの29Si−核磁気共鳴スペクトルである。
【図2】 図2は、実施例2で得られた分岐状カルボシロキサンデンドリマーの29Si−核磁気共鳴スペクトルである。
【図3】 図3は、実施例3で得られたカルボシロキサンデンドリマーの29Si−核磁気共鳴スペクトルである。
【図4】 図4は、実施例4で得られたカルボシロキサンデンドリマーの29Si−核磁気共鳴スペクトルである。
【図5】 図5は、実施例5で得られたカルボシロキサンデンドリマーの29Si−核磁気共鳴スペクトルである。
Claims (6)
- 一般式:
X1R1 aSiO(3-a)/2
{式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0または1であり、X1は次式中のiを1とした場合のシリルアルキル基である。
- 一般式:
X 1 R 1 a SiO (3-a)/2
{式中、R 1 は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数であり、X 1 は次式中のiを1とした場合のシリルアルキル基である。
R1 2SiO2/2またはX1R1SiO2/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)で示される2官能性シロキサン単位を少なくとも1個含有するカルボシロキサンデンドリマー。 - 一般式:
- 一般式:
X 1 R 1 a SiO (3-a)/2
{式中、R 1 は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数であり、X 1 は次式中のiを1とした場合のシリルアルキル基である。
R1SiO3/2, X1SiO3/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)から選ばれるシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が5以上であるカルボシロキサンデンドリマー。 - 一般式:
X 1 R 1 a SiO (3-a)/2
{式中、R 1 は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、aは0〜2の整数であり、X 1 は次式中のiを1とした場合のシリルアルキル基である。
SiO4/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2
(式中、R1およびX1は前記に同じである。)から選ばれるシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が6以上であるカルボシロキサンデンドリマー。 - ポリスチレン換算分子量の分散度指数が2以下である請求項1乃至5のいずれか1項記載のカルボシロキサンデンドリマー。
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