JP4373997B2 - Composition for forming transparent conductive film, transparent conductive film and display - Google Patents
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本発明は透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及び表示面に透明導電膜を有するディスプレイに関し、より詳しくは、多様な透明基材の表面、特にＬＣＤやプラズマディスプレイ等の表示面に塗布または印刷し、硬化させることにより、優れた帯電防止効果とハードコート効果を有し、色相吸収が無いので膜の可視光透過率が非常に高く且つ透過画像の色相が自然であり、しかも、耐擦傷性にも優れた透明導電膜を形成し得る組成物、そのような透明導電膜並びにそのような透明導電膜を表示面に有するディスプレイに関する。 The present invention relates to a composition for forming a transparent conductive film, a transparent conductive film, and a display having a transparent conductive film on a display surface. More specifically, the present invention is applied to the surface of various transparent substrates, particularly display surfaces such as LCDs and plasma displays. By printing and curing, it has excellent antistatic effect and hard coat effect, no hue absorption, so the visible light transmittance of the film is very high, the hue of the transmitted image is natural, and scratch resistance The present invention relates to a composition capable of forming a transparent conductive film having excellent properties, such a transparent conductive film, and a display having such a transparent conductive film on a display surface.
ＴＶブラウン管やコンピュータのディスプレイ等として用いられている陰極線管は、赤色、緑色、青色に発光する蛍光面に電子ビームを衝突させることによって文字や画像を表示面に映し出すものであるから、この表示面に発生する静電気により埃が付着して視認性が低下する。また最近、壁掛けテレビ等としての応用が進められているプラズマディスプレイにおいても、静電気の発生が指摘されている。 A cathode ray tube used as a TV cathode ray tube or a computer display projects characters and images on a display screen by colliding an electron beam against a fluorescent screen emitting red, green, and blue light. Visibility is reduced due to dust adhering to static electricity. Recently, the generation of static electricity has been pointed out in plasma displays that are being applied as wall-mounted televisions.
これらの問題を解決するために、従来は、銀、金等の微粒子を液中に均一に分散させた塗布液を表示装置の表示面上に塗布し乾燥させるか、又はスパッタ法や蒸着法によって導電性の透明金属薄膜を形成し、この透明金属薄膜の上層及び／又は下層に、これとは屈折率が異なる透明層を積層して帯電防止並びに反射防止を図っている。例えば、電磁波遮蔽効果及び反射防止効果に優れた透明導電膜として、平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層と、これとは屈折率が異なる透明被膜とからなるものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。 In order to solve these problems, conventionally, a coating liquid in which fine particles such as silver and gold are uniformly dispersed in the liquid is applied on the display surface of the display device and dried, or by sputtering or vapor deposition. A conductive transparent metal thin film is formed, and a transparent layer having a different refractive index is laminated on the upper layer and / or the lower layer of the transparent metal thin film in order to prevent charging and reflection. For example, as a transparent conductive film excellent in electromagnetic wave shielding effect and antireflection effect, a transparent conductive fine particle layer composed of metal fine particles having an average particle diameter of 2 to 200 nm and a transparent film having a refractive index different from this are proposed. (For example, refer to Patent Document 1).
また、酸化物半導体透明膜は、一般に可視光に対して高い光透過率を示し、低抵抗でかつ膜強度が強いために、液晶ディスプレイなどの透明電極や太陽電池の窓材料、熱線反射膜、帯電防止膜など多方面に利用されている。このような酸化物半導体として、酸化錫、アンチモンを含有する酸化錫（以下、ＡＴＯと記載する）、錫を含有する酸化インジウム（以下、ＩＴＯと記載する）等が知られている（例えば、特許文献２〜７参照）。 In addition, an oxide semiconductor transparent film generally exhibits high light transmittance with respect to visible light, and has low resistance and strong film strength. Therefore, a transparent electrode such as a liquid crystal display, a window material for a solar cell, a heat ray reflective film, It is used in various fields such as antistatic film. As such an oxide semiconductor, tin oxide, tin oxide containing antimony (hereinafter referred to as ATO), indium oxide containing tin (hereinafter referred to as ITO), and the like are known (for example, patents). References 2-7).
従来は、絶縁体上に金属又は半導体性金属酸化物を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの気相法により堆積させる方法、バインダー成分（結合剤）である樹脂溶液中に分散させた分散液を塗料又はインクとして塗布又は印刷する塗工法等が知られている。 Conventionally, a metal or semiconducting metal oxide is deposited on an insulator by a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a dispersion in which a binder component (binder) is dispersed in a resin solution. There is known a coating method or the like for applying or printing as a paint or ink.
しかし、金属微粒子として銀を用いた場合に得られる導電膜では、銀の光透過スペクトルに依存して４００〜５００ｎｍの透過光に吸収が生じ、導電膜が黄色に着色し、透過画像の色相が不自然に変化するという問題や、膜の可視光平均透過率が低いために膜厚分布に起因した透過色のムラが目立ち易く、その防止のために生産性が悪化するという問題があった。 However, in the conductive film obtained when silver is used as the metal fine particles, absorption occurs in transmitted light of 400 to 500 nm depending on the light transmission spectrum of silver, the conductive film is colored yellow, and the hue of the transmission image is There was a problem that it changed unnaturally, and since the average visible light transmittance of the film was low, unevenness in the transmitted color due to the film thickness distribution was easily noticeable, and there was a problem that productivity deteriorated to prevent it.
また、錫を含有する酸化インジウムを用いた導電膜形成用組成物で得られる透明導電膜でも、同様に黄色や青色に着色し、透過画像の色相が不自然に変化するという問題があった。ＡＴＯやＩＴＯの酸化物半導体透明膜は、赤外線領域、特に近赤外線領域に急峻な吸収があるために青味を帯びている。また、酸化錫などの赤外線領域に吸収の無い酸化物半導体透明膜においても４００ｎｍ付近の光透過率が低く、黄味を帯びている。そのため従来の酸化物半導体透明膜においては可視光領域の分光曲線がフラットにならず、透過光の色相が不自然に変化するという問題があった（図１中のＩＴＯの場合の波長と光透過率との相関関係及びＳｎＯ2の場合の波長と光透過率との相関関係を示すグラフを参照のこと）。そのため透明基板を用いても、透明性が高く、導電性などの膜特性が実用目的に必要な水準に達している透明導電膜を得ることが困難であった。 Further, the transparent conductive film obtained from the conductive film-forming composition using indium oxide containing tin also has the problem that the color of the transmitted image changes unnaturally in the same manner as yellow or blue. An oxide semiconductor transparent film of ATO or ITO is bluish due to steep absorption in the infrared region, particularly the near infrared region. Further, even in an oxide semiconductor transparent film that does not absorb in the infrared region such as tin oxide, the light transmittance near 400 nm is low and yellowish. Therefore, the conventional oxide semiconductor transparent film has a problem that the spectral curve in the visible light region is not flat and the hue of transmitted light changes unnaturally (wavelength and light transmission in the case of ITO in FIG. 1). See the graph showing the correlation with the rate and the correlation between the wavelength and the light transmission in the case of SnO 2 ). Therefore, even when a transparent substrate is used, it has been difficult to obtain a transparent conductive film having high transparency and having film properties such as conductivity reaching a level necessary for practical purposes.
本発明は、上記の諸問題を解決するためになされたものであり、優れた帯電防止効果を有し、色相吸収が無いので膜の可視光透過率が非常に高く且つ透過画像の色相が自然であり、しかも、耐擦傷性にも優れた透明導電膜を形成し得る組成物、そのような透明導電膜並びにそのような透明導電膜を表示面に有するディスプレイを提供することを目的としている。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and has an excellent antistatic effect and no hue absorption, so that the visible light transmittance of the film is very high and the hue of the transmitted image is natural. In addition, an object of the present invention is to provide a composition capable of forming a transparent conductive film excellent in scratch resistance, such a transparent conductive film, and a display having such a transparent conductive film on a display surface.
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討した結果、特定のバインダー成分を用い、導電性粉体として水酸化錫〔Ｓｎ(ＯＨ) 4 〕粉体とその他の導電性粉体とを特定の比率で用いることにより望ましい結果が得られることを見出し、本発明に到達した。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventors have used a specific binder component, tin hydroxide [Sn (OH) 4 ] powder and other conductive powder as conductive powder. The present inventors have found that desirable results can be obtained by using a specific ratio in the present invention.
即ち、本発明の透明導電膜形成用組成物は、バインダー成分及び該バインダー成分中に分散した導電性粉体からなり、該バインダー成分は活性エネルギー線硬化性バインダー成分であり、該導電性粉体は水酸化錫粉体とその他の導電性粉体とからなり、該水酸化錫粉体が全導電性粉体の４５〜９９質量％を占めることを特徴とする。 That is, the composition for forming a transparent conductive film of the present invention comprises a binder component and a conductive powder dispersed in the binder component, and the binder component is an active energy ray-curable binder component, and the conductive powder Consists of a tin hydroxide powder and other conductive powder, characterized in that the tin hydroxide powder accounts for 45-99% by mass of the total conductive powder.
また、本発明の透明導電膜は、上記の透明導電膜形成用組成物を塗布又は印刷し、活性エネルギー線を照射し、硬化させて得られるものであることを特徴とする。
更に、本発明のディスプレイは、表示面に上記の透明導電膜形成用組成物を用いて形成された上記の透明導電膜を有することを特徴とする。
Moreover, the transparent conductive film of the present invention is obtained by applying or printing the above-mentioned composition for forming a transparent conductive film, irradiating with active energy rays, and curing the composition.
Furthermore, the display of this invention has said transparent conductive film formed using the said composition for transparent conductive film formation on a display surface, It is characterized by the above-mentioned.
本発明の透明導電膜形成用組成物は、塗料又はインクとして基板に塗布又は印刷し、その後活性エネルギー線を照射して硬化させることによって基板上に透明導電膜を形成することができる。従って、比較的耐熱性の低い樹脂基板や多様な形状の基板にも適用でき、透明導電膜を連続的に大量生産でき、また大面積化も容易である。得られる透明導電膜については、成膜条件を調整することにより、例えば、表面抵抗値が好ましくは１０6〜１ ０11Ω／□、より好ましくは１０6〜１０10Ω／□、光透過率が好ましくは８５％以上、ヘイズが好ましくは２．５％以下という、透明性、導電性及び耐擦傷性のいずれにも優れた透明導電膜となる。従って、本発明の透明導電膜形成用組成物は、液晶などの透明電極や、太陽電池の窓材料、赤外線反射膜、帯電防止膜、タッチパネル、面発熱体、電子写真記録など広範囲な分野に利用可能であり、各分野において優れた性能を示すことができる。 The composition for forming a transparent conductive film of the present invention can be applied or printed on a substrate as a paint or ink, and then irradiated with an active energy ray and cured to form a transparent conductive film on the substrate. Therefore, it can be applied to resin substrates having relatively low heat resistance and substrates having various shapes, and the transparent conductive film can be continuously mass-produced and the area can be easily increased. About the transparent conductive film obtained, by adjusting the film formation conditions, for example, the surface resistance value is preferably 10 6 to 10 11 Ω / □, more preferably 10 6 to 10 10 Ω / □, and light transmittance. Is preferably 85% or more, and the haze is preferably 2.5% or less, and it becomes a transparent conductive film excellent in all of transparency, conductivity and scratch resistance. Therefore, the composition for forming a transparent conductive film of the present invention is used in a wide range of fields such as transparent electrodes such as liquid crystals, solar cell window materials, infrared reflective films, antistatic films, touch panels, surface heating elements, and electrophotographic recording. It is possible to show excellent performance in each field.
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、バインダー成分中に水酸化錫粉体及びその他の導電性粉体が分散しており、該水酸化錫粉体として水酸化錫自体の粉体又はドーパントとしてＰ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｂの少なくとも一種を含む水酸化錫粉体を用いることができる。 In the composition for forming a transparent conductive film of the present invention, a tin hydroxide powder and other conductive powder are dispersed in a binder component, and the tin hydroxide powder is a powder of tin hydroxide itself or Tin hydroxide powder containing at least one of P, Al, In, Zn and Sb can be used as the dopant.
本発明で用い得る水酸化錫粉体は図１に示すように、広範囲の波長に渡って光透過率の優れたものであり、このような水酸化錫粉体は市販品を利用してもよく、或いは公知の方法（例えば、錫の塩化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和して水酸化物を共沈させ、この共沈物を乾燥させる）で製造することもできる。この水酸化錫粉体は平均一次粒子径が０．２μｍ以下である場合には透明膜が得られるが、０．２μｍを超えると得られる膜の透明性が低下する傾向があるので、水酸化錫粉体は平均一次粒子径が０．２μｍ以下の超微粒子であることが好ましい。しかし、得られる透明膜の透明性が重要でない用途に対しては、０．２μｍより大粒径の水酸化錫粉体も使用できる。なお、使用する水酸化錫の結晶性は、Ｘ線回折分析により判断して、アモルファス状態が好ましいが、一部が結晶化されていても良い。また水酸化錫の圧粉体抵抗は１×１０9Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the tin hydroxide powder that can be used in the present invention has excellent light transmittance over a wide range of wavelengths. Alternatively, it can also be produced by a known method (for example, an acidic solution in which tin chloride is dissolved is neutralized with an alkali to coprecipitate a hydroxide, and the coprecipitate is dried). This tin hydroxide powder provides a transparent film when the average primary particle size is 0.2 μm or less, but if it exceeds 0.2 μm, the transparency of the resulting film tends to decrease. The tin powder is preferably ultrafine particles having an average primary particle size of 0.2 μm or less. However, for applications in which the transparency of the resulting transparent film is not important, tin hydroxide powder having a particle size larger than 0.2 μm can also be used. In addition, although the crystallinity of the tin hydroxide used is judged by X-ray diffraction analysis and is preferably in an amorphous state, a part thereof may be crystallized. The green compact resistance of tin hydroxide is preferably 1 × 10 9 Ω · cm or less.
本発明で用い得るドーパントとしてＰ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｂの少なくとも一種を含む水酸化錫粉体は市販品として入手することができ、また、公知の方法（例えば、リンと錫の各塩化物が溶解した酸性溶液をアルカリで中和してリン／錫の水酸化物を共沈させ、この共沈物を乾燥させる）で製造することもできる。ドーパントとしてＰ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｂの少なくとも一種を含む水酸化錫粉体においては、（ドーパント＋Ｓｎ）に対するドーパントの量が０．１〜２０ａｔ％の範囲内であることが好ましく、１〜１５ａｔ％の範囲内であることがより好ましい。ドーパント含有量が０．１ａｔ％未満の場合にはドーパント含有の効果が不十分であり、ドーパント含有量が２０ａｔ％を超える場合にはドーパント含有水酸化錫粒子自体の抵抗が高くなるため、形成された膜の導電性が低下する傾向がある。このドーパントとしてＰ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｂの少なくとも１種を含む水酸化錫粉体は上記と同様に平均一次粒子径が０．２μｍ以下の超微粒子であることが好ましい。 Tin hydroxide powder containing at least one of P, Al, In, Zn, and Sb as a dopant that can be used in the present invention can be obtained as a commercial product, and can be obtained by a known method (for example, phosphorus and tin chlorides). The acid solution in which the product is dissolved is neutralized with an alkali to coprecipitate phosphorus / tin hydroxide, and the coprecipitate is dried. In the tin hydroxide powder containing at least one of P, Al, In, Zn and Sb as the dopant, the amount of dopant relative to (dopant + Sn) is preferably in the range of 0.1 to 20 at%, More preferably, it is within the range of 15 at%. When the dopant content is less than 0.1 at%, the effect of the dopant content is insufficient, and when the dopant content exceeds 20 at%, the resistance of the dopant-containing tin hydroxide particles themselves is increased. The conductivity of the film tends to decrease. The tin hydroxide powder containing at least one of P, Al, In, Zn, and Sb as the dopant is preferably ultrafine particles having an average primary particle size of 0.2 μm or less as described above.
本発明においては、水酸化錫以外のその他の導電性粉体は得られる透明導電膜の導電性を増強するために添加するものであり、その他の導電性粉体の種類は目的を達成できるものであれば特には限定されず、市販品等の公知のものを用いることができる。例えば、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯ、酸化亜鉛アルミニウム、五酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛などの金属酸化物を用いることができる。高い導電性と透明性を得るためには、酸化錫、ＡＴＯ、ＩＴＯが好ましい。これらのその他の導電性粉体は上記と同様に平均一次粒子径が０．２μｍ以下の超微粒子であることが好ましい。 In the present invention, other conductive powders other than tin hydroxide are added to enhance the conductivity of the obtained transparent conductive film, and the types of other conductive powders can achieve the purpose. If it is, it will not specifically limit, Well-known things, such as a commercial item, can be used. For example, metal oxides such as tin oxide, ATO, ITO, zinc aluminum oxide, antimony pentoxide, and zinc antimonate can be used. In order to obtain high conductivity and transparency, tin oxide, ATO, and ITO are preferable. These other conductive powders are preferably ultrafine particles having an average primary particle size of 0.2 μm or less as described above.
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、導電性粉体は水酸化錫自体の粉体及びドーパントとしてＰ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ及びＳｂの少なくとも一種を含む水酸化錫粉体よりなる群から選ばれる水酸化錫粉体（以下、単に水酸化錫粉体と記載する）とその他の導電性粉体とからなり、該水酸化錫粉体が全導電性粉体の４５〜９９質量％、好ましくは５０〜９５質量％を占める。水酸化錫粉体の割合が４５質量％よりも少ない場合には、得られる透明導電膜の導電性は十分であっても、透明性が低下する傾向がある。逆に、水酸化錫粉体の割合が９９質量％よりも多い場合には、得られる透明導電膜の透明性は十分であっても、導電性の向上は得られない。 In the composition for forming a transparent conductive film of the present invention, the conductive powder comprises a powder of tin hydroxide itself and a tin hydroxide powder containing at least one of P, Al, In, Zn and Sb as a dopant. A tin hydroxide powder (hereinafter simply referred to as a tin hydroxide powder) and other conductive powder, the tin hydroxide powder being 45 to 99% by mass of the total conductive powder. Preferably 50 to 95% by mass. When the proportion of the tin hydroxide powder is less than 45% by mass, the transparency tends to decrease even if the conductivity of the obtained transparent conductive film is sufficient. On the contrary, when the ratio of the tin hydroxide powder is more than 99% by mass, the conductivity cannot be improved even if the transparency of the obtained transparent conductive film is sufficient.
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、導電性粉体とバインダー成分との質量比（導電性粉体／バインダー成分）は、好ましくは５／９５〜９５／５の範囲内、より好ましくは１０／９０〜９０／１０の範囲内、最も好ましくは１０／９０〜８５／１５の範囲内である。導電性粉体の量が上記質量比で５／９５より少ないと、得られる膜は透明性が十分であっても、導電性が悪くなる傾向がある。逆に、導電性粉体が上記質量比で９５／５より多いと、粉体の分散性が悪くなり、得られた導電膜の透明性、基板への密着性が低くなり、膜性能が低下する傾向がある。 In the composition for forming a transparent conductive film of the present invention, the mass ratio of the conductive powder and the binder component (conductive powder / binder component) is preferably in the range of 5/95 to 95/5, more preferably. Is in the range of 10/90 to 90/10, most preferably in the range of 10/90 to 85/15. If the amount of the conductive powder is less than 5/95 by the above mass ratio, the resulting film tends to be poor in conductivity even if the film has sufficient transparency. On the contrary, when the conductive powder is more than 95/5 in the above mass ratio, the dispersibility of the powder is deteriorated, the transparency of the obtained conductive film and the adhesion to the substrate are lowered, and the film performance is lowered. Tend to.
本発明の透明導電膜形成用組成物で用いる活性エネルギー線硬化性バインダー成分とは、水酸化錫粉体とその他の導電性粉体とからなる導電性粉体を結合して透明導電膜を形成し得る成分を意味する。活性エネルギー線硬化性バインダー成分として、例えば、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物を挙げることができる。以下の記載において、このアクリレート化合物とメタクリレート化合物とを総称して（メタ）アクリレート化合物と記載する。 The active energy ray-curable binder component used in the composition for forming a transparent conductive film of the present invention forms a transparent conductive film by combining conductive powder composed of tin hydroxide powder and other conductive powder. Means a possible component. Examples of the active energy ray-curable binder component include acrylate compounds and methacrylate compounds. In the following description, these acrylate compounds and methacrylate compounds are collectively referred to as (meth) acrylate compounds.
本発明の透明導電膜形成用組成物で用いる活性エネルギー線硬化性バインダー成分として、上記の（メタ）アクリレート化合物の他に、ラジカル重合性モノマー及び／又はオリゴマーを挙げることができる。ラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性の不飽和基（α，β−エチレン性不飽和基）を有しているモノマーであれば、アミノ基等の塩基性官能基を有するもの、ＯＨ基などの中性官能基を有するもの、カルボキシル基等の酸性官能基を有するもの、或いはこのような官能基を有していないもの、の何れでもよい。 Examples of the active energy ray-curable binder component used in the composition for forming a transparent conductive film of the present invention include radical polymerizable monomers and / or oligomers in addition to the above (meth) acrylate compounds. As long as the radically polymerizable monomer is a monomer having a radically polymerizable unsaturated group (α, β-ethylenically unsaturated group), a monomer having a basic functional group such as an amino group, an OH group, etc. Any of those having a neutral functional group, those having an acidic functional group such as a carboxyl group, or those having no such functional group may be used.
ラジカル重合性モノマーの具体例として、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、アリルアルコール等の（メタ）アクリレート以外のラジカル重合性モノマー；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、アリルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の二官能（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の三官能以上の（メタ）アクリレートを挙げることができる。 Specific examples of radical polymerizable monomers include radical polymerizable monomers other than (meth) acrylates such as styrene, vinyl toluene, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, acrylonitrile, and allyl alcohol; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate , Isopropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono ( 1) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, polyethylene glycol polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol polytetramethylene glycol mono (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, allyl di ( (Meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) Acrylate, polyethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol S di (meth) acrylate, bisphenol S di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol Bifunctional (meth) acrylates such as di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene modified trimethylol Trifunctional or higher functional (meth) acrylates such as propane tri (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate can be exemplified.
ラジカル重合性オリゴマーの具体例として、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、オリゴ（メタ）アクリレート、アルキド（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリロイル基を少なくとも１個有するプレポリマーを挙げることができる。特に好ましいラジカル重合性オリゴマーは、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタンの各（メタ）アクリレートである。 Specific examples of radically polymerizable oligomers include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, oligo (meth) acrylate, alkyd (meth) acrylate, and polyol (meth). Mention may be made of prepolymers having at least one (meth) acryloyl group such as acrylate and silicone (meth) acrylate. Particularly preferred radical polymerizable oligomers are (meth) acrylates of polyester, epoxy, and polyurethane.
本発明の透明導電膜形成用組成物を有用な活性エネルギー線硬化型とするために、組成物中に重合開始剤（光増感剤）を添加することが望ましい。その添加により、少量の活性エネルギー線の照射で組成物を硬化させることができる。但し、本発明の透明導電膜形成用組成物は熱硬化させることもできるので、熱硬化型として使用する場合には、光増感剤に変えて適当なラジカル重合開始剤（例えば、アゾビスイソブチロニトリル）を配合してもよい。 In order to make the composition for forming a transparent conductive film of the present invention a useful active energy ray-curable composition, it is desirable to add a polymerization initiator (photosensitizer) to the composition. By the addition, the composition can be cured by irradiation with a small amount of active energy rays. However, since the composition for forming a transparent conductive film of the present invention can be thermally cured, when used as a thermosetting type, a suitable radical polymerization initiator (for example, azobisiso) is used instead of a photosensitizer. Butyronitrile) may be blended.
活性エネルギー線硬化型とするために用いる重合開始剤として、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルサルファイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１を挙げることができる。重合開始剤は１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の配合量はバインダー成分１００質量部に対して好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部の範囲内である。 Examples of the polymerization initiator used for the active energy ray curable type include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, benzyl dimethyl ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyl. Mention is diphenyl sulfide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1. Can do. A polymerization initiator may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. The amount of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder component.
さらに、本発明の透明導電膜形成用組成物には、その目的を損なわない範囲内で、上記以外の慣用の各種添加剤を配合してもよい。このような添加剤として、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、レベリング剤等を挙げることができる。 Furthermore, you may mix | blend various conventional additives other than the above in the range which does not impair the objective to the composition for transparent conductive film formation of this invention. Examples of such additives include a polymerization inhibitor, a curing catalyst, an antioxidant, and a leveling agent.
本発明の透明導電膜形成用組成物においては、上記バインダー成分を溶解または分散させると共に、導電性微粒子を分散させることができるが基材を侵さない溶剤であれば、一般的に塗料で用いられている任意の溶剤を特に制限なく用いることができる。例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン、ｍ−キシレン等の炭化水素、テトラクロロメタン、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサン等のケトン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル等のエステル、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル／アルコールやエーテル／エステル、およびこれら混合系を用いることができる。そのような溶剤の使用量については、導電性粉体を分散させて最終的に得られる組成物の粘性が塗布又は印刷に適したものとなるように調整する。本発明の透明導電膜形成用組成物においては粘度が２〜１００００ｃｐｓ（Ｅ型粘度計：２０℃）の範囲内にあることが好ましい。 In the composition for forming a transparent conductive film of the present invention, a solvent that can dissolve or disperse the binder component and disperse the conductive fine particles but does not attack the substrate is generally used in a paint. Any solvent can be used without particular limitation. For example, hydrocarbons such as hexane, heptane, cyclohexane, toluene and m-xylene, halogenated hydrocarbons such as tetrachloromethane and trichloroethylene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, isophorone and cyclohexane, diethyl ether , Ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isoamyl acetate, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, n-pentanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, diacetone alcohol , Alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, glycerin, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Use ether / alcohol or ether / ester such as coal monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and mixtures thereof Can do. About the usage-amount of such a solvent, it adjusts so that the viscosity of the composition finally obtained by disperse | distributing electroconductive powder may become a thing suitable for application | coating or printing. The composition for forming a transparent conductive film of the present invention preferably has a viscosity in the range of 2 to 10000 cps (E-type viscometer: 20 ° C.).
本発明の透明導電膜形成用組成物は、例えば、上記バインダー成分に必要に応じて有機溶媒を加えて希釈したバインダー成分溶液中に導電性粉体を分散させることにより製造することができる。また、導電性粉体を有機溶媒に分散させ、その後、上記バインダー成分を加えて分散させることによっても製造することができる。無論、バインダー成分、導電性粉体、及び有機溶媒の３成分を同時に混合し、分散させることによっても製造することができる。このような分散操作は、常法により、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって行うことができる。無論、通常の攪拌操作によって分散させることもできる。 The composition for forming a transparent conductive film of the present invention can be produced, for example, by dispersing conductive powder in a binder component solution diluted by adding an organic solvent to the binder component as necessary. Moreover, it can manufacture also by disperse | distributing electroconductive powder in an organic solvent, and adding and dispersing the said binder component after that. Of course, it can also be produced by simultaneously mixing and dispersing the three components of the binder component, the conductive powder, and the organic solvent. Such a dispersion operation can be performed by a conventional method using a paint shaker, a ball mill, a sand mill, a sentry mill, a triple roll or the like. Of course, it can also be dispersed by a normal stirring operation.
本発明の透明導電膜形成用組成物を塗布して本発明の透明導電膜を形成する基板としては、電気・電子機器をはじめとして様々な分野において広く用いられている各種の合成樹脂、ガラス、セラミックス等を挙げることができ、これらはシート状、フィルム状、板状等の任意の形状であり得る。合成樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂及びフェノール樹脂等を挙げることができるが、これらに制限されるものではない。 As a substrate on which the transparent conductive film-forming composition of the present invention is applied to form the transparent conductive film of the present invention, various synthetic resins, glass, widely used in various fields including electric and electronic devices, Ceramics etc. can be mentioned, These can be arbitrary shapes, such as sheet form, film form, and plate shape. Specific examples of the synthetic resin include polyethylene, polypropylene, polycarbonate, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl chloride, polyester resin, polyamide resin, and phenol resin, but are not limited thereto.
本発明の透明導電膜形成用組成物の基板への塗布又は印刷は常法により、例えば、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷などの手法で行うことができる。その後、必要により加熱して溶媒を蒸発させ、塗膜を乾燥させる。次いで、活性エネルギー線（紫外線又は電子線）を照射する。活性エネルギー線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、色素レーザーなどの紫外線源、ならびに電子線加速装置を使用することができる。活性エネルギー線の照射量は、紫外線の場合には５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2、電子線の場合には０．２〜１０００μＣ／ｃｍ2の範囲内が適当である。この活性エネルギー線の照射により、上記バインダー成分が重合し、導電性粉体が樹脂で結合された透明導電膜が形成される。この透明導電膜の膜厚は一般的に０．1〜１０．０μｍの範囲内であることが好ましい。 Application or printing of the composition for forming a transparent conductive film of the present invention on a substrate can be performed by a conventional method, for example, by a method such as roll coating, spin coating, or screen printing. Thereafter, if necessary, the solvent is evaporated by heating to dry the coating film. Next, active energy rays (ultraviolet rays or electron beams) are irradiated. As the active energy ray source, an ultraviolet ray source such as a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an excimer laser, or a dye laser, and an electron beam accelerator can be used. The irradiation amount of the active energy ray is suitably within the range of 50 to 3000 mJ / cm 2 in the case of ultraviolet rays and 0.2 to 1000 μC / cm 2 in the case of electron beams. By irradiation with this active energy ray, the binder component is polymerized to form a transparent conductive film in which conductive powder is bonded with resin. In general, the thickness of the transparent conductive film is preferably in the range of 0.1 to 10.0 μm.
基板上に本発明の透明導電膜形成用組成物から形成された本発明の透明導電膜は、例えば、表面抵抗値が好ましくは１０6〜１０11Ω／□、より好ましくは１０6〜１０10Ω／□、光透過率が好ましくは８５％以上、ヘイズが好ましくは２．５％以下という、透明性、導電性、耐擦傷性のいずれにも優れた透明導電膜となる。このような透明導電膜は電子写真記録の埃防止膜として、或いは帯電防止膜等として利用可能であり、例えば、ディスプレイの表示面に用いることができる。 The transparent conductive film of the present invention formed on the substrate from the composition for forming a transparent conductive film of the present invention has, for example, a surface resistance value of preferably 10 6 to 10 11 Ω / □, more preferably 10 6 to 10 10. A transparent conductive film excellent in all of transparency, conductivity, and scratch resistance, with Ω / □ and light transmittance of preferably 85% or more and haze of preferably 2.5% or less. Such a transparent conductive film can be used as a dust prevention film or an antistatic film for electrophotographic recording, and can be used, for example, on a display surface of a display.
以下に、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。実施例で使用した水酸化錫粉体は平均一次粒子径が０．０４μｍの粒子であり、粉体抵抗が１×１０7Ω・ｃｍであり、ドーパントとしてリンを含む水酸化錫粉体はＳｎ＋Ｐに対するＰの量が５．０ａｔ％であり、平均一次粒子径が０．０４μｍの粒子であり、酸化錫は平均一次粒子径が０．０４μｍの粒子であり、ＡＴＯは平均一次粒子径が０．０２μｍの粒子であり、ＩＴＯは平均一次粒子径が０．０４μｍの粒子であった。また、実施例及び比較例において「部」は全て「質量部」である。 The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. The tin hydroxide powder used in the examples is a particle having an average primary particle size of 0.04 μm, the powder resistance is 1 × 10 7 Ω · cm, and the tin hydroxide powder containing phosphorus as a dopant is Sn + P. The amount of P is 5.0 at%, the average primary particle diameter is 0.04 μm, tin oxide is an average primary particle diameter of 0.04 μm, and ATO has an average primary particle diameter of 0.04 μm. The particles were 02 μm, and the ITO had an average primary particle size of 0.04 μm. In Examples and Comparative Examples, “parts” are all “parts by mass”.
実施例１
トリメチロールプロパントリアクリレート１０部及びポリエステルアクリレート５部からなるバインダー成分を、導電性粉体としての水酸化錫粉体６５部及び酸化錫粉体２０部、溶剤としてのエチルアルコール１５０部及びガラスビーズ２５０部と共に容器に入れ、ペイントシェーカーで、粒ゲージにより分散状態を確認しながら、５時間練合した。練合後、光開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１を３部加えて完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除き、粘稠な液状物を得た。その後、ロールコーターを用いてその粘稠な液状物を膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡Ａ４１００）上に塗布し、有機溶媒を蒸発させた後、高圧水銀灯にて５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Example 1
A binder component consisting of 10 parts of trimethylolpropane triacrylate and 5 parts of polyester acrylate, 65 parts of tin hydroxide powder and 20 parts of tin oxide powder as conductive powder, 150 parts of ethyl alcohol as solvent and 250 glass beads. The mixture was placed in a container together with the part, and kneaded for 5 hours with a paint shaker while confirming the dispersion state with a particle gauge. After kneading, 3 parts of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 as a photoinitiator was added and completely dissolved, and then the glass beads were removed to give a viscous liquid. I got a thing. Then, the viscous liquid material was applied onto a 100 μm-thick PET film (Toyobo A4100) using a roll coater, the organic solvent was evaporated, and then irradiated with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp. A transparent cured film having a thickness of 5 μm was prepared.
実施例２
バインダー成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート２５部及びポリウレタンアクリレート５部を用い、導電性粉体としてのドーパントとしてリンを含む水酸化錫粉体７０部、溶剤としてのイソブタノール１５０部及びガラスビーズ２５０部と共に容器に入れ、ペイントシェーカーで、粒ゲージにより分散状態を確認しながら、５時間練合した。練合後、光開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１を３部加えて、完全に溶解させた後、ガラスビーズを取り除いて粘稠な液状物を得た（透明導電膜形成用組成物Ａ）。ドーパントとしてリンを含む水酸化錫粉体７０部の代わりにＡＴＯ粉体７０部を用いた以外は透明導電膜形成用組成物Ａの調製と同様に処理して粘稠な液状物を得た（透明導電膜形成用組成物Ｂ）。得られた透明導電膜形成用組成物Ａ６５部と透明導電膜形成用組成物Ｂ５部とを十分に混合して塗工液を調製した。その後、実施例１と同様に処理して厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Example 2
Using 25 parts of trimethylolpropane triacrylate and 5 parts of polyurethane acrylate as a binder component, 70 parts of tin hydroxide powder containing phosphorus as a dopant as a conductive powder, 150 parts of isobutanol as a solvent and 250 parts of glass beads It put into the container and knead | mixed for 5 hours, confirming a dispersion state with a particle gauge with a paint shaker. After kneading, 3 parts of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 as a photoinitiator was added and completely dissolved, and then the glass beads were removed to give a viscous solution. A liquid material was obtained (transparent conductive film forming composition A). A viscous liquid material was obtained in the same manner as the preparation of the transparent conductive film forming composition A except that 70 parts of ATO powder was used instead of 70 parts of tin hydroxide powder containing phosphorus as a dopant ( Transparent conductive film-forming composition B). The obtained transparent conductive film forming composition A65 parts and transparent conductive film forming composition B5 parts were sufficiently mixed to prepare a coating solution. Then, it processed like Example 1 and produced the transparent cured film of thickness 5 micrometers.
実施例３
バインダー成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６０部、導電性粉体としての水酸化錫粉体３０部、酸化錫粉体５部及びＩＴＯ粉体５部、溶剤としてのイソプロピルアルコール１２０部及びメチルエチルケトン３０部を用いた以外は実施例１と同様に処理して厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Example 3
60 parts dipentaerythritol hexaacrylate as binder component, 30 parts tin hydroxide powder as conductive powder, 5 parts tin oxide powder and 5 parts ITO powder, 120 parts isopropyl alcohol and 30 parts methyl ethyl ketone as solvent A transparent cured film having a thickness of 5 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that was used.
実施例４
バインダー成分としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７５部及びポリエステルアクリレート１５部、導電性粉体として水酸化錫粉体５部及び酸化錫粉体５部、溶剤としてのジアセトンアルコール１５０部を用いた以外は実施例１と同様に処理して厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Example 4
Except for using 75 parts of dipentaerythritol hexaacrylate and 15 parts of polyester acrylate as the binder component, 5 parts of tin hydroxide powder and 5 parts of tin oxide powder as the conductive powder, and 150 parts of diacetone alcohol as the solvent. A transparent cured film having a thickness of 5 μm was prepared in the same manner as in Example 1.
比較例１
バインダー成分としてのアクリルレジン溶液（ダイヤナールＬＲ−９０、固形分３０％、三菱レイヨン株式会社製）３０部を、導電性粉末としてのＩＴＯ粉体７０部、溶剤としてのジアセトンアルコール１５０部及びガラスビーズ２５０部と共に容器に入れ、ペイントシェーカーで、粒ゲージにより分散状態を確認しながら、５時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除き、粘稠な液状物を得た。その後、ロールコーターを用いてその粘稠な液状物を膜厚１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡Ａ４１００）上に塗布し、有機溶媒を蒸発させた後、６０℃で１０分間乾燥させて厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Comparative Example 1
30 parts of acrylic resin solution (Dianar LR-90, solid content 30%, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a binder component, 70 parts of ITO powder as conductive powder, 150 parts of diacetone alcohol as solvent and glass The mixture was placed in a container together with 250 parts of beads and kneaded for 5 hours with a paint shaker while confirming the dispersion state with a particle gauge. After kneading, the glass beads were removed to obtain a viscous liquid. Thereafter, the viscous liquid material is applied onto a 100 μm-thick PET film (Toyobo A4100) using a roll coater, the organic solvent is evaporated, and then dried at 60 ° C. for 10 minutes to be transparently cured with a thickness of 5 μm. A coating was prepared.
比較例２
導電性粉末として水酸化錫粉体３０部及び酸化錫粉体４０部を用いた以外は実施例１と同様に処理して厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Comparative Example 2
A transparent cured film having a thickness of 5 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that 30 parts of tin hydroxide powder and 40 parts of tin oxide powder were used as the conductive powder.
比較例３
導電性粉末として酸化錫粉体２部及びＡＴＯ粉体８部を用いた以外は実施例１と同様に処理して厚み５μｍの透明硬化被膜を作製した。
Comparative Example 3
A transparent cured film having a thickness of 5 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2 parts of tin oxide powder and 8 parts of ATO powder were used as the conductive powder.
実施例１〜４及び比較例１〜３で得た透明硬化被膜について、その全線光透過率及びヘイズを東京電色技術センター製ＴＣ−ＨＩＩＩ ＤＰＫで測定した。測定値は基材を含んだ値である。また、表面抵抗値を三菱化学株式会社製のハイレスタＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０表面抵抗器で測定した。そして、耐擦傷性を下記の基準で目視で評価した。それらの測定結果を第１表にまとめて示す。なお、第１表には導電性粉体の組成、水酸化錫粉体割合（質量％）、Ｐ／Ｂも示す。 About the transparent cured film obtained in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3, the total light transmittance and haze were measured by TC-HIII DPK by Tokyo Denshoku Technical Center. The measured value is a value including the base material. Further, the surface resistance value was measured with a Hiresta IP MCP-HT260 surface resistor manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. And abrasion resistance was visually evaluated on the following reference | standard. The measurement results are summarized in Table 1. Table 1 also shows the composition of the conductive powder, the tin hydroxide powder ratio (% by mass), and P / B.
＜耐擦傷性評価基準＞
透明硬化被膜面をスチールウール（＃００００）１０００ｇ荷重にて１０往復擦傷した後の表面状態を下記の基準で目視で評価した。
○：キズなし
△：キズ多少有り
×：キズあり
<Evaluation criteria for scratch resistance>
The surface condition after 10 reciprocal scratches of the transparent cured coating surface with a steel wool (# 0000) load of 1000 g was visually evaluated according to the following criteria.
○: No scratch △: Some scratches ×: Scratches
第１表に示すデータから明らかなように、導電性粉体が水酸化錫粉体とその他の導電性粉体とからなる本発明の導電膜形成用組成物を塗布した場合（実施例１〜４）には、表面抵抗値が１０6〜１０10 Ω／□、光透過率が８５％以上、ヘイズ２．５％以下という、透明性、導電性、耐擦傷性のいずれにも優れた透明導電膜が得られたが、ＩＴＯ粉体又は水酸化錫粉体が全導電性粉体の４５〜９９質量％の範囲外を占める導電膜形成用組成物を塗布した場合（比較例１〜３）には、光透過率が８５％未満であった。なお、活性エネルギー線硬化性バインダー成分を含有しない導電膜形成用組成物を塗布した場合（比較例１）には、耐擦傷性が低かった。 As is clear from the data shown in Table 1, when the conductive film-forming composition of the present invention in which the conductive powder is composed of tin hydroxide powder and other conductive powder is applied (Examples 1 to 4), a surface resistance value of 10 6 to 10 10 Ω / □, a light transmittance of 85% or more, and a haze of 2.5% or less, which is excellent in transparency, conductivity, and scratch resistance. When the electrically conductive film was obtained, but the composition for electrically conductive film formation which ITO powder or a tin hydroxide powder occupies the outside of the range of 45-99 mass% of all the electrically conductive powder was applied (Comparative Examples 1-3) ) Had a light transmittance of less than 85%. In addition, when the composition for electrically conductive film formation which does not contain an active energy ray hardening binder component was apply | coated (comparative example 1), the abrasion resistance was low.
Claims (8)
A display comprising the transparent conductive film according to claim 6 or 7 on a display surface.
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