JP4265871B2 - アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法 - Google Patents
アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4265871B2 JP4265871B2 JP2000585253A JP2000585253A JP4265871B2 JP 4265871 B2 JP4265871 B2 JP 4265871B2 JP 2000585253 A JP2000585253 A JP 2000585253A JP 2000585253 A JP2000585253 A JP 2000585253A JP 4265871 B2 JP4265871 B2 JP 4265871B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- reaction
- phenyl
- formula
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 64
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 44
- -1 II Chemical class 0.000 claims description 40
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 19
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 8
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L pentamethonium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].C[N+](C)(C)CCCCC[N+](C)(C)C GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 4
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 43
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 abstract description 14
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 8
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 abstract description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 34
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 15
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 15
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 13
- UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(Cl)=O)C(C)=C1 UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 8
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxybenzoyl chloride Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(Cl)=O NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- IMDXZWRLUZPMDH-UHFFFAOYSA-N dichlorophenylphosphine Chemical compound ClP(Cl)C1=CC=CC=C1 IMDXZWRLUZPMDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 4
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acenaphthylene Chemical compound C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N chlorodiphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(Cl)C1=CC=CC=C1 XGRJZXREYAXTGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSANLGASBHUYGD-UHFFFAOYSA-N sulfidophosphanium Chemical class S=[PH3] WSANLGASBHUYGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NRIZVLRYGLSKRU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethoxyphenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NRIZVLRYGLSKRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethoxyphenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJZYRHXRWZWBAH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethylphosphane Chemical compound PCC(Cl)Cl AJZYRHXRWZWBAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBLIDPPHFGWTKU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl JBLIDPPHFGWTKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N [(2,4-dipentoxyphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CCCCCOC1=CC(OCCCCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNRISHWSPBDRTH-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-phenylphosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl DNRISHWSPBDRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJWYMRUZYLNKIY-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4-dipentoxyphenyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound CCCCCOC1=CC(OCCCCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC=CC=1OC)OC)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC ZJWYMRUZYLNKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXKGRRXMDPANPL-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-phenylphosphinothioyl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=S)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC UXKGRRXMDPANPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QISAYNXDUCNISJ-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-phenylphosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC QISAYNXDUCNISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZCSKSWDKYZTLJ-UHFFFAOYSA-N [ethyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC=1C=C(C)C=C(C)C=1C(=O)P(=O)(CC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C UZCSKSWDKYZTLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWCHTSVGBYYIC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinothioyl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=S)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C YCWCHTSVGBYYIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGGIVLTKSDWAW-UHFFFAOYSA-N [tert-butyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C(C)(C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C BUGGIVLTKSDWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthalene Natural products C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000004792 aryl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- HTJAVJQJNIBGMU-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylphenyl)phosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C HTJAVJQJNIBGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N butoxybenzene Chemical group CCCCOC1=CC=CC=C1 YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N decacyclene Chemical compound C12=C([C]34)C=CC=C4C=CC=C3C2=C2C(=C34)C=C[CH]C4=CC=CC3=C2C2=C1C1=CC=CC3=CC=CC2=C31 CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NLIZDTJECPLGEI-UHFFFAOYSA-N dichloro-[2-(2,4-dipentoxyphenyl)phenyl]phosphane Chemical compound C(CCCC)OC1=C(C=CC(=C1)OCCCCC)C1=C(C=CC=C1)P(Cl)Cl NLIZDTJECPLGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- XIKXCLVUTOYXLY-UHFFFAOYSA-N lithium;phenylphosphane Chemical compound [Li].[Li].PC1=CC=CC=C1 XIKXCLVUTOYXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N methoxypropane Chemical compound CCCOC VNKYTQGIUYNRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- DSNYFFJTZPIKFZ-UHFFFAOYSA-N propoxybenzene Chemical group CCCOC1=CC=CC=C1 DSNYFFJTZPIKFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 239000012261 resinous substance Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NMJASRUOIRRDSX-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dichloro)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(Cl)Cl NMJASRUOIRRDSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N trans-stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5036—Phosphines containing the structure -C(=X)-P or NC-P
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5337—Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【０００１】
本発明は、中間体の単離を伴わない、アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法に関する。
【０００２】
モノ−およびビスアシルホスフィン類は、モノ−およびビスアシルホスフィンオキシドまたはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド化合物を製造するときに得られる中間体として、技術の状況において既知である。これらのオキシド類およびスルフィド類は、エチレン性不飽和化合物の光重合における反応開始剤として、種々の応用を見出している。これについては、多数の特許、とりわけUS 4,298,738、4,737,593、4,792,632、5,218,009、5,399,770、5,472,992または5,534,559に実証されている。US 4,298,738は、ジオルガニルホスフィンクロリドとアルコールとの反応、およびこれに続く反応生成物と酸ハロゲン化物との反応を介する、モノアシルホスフィンオキシド類の製造を開示している。EP 40,721では、モノアシルホスフィン類が、酸ハロゲン化物とリチウムジオルガニルホスフィン、ジオルガニルホスフィンまたはジオルガニルトリアルキルシリルホスフィン（これらは、ブチルリチウムとの反応により得られる）との反応から得られる。Angew. Makromol. Chem. 199(1992), 1-6では、S. Banerjeeらは、ジリチウムフェニルホスフィンとテレフタロイルクロリドとの反応によるポリ（テレフタロイルホスフィン）の製造を記載している。US 5,472,992は、とりわけ、ホスフィンと対応する酸塩化物との塩基の存在下での反応を介して、これに続く、生成するビスアシルホスフィンの酸化による、ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤の製造を実施する。
【０００３】
モノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類の技術は、これらの化合物の優れた光開始剤の性質により、ますます重要になっているため、必要な中間体、特に対応するモノ−およびビスアシルホスフィン類、しかしまたオキシドおよびスルフィド最終生成物の製造に関しても、可能な限り面倒の少ない、非常に実用的な方法に対するニーズも存在している。
【０００４】
その揮発性、悪臭、毒性ならびに空気の影響を受けやすさおよび引火性のために望ましくない、ホスフィン遊離体（Ｒ2−ＰＨ、Ｒ−ＰＨ2）の使用を回避することが可能な方法が、今や見出された。
【０００５】
本発明は、モノ−およびビスアシルホスフィン類のワンポット製造方法、ならびにモノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド類のワンポット製造方法の両方に関するものであり、ここで、出発物質は、揮発性、毒性および空気の影響を受けやすさがより低い、モノハロゲノホスフィン類またはＰ，Ｐ−ジハロゲノホスフィン類であってよい。
【０００６】
式（Ｉ）：
【０００７】
【化１０】
【０００８】
〔式中、
ｎおよびｍは、それぞれ独立に１または２であり；
Ｒ1は、ｎ＝１のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1は、ｎ＝２のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキレン、１個または数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキレンであるか；あるいはＲ1は、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシフェニルにより置換されているＣ1〜Ｃ6アルキレンであるか；あるいはＲ1は、フェニレンまたはキシリレン（これらの基は、非置換であるか、あるいは１〜３個のＣ1〜Ｃ4アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか；あるいはＲ1は、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2−、
【０００９】
【化１１】
【００１０】
で示される基であり；
Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはハロゲンにより置換されている）であり；
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｑは、単結合、ＣＲ6Ｒ7、−Ｏ−または−Ｓ−であり；
Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシであり；
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ1〜Ｃ4アルキルである〕
で示されるアシルホスフィン類の製造方法であって、
（１）式（II）：
【００１１】
【化１２】
【００１２】
〔式中、
Ｒ1、Ｒ3、ｎおよびｍは、上記と同義であり、そして
Ｙは、ＢｒまたはＣｌである〕
で示される有機ハロゲン化リンと、アルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの混合物との、適宜、触媒の存在下での反応；ならびに
（２）これに続く式（III）：
【００１３】
【化１３】
【００１４】
〔式中、Ｒ2、Ｙおよびｍは、上記と同義である〕で示されるｍ個の酸ハロゲン化物との反応
による、中間体の単離を伴わずに実施される方法が見出された。
【００１５】
別の態様において、本発明は、式（IV）：
【００１６】
【化１４】
【００１７】
〔式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ｎおよびｍは、請求項１と同義であり、そして
Ｚは、ＯまたはＳである〕
で示されるアシルホスフィンオキシド類およびアシルホスフィンスルフィド類の製造方法であって、
（１）式（II）：
【００１８】
【化１５】
【００１９】
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｙ、ｎおよびｍは、請求項１と同義である〕で示される有機ハロゲン化リンと、アルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの混合物との、適宜、触媒の存在下での反応；ならびに
（２）これに続く式（III）：
【００２０】
【化１６】
【００２１】
〔式中、Ｒ2、ｍおよびＹは、請求項１と同義である〕で示されるｍ個の酸ハロゲン化物との反応；および
（３）反応（２）により得られる式（Ｉ）：
【００２２】
【化１７】
【００２３】
で示されるアシルホスフィンの酸化または硫黄との反応
による、中間体の単離を伴わずに実施される方法に関する。
【００２４】
Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、直鎖状または分岐状であり、そしてたとえば、Ｃ1〜Ｃ12−、Ｃ1〜Ｃ8−、Ｃ1〜Ｃ6−またはＣ1〜Ｃ4アルキルである。例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルまたはオクタデシルがある。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ12−、Ｃ1〜Ｃ8−およびＣ1〜Ｃ4アルキルもまた、直鎖状または分岐状であり、そしてたとえば、炭素原子の相当する数までの上記と同じ意味を有する。
【００２６】
１回か、または数回の不連続の−Ｏ−によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキルは、たとえば、１〜９回、たとえば１〜７回、１〜５回、１〜３回または１もしくは２回、−Ｏ−によって中断されており、これらのＯ原子の間には、常に少なくとも１個のメチレン基によって中断されている。アルキル基は、直鎖状または分岐状であってよい。そのようにして得られる構造単位は、たとえば、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3、−〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ〕y−ＣＨ3（ここで、ｙ＝１〜８）、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7ＣＨ2ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3または−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3である。
【００２７】
フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキルは、代表的にはベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル、フェニルブチルまたはα，α−ジメチルベンジルであり、好ましくはベンジルである。
【００２８】
Ｃ2〜Ｃ18アルケニル基は、モノ−またはポリ不飽和で、直鎖状または分岐状であってよく、そしてたとえば、アリル、メタリル、１，１−ジメチルアリル、プロペニル、ブテニル、ペンタジエニル、ヘキセニルまたはオクテニルであり、好ましくはアリルである。Ｃ2〜Ｃ18アルケニルとして定義されるＲ2は、代表的にはＣ2〜Ｃ8−、Ｃ2〜Ｃ6−、好ましくはＣ2〜Ｃ4アルケニルである。
【００２９】
Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルは、たとえば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシルであり、好ましくは、シクロペンチルおよびシクロヘキシル、さらに好ましくはシクロヘキシルである。Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキルは、追加的に、たとえばシクロプロピルである。
【００３０】
Ｃ1〜Ｃ8アルコキシは、直鎖状または分岐状の基であり、そして代表的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、２，４，４−トリメチルペンチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシまたはオクチルオキシであり、好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、最も好ましくはメトキシである。
【００３１】
ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードであり、好ましくは、クロロおよびブロモ、最も好ましくはクロロである。
【００３２】
Ｏ−、Ｓ−またはＮ−含有の５員または６員複素環の例は、フリル、チエニル、ピロリル、オキシニル、ジオキシニルまたはピリジルである。列挙された複素環基は、１〜５個の、たとえば、１個または２個の、直鎖状または分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキル、ハロゲンおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されていてもよい。このような化合物の例は、ジメチルピリジル、ジメチルピロリルまたはメチルフリルである。
【００３３】
置換フェニル、ナフチルまたはビフェニルは、１〜５個、たとえば１、２、３または４個の、好ましくは１個または２個の、たとえば、直鎖状もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキル、直鎖状もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルコキシまたはハロゲンにより置換されている。フェニル、ナフチルおよびビフェニルの好ましい置換基は、Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、好ましくはメチルおよびＣ1〜Ｃ4アルコキシ、さらに好ましくはメトキシおよびクロロである。特に好ましい置換基は、たとえば、２，４，６−トリメチルフェニル、２，６−ジクロロフェニル、２，６−ジメチルフェニルまたは２，６−ジメトキシフェニルである。
【００３４】
Ｒ2は、たとえばフェニルであり、好ましくは２，４，６−トリメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニルまたは２，６−ジメトキシフェニル、最も好ましくは２，４，６−トリメチルフェニルである。Ｒ1およびＲ3は、好ましくは非置換フェニルまたはＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェニルであり、最も好ましくはフェニルである。
【００３５】
Ｃ1〜Ｃ18アルキレンとして定義されるＲ1は、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、ｓ−ブチレン、イソブチレン、ｔ−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘプタデシレンまたはオクタデシレンのような、直鎖状または分岐状のアルキレンである。Ｒ1は、好ましくはＣ1〜Ｃ12アルキレン、たとえば、エチレン、デシレン、
【００３６】
【化１８】
【００３７】
で示される基である。
【００３８】
Ｒ1が、１個または数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキレンであるとき、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−、−〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ〕y−（ここで、ｙ＝１〜９）、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7ＣＨ2ＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−のような構造単位が得られる。アルキレンが数個のＯ原子によって中断されているとき、これらのＯ原子は、常に少なくとも１個のメチレン基によって相互に分離されている。
【００３９】
フェニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキルは、たとえば、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジルまたはα，α−ジメチルベンジルであり、好ましくはベンジルである。フェニル−Ｃ1〜Ｃ2アルキルが、特に好ましい。
【００４０】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニルは、代表的にはトリル、キシリル、メシチル、エチルフェニル、ジエチルフェニルであり、好ましくはトリルまたはメシチルである。
【００４１】
Ｃ1〜Ｃ4アルコキシフェニルは、１〜４個のアルコキシラジカルにより置換されているフェニルであり、たとえば、２，６−ジメトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、プロポキシフェニルまたはブトキシフェニルである。
【００４２】
フェニレンは、１，４−、１，２−または１，３−フェニレンであり、好ましくは１，４−フェニレンである。
【００４３】
フェニレンが置換されているとき、これは、フェニル環でモノ〜テトラ置換、たとえばモノ−、ジ−またはトリ置換され、好ましくはモノ−またはジ置換されている。キシリレンは、下記式：
【００４４】
【化１９】
【００４５】
で示されるｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレンであり、そしてたとえば、フェニル環でモノ〜テトラ置換され、たとえばモノ−、ジ−またはトリ置換され、好ましくはモノ−またはジ置換されている。
【００４６】
本説明および特許請求の範囲において、「および／または」とは、定義される選択肢（置換基）の１個が存在することだけでなく、定義される選択肢（置換基）の数個の異なるものが一緒に存在する、すなわち、異なる選択肢（置換基）の混合物が存在することをも意味する。本記述および特許請求の範囲において、「少なくとも１個」とは、「１個」または「１個を越える」、たとえば、１個または２個または３個、好ましくは１個または２個として定義される。
【００４７】
モノ−およびビスアシルホスフィン類の、本発明の新規な製造方法において、有機ハロゲン化リン（II）は、最初にアルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの金属の混合物と反応させることにより、金属化ホスフィン（IIa）が、種々の中間工程：
【００４８】
【化２０】
【００４９】
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、ｍおよびｎは、上記と同義であり、Ｍｅは、アルカリ金属またはマグネシウム、あるいはこれらの混合物である〕によって生成する。
【００５０】
適切な金属は、たとえば、リチウム、ナトリウムまたはカリウムである。また、本発明の方法では、これらの金属の混合物を使用することも可能である。リチウムおよび／またはカリウムおよび／またはナトリウムと組み合わせたマグネシウムもまた適している。リチウム、ナトリウムまたはカリウムを使用するとき、ビスアシルホスフィン類の製造には４〜６原子当量のアルカリ金属を、そしてモノアシルホスフィン類の製造には２〜３原子当量のアルカリ金属を使用するのが有効である。マグネシウムと１種または数種のアルカリ金属との混合物を使用して反応を行うとき、ｚ原子当量のマグネシウムを使用し、そして４〜６または２もしくは３から、ｚ／２原子当量を差し引いた量のアルカリ金属を加える。「ｚ」は、０．５〜３．５の値である。リチウムと組み合わせたマグネシウムまたはナトリウムを使用して反応を実施するとき、反応溶液には、最初にマグネシウムまたはナトリウムだけを仕込み、リチウムを後から加える。マグネシウムを使用するとき、得られる塩化マグネシウムは、リチウムを加える前に濾過により除去するのが有効である。本発明の方法において、リチウム、ナトリウムまたはカリウムの使用が好ましい。
【００５１】
本発明の反応は、有効には溶媒中で行われる。使用される溶媒は、特に常圧および室温で液体のエーテル類であってよい。これらの例は、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ジオキサンまたはテトラヒドロフランである。好ましくはテトラヒドロフランが使用される。反応温度は、好ましくは−２０〜＋１２０℃、たとえば８０〜１２０℃の範囲である。
【００５２】
必要であれば、反応は、触媒を添加して行われる。適切な触媒は、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、テルフェニル、クアテルフェニル、トリフェニレン、trans−１，２−ジフェニルエテン、ピレン、ペリレン、アセナフタレン、デカシクレン、キノリン、Ｎ−エチルカルバゾール、ジベンゾチオフェンまたはジベンゾフランのような、ヘテロ原子を含むか含まない芳香族炭化水素である。反応（１）は、好ましくは、触媒、好ましくはナフタレンおよびビフェニルの存在下で実施される。
【００５３】
得られる金属化ホスフィン（IIa）は、単離を伴わずに、新規な方法においてさらに処理される。
【００５４】
上述のように得られる金属化ホスフィン（IIa）を、次の反応工程：
【００５５】
【化２１】
【００５６】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍｅ、ｍおよびｎは、上記と同義である。Ｙは、ブロモまたはクロロ、好ましくはクロロである〕において、酸ハロゲン化物（III）と反応させて、モノ−またはビスアシルホスフィン（Ｉ）が得られる。使用される溶媒は、たとえば、第１の工程のために上記で使用されるものと同じであってよい。しかしまた、第１の工程において使用された溶媒を蒸留により除去して、残留物を別の溶媒中にとり、ついでこれをさらに処理することも可能である。前工程におけるものと同じ溶媒中で、最も好ましくはテトラヒドロフラン中で処理することが好ましい。酸ハロゲン化物との反応のための反応温度は、−２０〜＋８０℃の範囲が効果的である。
【００５７】
本発明の新規な方法において、有機ハロゲン化リン（II）の反応（１）は、好ましくは８０〜１２０℃の温度範囲で、アルカリ金属と組み合わせたマグネシウムにより行われる。本発明の新規な方法において、有機ハロゲン化リン（II）とアルカリ金属との反応（１）は、たとえば、−２０〜＋１２０℃の温度範囲で行われる。本発明の新規な方法において、金属化ホスフィンと酸塩化物（III）との反応（２）は、好ましくは−２０〜＋８０℃の温度範囲で行われる。
【００５８】
式（Ｉ）のモノ−またはビスアシルホスフィンは、当業者には既知の通常の方法、たとえば、濾過、蒸発または蒸留により単離することができる。同様に、通常の精製方法、たとえば、結晶化、蒸留またはクロマトグラフィーを使用することができる。しかしホスフィン類をまた、単離することなく反応させて、対応するモノ−もしくはビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類を得ることもできる。
【００５９】
使用される置換基に応じて、本発明の新規な方法により、異性体混合物が形成されることがある。
【００６０】
また、本発明の方法を使用して、モノ−およびビスアシルホスフィン類を一緒に、１反応工程で製造することもできる。
【００６１】
本発明の新規な方法により、さらに、脂肪族および芳香族モノアシルホスフィン類の混合物または脂肪族および芳香族ビスアシルホスフィン類の混合物を製造することもできる。この場合には、Ｒ1が脂肪族基である式（II）の化合物と、Ｒ1が芳香族基である式（II）の化合物の、混合物が使用される。
【００６２】
必要であれば、すべての混合物は、当該分野において通常使用される方法により分離してもよく、またはそのままさらに使用してもよい。
【００６３】
本発明はまた、モノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド類を製造する方法に関する。この方法は、最初に上述のように行って、モノ−またはビスアシルホスフィン（Ｉ）を製造する。粗反応生成物（Ｉ）は、次に精製することなくさらに処理することができ、そして粗生成物の溶液を使用して、ホスフィン（Ｉ）の単離を伴わずに追加の反応工程を行ってよい。必要であれば、たとえば、モノ−またはビスアシルホスフィンを含む溶液を濃縮し、残留物を新しい溶媒中にとることにより、溶媒を交換してもよい。また当然ながら、上述の式（Ｉ）の化合物の未分離混合物をさらに反応させて、対応する酸化物またはスルフィドにすることも可能である。
【００６４】
それぞれの酸化物（IVa）を製造するとき、ホスフィン（Ｉ）の酸化は、当該分野において従来から使用されている酸化性物質を使用して行われる。
【００６５】
【化２２】
【００６６】
適切な酸化性物質は、特に過酸化水素および有機過酸化物、たとえば過酢酸もしくはｔ−ブチルヒドロペルオキシド、空気または純酸素である。酸化は、有効には溶液中で行われる。適切な溶媒は、ベンゼン、トルエン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼンもしくはメシチレンのような芳香族炭化水素、またはアルカン類およびアルカン混合物、たとえば、石油エーテル、ヘキサンもしくはシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素である。酸化の間、反応温度は、好ましくは０〜１２０℃、好ましくは２０〜８０℃の範囲に維持する。反応生成物（IVa）は、当業者には既知の従来法により、単離および精製することができる。
【００６７】
それぞれのスルフィド（IVb）は、硫黄との反応によって製造される。
【００６８】
【化２３】
【００６９】
モノ−またはビスアシルホスフィン類（Ｉ）は、この場合、実質的に、あるいは適宜、適切な不活性有機溶媒中で、等モル〜２倍モル量の元素硫黄と反応させる。適切な溶媒は、たとえば、酸化反応に関して記載されたものである。しかしまた、たとえば、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジフェニルエーテルのような脂肪族または芳香族エーテルを、２０〜２５０℃、好ましくは６０〜１２０℃の温度範囲で使用することも可能である。生じるモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド、またはその溶液は、濾過により、残存する元素硫黄をまったく含まないことが効果的である。溶媒を除去した後、モノ−またはビスアシルホスフィンスルフィドは、蒸留または再結晶により、純粋な形態で単離することができる。
【００７０】
上述のように、式（Ｉ）の化合物の混合物を、酸化またはスルフィドへの反応のために使用することも可能である。対応して得られる酸化物またはスルフィドの混合物は、当該分野において通常使用される方法により分離できるか、または混合物として使用してもよい。
【００７１】
上記反応のすべては、効果的には、不活性ガス雰囲気により、たとえば窒素またはアルゴンガス下で、空気を排除して行われる。それぞれの反応混合物を撹拌することもまた効果的である。
【００７２】
出発物質として使用される酸ハロゲン化物（III）は、既知の物質であり、そのいくつかは市販されているか、または既知の化合物と同様にして製造することができる。
【００７３】
ハロゲン化リン（II）の製造もまた、多数の刊行物に記載されており、そこに提供される記述と同様に実施することができる。J. Chem. Soc. (1935), 462およびJ. Chem. Soc. (1944), 276において、W. Daviesは、たとえば、三塩化アルミニウムの存在下におけるアリーレンと三塩化リンとの反応による、アリールリンクロリドの製造を開示している。F. Nief, Tetrahedron 47 (1991) 33, 667またはTh. Knapp, Tetrahedron 40 (1984) 4, 76によれば、ハロゲン化アリールと、マグネシウムおよび三塩化リンとのグリニャール反応が、もう一つの可能性である。S. Metzger, J. Org. Chem. 29 (1964), 627によれば、アルキルリンクロリドが、同じ方法で入手可能である。Helv. Chim. Act. 36 (1953), 1314において、Th. Weilは、ハロゲン化アリールまたはハロゲン化アルキルとマグネシウムとの反応、これに続く塩化亜鉛との反応および次の三塩化リンとの反応を記述している。対応するアリールリンクロリドに至る、ハロゲン化アリールと、ブチルリチウムおよび三塩化リンとの反応は、G. Whitesidesにより、ＪＡＣＳ 96 (1974), 5398に開示されている。Th. Knapp, Tetrahedron 40 (1984) 4, 765によれば、ハロゲン化アリールマグネシウムとビス（ジメチルアミノ）リンクロリドとの反応、これに続く塩酸との反応によっても、所望の出発物質が生成する。A. Burg, US 2,934,564によれば、対応するアルキルリンクロリドの製造のために、同じ方法を使用してもよい。
【００７４】
本発明の新規な方法の特徴は、通常使用されるホスフィン出発物質（Ｒ2ＰＨ、ＲＰＨ2）を使用することなく、アシルホスフィン類、アシルホスフィンオキシド類またはアシルホスフィンスルフィド類を製造できることである。また、個々の処理工程は、それぞれの中間体を単離および特にそれらを精製することなく、次々と直接実施することができることもまた、重要である。
【００７５】
モノ−もしくはビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類の上述の製造方法において、対応するホスフィン類の製造方法で記載されたような混合物は、形成されていてもよいか、または特定して製造してもよい。このような混合物は、当該分野において既知の方法により分離することができ、または混合物の形態でさらに使用してもよい。
【００７６】
上述の方法において、Ｒ1は、ｎ＝１のとき、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはビフェニル（フェニルおよびビフェニル基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1は、ｎ＝２のとき、Ｃ6〜Ｃ10アルキレン、または下記式：
【００７７】
【化２４】
【００７８】
で示される基であり；
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはビフェニル（フェニルおよびビフェニル基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｑは、単結合または−Ｏ−であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、水素である。
【００７９】
上記方法において注目される化合物は、Ｒ2が、２，６−または２，４，６−位でＣ1〜Ｃ4アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ4アルコキシにより置換されているフェニルである、式（Ｉ）の化合物である。
【００８０】
上記方法において特に好ましく使用される式（Ｉ）の化合物は、ｎが１である化合物である。
【００８１】
新規な方法の式（II）中のＹは、好ましくはクロロである。
【００８２】
上記方法における式（Ｉ）の他の好ましい化合物は、ｍが数２として定義される化合物、すなわち、ビスアシルホスフィンまたはビスアシルホスフィンオキシド類もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類である。
【００８３】
好ましい方法は、式（Ｉ）において、ｎが１であり、ｍが１または２であり、Ｒ1が、非置換またはＣ1〜Ｃ4アルキルもしくはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されているフェニルであるか、あるいはＲ1が、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ2が、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはＣ1〜Ｃ4アルキルにより置換されているフェニルであり；そしてＲ3が、非置換か、またはＣ1〜Ｃ4アルキルで置換されているフェニルである方法である。
【００８４】
本発明はまた、本発明の新規な方法により得られる化合物および化合物の混合物に関する。
【００８５】
本発明の新規な方法により入手可能なホスフィン類は、対応するホスフィンオキシド類およびホスフィンスルフィド類の製造のための重要な遊離体である。ホスフィンオキシド類およびホスフィンスルフィド類は、光重合反応における開始剤として当該分野において使用される。
【００８６】
以下の実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。残りの説明および特許請求の範囲と同様に、他に記載がなければ、部または百分率は重量による。
【００８７】
実施例１ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気により水分を排除して、リチウム７ｇ（１．０mol；２５％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ８０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン３６．５０ｇ（９８％；０．２０mol）の溶液を、２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。氷浴中で撹拌および冷却をしながら、ＴＨＦ ２５０ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド８０．４ｇ（０．４４mol；１０％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、次にこの混合物を、さらに１５分間室温で撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を完全に濃縮して（生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが５３．７８ppmであった）、残留物をトルエン２００ml中にとり、４０℃に加熱した。激しく撹拌し、時おり氷浴で冷却しながら、３０％過酸化水素２３ｇ（０．２０mol）を３０分かけて滴下し、次にこの混合物を撹拌しながら室温に冷却した。溶液に水４０mlを添加して、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ３０mlで２回、次に水それぞれ３０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過および溶媒の完全な留去の後、黄色の油状物８５ｇを得たが、これは約０．１mbarで１時間乾燥した後に固体になった。この粗生成物を、温かい石油エーテル／酢酸エチル（９：１）１５０ml中にスラリー状に分散させ、濾過して石油エーテル（４０／６０）３０mlで洗浄することにより精製して、標題生成物７１．５ｇ（収率８５．４０％）を、融点（ｍ．ｐ．）が１３１〜１３２℃で、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが７．４３ppmの、黄色固体の形態で得た。母液から、溶媒を完全に濃縮することにより黄色油状物をさらに１４ｇ得たが、この油状物を次にフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、標題生成物をさらに４．３ｇ得た。このようにして、総収量は、７６．０ｇ（収率９０．８％）であった。
【００８８】
実施例２ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド８２．２５ｇで置き換えたほかは、実施例１の手順を繰り返した。得られたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが５２．１７ppmであり、融点が１２０〜１２５℃であった。標題生成物２０．１ｇ（収率６４％）を、融点が１５５℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが６．２４ppmの、黄色粉末の形態で得た。
【００８９】
実施例３ ビス（２，６−ジクロロベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジクロロベンゾイルクロリド８５．８ｇで置き換えたほかは、実施例１の手順を繰り返した。得られたホスフィンは、融点が１１７〜１１９℃であった。標題生成物３５．０ｇ（収率７４％）を、帯黄褐色粉末の形態で得た。アセトニトリルから再結晶して、融点が１９４℃の黄色固体を得た。
【００９０】
実施例４ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンスルフィドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム７ｇ（１．０mol；２５％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ８０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン３６．５０ｇ（９８％；０．２０mol）の溶液を２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ ２５０ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド８０．４ｇ（０．４４mol；１０％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、次にこの混合物をさらに１５分間室温で撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により、有機相を完全に濃縮して、残留物をトルエン２００mlにとり、４０℃に加熱した。溶液に硫黄３．７ｇを添加して、この混合物を６０℃で６時間撹拌した。溶媒を除去することにより、黄色油状物３９．０ｇ（収率８９．９％）を得たが、これをアセトニトリルから再結晶して、標題生成物を、融点が１２３℃の黄色固体の形態で得た。
【００９１】
実施例５ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）フェニルホスフィンスルフィドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド８２．２５ｇで置き換えたほかは、実施例４の手順を繰り返した。加えた硫黄の量は４．９１ｇであった。溶媒の除去および酢酸エチル１００mlからの再結晶により、標題生成物２１．０ｇ（収率６６．０％）を、融点が１５５℃の黄色固体の形態で得た。
【００９２】
実施例６ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−（２，４−ジペントキシフェニル）ホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム６．２ｇ（０．８９mol；１２％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ５０ml中の２，４−ジペントキシフェニル−Ｐ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン７４．０ｇ（９５％；０．２０mol）の溶液を、２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１．５時間かけて滴下した。生じた混合物を、５０℃で６時間撹拌した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、次にＴＨＦ ２００ml中の塩化２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド７６．７ｇ（０．４２mol；５％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、ついでこの混合物をさらに室温で１５分間撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を完全に濃縮して（生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲシフトが４２．７ppmであった）、残留物をトルエン３００mlにとり、４０℃に加熱した。激しく撹拌し、時おり氷浴で冷却しながら、３０％過酸化水素２３ｇ（０．２０mol）を３０分かけて滴下し、次に反応が完結するまで、この混合物を５０℃でさらに２．５時間撹拌した。ついで撹拌しながら、反応混合物を室温まで放冷した。黄色の反応混合物をけいそう土で濾過した。次に溶液に水４０mlを添加して、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ５０mlで２回、次に水それぞれ５０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過およびロータリーエバポレーターでの溶媒の完全な留去により、黄色油状物１２０ｇを得た。この粗生成物を加熱しながらヘキサン２００mlに溶解し、次に最初２０℃まで放冷し、ついで０℃まで冷却すると、標題生成物が黄色固体の形態で晶出した。生成物を冷却しつつ濾過して、冷ヘキサンそれぞれ２０mlで２回洗浄し、生じた固体を真空乾燥オーブンで４０℃および１５５mmHgで１２時間乾燥することにより、融点が９１℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが１４．４８ppmの固体７０．０ｇ（収率５９．３％）を得た。母液から、溶媒を完全に濃縮し、ついでカラムクロマトグラフィーを通して精製することによって、標題生成物をさらに１６ｇ得た。
【００９３】
実施例７ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド７２．０ｇで置き換えるほかは、実施例６の手順を繰り返して、黄色の樹脂状物９４．０ｇ（収率７３．４％）を得た。この粗生成物を、カラムクロマトグラフィーを通して精製して、融点が６８℃の樹脂状物５６．８ｇを得た。
【００９４】
実施例８ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）エチルホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム２．６７ｇ（０．３８mol）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５０mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン０．３８ｇ（０．００３mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ２０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロエチルホスフィン１０．０ｇ（０．０７６mol）の溶液を２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。生じた混合物を、室温で１８時間撹拌した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ １００ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド２７．８７ｇ（０．１５mol）の溶液を、１．５時間かけて室温で加え、次にこの混合物をさらに室温で１５分間撹拌した。有機相を減圧で完全に濃縮して、残留物をトルエン１００mlにとり、５０〜６０℃で３０分かけて、３０％過酸化水素８．７ｇを滴下した。反応を完結させるために、この混合物を６０℃でさらに１時間撹拌した。ついで反応混合物を室温まで放冷し、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ５０mlで２回、次に水それぞれ５０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過およびロータリーエバポレーターでの溶媒の完全な留去により、黄色油状物２８．０ｇ（９７．６％）を得たが、これを酢酸エチルから再結晶して、融点が１４２℃の標題生成物を得た。
【００９５】
実施例９〜１２：
実施例９〜１２の化合物を、対応する遊離体を使用して、実施例８に記載される方法と同様に製造した。化合物とその物性（31Ｐ−ＮＭＲシフト〔ppm〕および／または融点〔℃〕）を、下記の表１にまとめた。
【００９６】
【表１】
【００９７】
実施例１３： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジトリルホスフィンオキシド（ジ−オルト、ジ−パラおよびオルト−パラ−生成物からなる異性体混合物）の製造
アルゴン下で水分を排除して、細断ナトリウム４．６ｇ（０．２０mol）を室温でテトラヒドロフラン１００mlに入れた。ゆっくり撹拌しながら、ジトリルホスフィンクロリド（ジ−オルト、ジ−パラおよびオルト−パラの異性体混合物）２４．９ｇ（０．１０mol）を、２０〜２５℃で滴下した。１２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド１９．０ｇ（０．１０５mol；５％過剰）を、室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を水に注ぎ入れて、トルエンで抽出した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過してロータリーエバポレーター（ロータリーエバポレーター（Rotavap））での蒸発により濃縮した。生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが２３．２４ppmであった。残留物をトルエン１００mlにとり、過酸化水素（３０％）１１．５ｇ（０．１０mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、標題化合物３３．８ｇ（理論値の９０％）を、黄色粘性油状物の形態で得た。31Ｐ−ＮＭＲシフトは１４．５４ppmであった。
【００９８】
実施例１４： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドの製造
アルゴン下で水分を排除して、リチウム２．７６ｇ（０．４０mol）を室温でＴＨＦ １００mlに懸濁して、この懸濁液にナフタレン０．１０ｇ（０．０００７８mol）を添加した。次にこの混合物を、室温で１０分間撹拌した。随時冷却しながら激しく撹拌して、この暗褐色の懸濁液にＰ−クロロジフェニルホスフィン４５．２ｇ（０．０mol）を１０〜２５℃で滴下した。４時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド３８．０ｇ（０．２mol）を１０〜２０℃で１時間かけて滴下し、次にこの混合物をさらに３０分間撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を濃縮して、残留物をトルエン１００mlにとり、５０〜６０℃の温度で激しく撹拌しながら、過酸化水素（３０％）２３．０ｇ（０．２０mol）を添加した。３０分間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物を石油エーテル／酢酸エチルから晶出させて、真空乾燥オーブンで４０℃で乾燥し、標題化合物５５．０ｇ（理論値の７９％）を、融点が８９〜９０℃の黄色粉末の形態で得た。
【００９９】
実施例１５： ２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリドで置き換えたほかは、実施例１４に記載された方法と同様にして、２，６−ジメトキシベンゾイル（ジフェニル）ホスフィンオキシドを製造した。このホスフィンの31Ｐ−ＮＭＲシフトは、２０．１７ppmであった。これによって、融点が１２０〜１２１℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが１０．１９ppmの２，６−ジメトキシベンゾイル（ジフェニル）ホスフィンオキシド２５ｇを得た。これは、理論値の６８％の収率に相当する。
【０１００】
実施例１６： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドとビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドとの混合物の製造
アルゴン下で水分を排除して、リチウム２．１ｇ（０．３０mol）およびナフタレン０．１ｇを室温でＴＨＦ １００mlに入れた。撹拌しながら、ジクロロフェニルホスフィン２．７ｇ（０．０１５mol）、ついでクロロジフェニルホスフィン９．９ｇ（０．０４５mol）を、２０〜２５℃で滴下した。１２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド１３．７ｇ（０．０７５mol）を室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をトルエン１００mlにとり、３０％過酸化水素１７ｇ（０．１５mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、３：１の比の標題化合物１０．３ｇ（理論値の４７％）を、黄色粘性油状物の形態で得た。
【０１０１】
実施例１７： ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−１，１−ジメチルエチルホスフィンオキシドとビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドとの混合物の製造
アルゴン保護ガス雰囲気により水分を排除して、リチウム３．５ｇ（０．５０４mol）およびナフタレン０．１ｇを、室温でＴＨＦ １００mlに入れた。撹拌しながら、ジクロロフェニルホスフィン１１．３ｇ（０．０６３mol）、ついでジクロロ−ｔ−ブチルホスフィン１０ｇ（０．０６３mol）を、２０〜２５℃で滴下した。７２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド２３．０ｇ（０．１２６mol）を室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をトルエン１００mlにとり、３０％過酸化水素２８．６ｇ（０．２５２mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。次に濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、６５：３５の比の標題化合物７．６ｇ（理論値の１５％）を黄色粘性油状物の形態で得た。
本発明は、中間体の単離を伴わない、アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法に関する。
【０００２】
モノ−およびビスアシルホスフィン類は、モノ−およびビスアシルホスフィンオキシドまたはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド化合物を製造するときに得られる中間体として、技術の状況において既知である。これらのオキシド類およびスルフィド類は、エチレン性不飽和化合物の光重合における反応開始剤として、種々の応用を見出している。これについては、多数の特許、とりわけUS 4,298,738、4,737,593、4,792,632、5,218,009、5,399,770、5,472,992または5,534,559に実証されている。US 4,298,738は、ジオルガニルホスフィンクロリドとアルコールとの反応、およびこれに続く反応生成物と酸ハロゲン化物との反応を介する、モノアシルホスフィンオキシド類の製造を開示している。EP 40,721では、モノアシルホスフィン類が、酸ハロゲン化物とリチウムジオルガニルホスフィン、ジオルガニルホスフィンまたはジオルガニルトリアルキルシリルホスフィン（これらは、ブチルリチウムとの反応により得られる）との反応から得られる。Angew. Makromol. Chem. 199(1992), 1-6では、S. Banerjeeらは、ジリチウムフェニルホスフィンとテレフタロイルクロリドとの反応によるポリ（テレフタロイルホスフィン）の製造を記載している。US 5,472,992は、とりわけ、ホスフィンと対応する酸塩化物との塩基の存在下での反応を介して、これに続く、生成するビスアシルホスフィンの酸化による、ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤の製造を実施する。
【０００３】
モノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類の技術は、これらの化合物の優れた光開始剤の性質により、ますます重要になっているため、必要な中間体、特に対応するモノ−およびビスアシルホスフィン類、しかしまたオキシドおよびスルフィド最終生成物の製造に関しても、可能な限り面倒の少ない、非常に実用的な方法に対するニーズも存在している。
【０００４】
その揮発性、悪臭、毒性ならびに空気の影響を受けやすさおよび引火性のために望ましくない、ホスフィン遊離体（Ｒ2−ＰＨ、Ｒ−ＰＨ2）の使用を回避することが可能な方法が、今や見出された。
【０００５】
本発明は、モノ−およびビスアシルホスフィン類のワンポット製造方法、ならびにモノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド類のワンポット製造方法の両方に関するものであり、ここで、出発物質は、揮発性、毒性および空気の影響を受けやすさがより低い、モノハロゲノホスフィン類またはＰ，Ｐ−ジハロゲノホスフィン類であってよい。
【０００６】
式（Ｉ）：
【０００７】
【化１０】
〔式中、
ｎおよびｍは、それぞれ独立に１または２であり；
Ｒ1は、ｎ＝１のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1は、ｎ＝２のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキレン、１個または数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキレンであるか；あるいはＲ1は、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシフェニルにより置換されているＣ1〜Ｃ6アルキレンであるか；あるいはＲ1は、フェニレンまたはキシリレン（これらの基は、非置換であるか、あるいは１〜３個のＣ1〜Ｃ4アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか；あるいはＲ1は、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2−、
【０００９】
【化１１】
で示される基であり；
Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはハロゲンにより置換されている）であり；
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｑは、単結合、ＣＲ6Ｒ7、−Ｏ−または−Ｓ−であり；
Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシであり；
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ1〜Ｃ4アルキルである〕
で示されるアシルホスフィン類の製造方法であって、
（１）式（II）：
【００１１】
【化１２】
〔式中、
Ｒ1、Ｒ3、ｎおよびｍは、上記と同義であり、そして
Ｙは、ＢｒまたはＣｌである〕
で示される有機ハロゲン化リンと、アルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの混合物との、適宜、触媒の存在下での反応；ならびに
（２）これに続く式（III）：
【００１３】
【化１３】
〔式中、Ｒ2、Ｙおよびｍは、上記と同義である〕で示されるｍ個の酸ハロゲン化物との反応
による、中間体の単離を伴わずに実施される方法が見出された。
【００１５】
別の態様において、本発明は、式（IV）：
【００１６】
【化１４】
〔式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ｎおよびｍは、請求項１と同義であり、そして
Ｚは、ＯまたはＳである〕
で示されるアシルホスフィンオキシド類およびアシルホスフィンスルフィド類の製造方法であって、
（１）式（II）：
【００１８】
【化１５】
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｙ、ｎおよびｍは、請求項１と同義である〕で示される有機ハロゲン化リンと、アルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの混合物との、適宜、触媒の存在下での反応；ならびに
（２）これに続く式（III）：
【００２０】
【化１６】
〔式中、Ｒ2、ｍおよびＹは、請求項１と同義である〕で示されるｍ個の酸ハロゲン化物との反応；および
（３）反応（２）により得られる式（Ｉ）：
【００２２】
【化１７】
で示されるアシルホスフィンの酸化または硫黄との反応
による、中間体の単離を伴わずに実施される方法に関する。
【００２４】
Ｃ1〜Ｃ18アルキルは、直鎖状または分岐状であり、そしてたとえば、Ｃ1〜Ｃ12−、Ｃ1〜Ｃ8−、Ｃ1〜Ｃ6−またはＣ1〜Ｃ4アルキルである。例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、２，４，４−トリメチルペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルまたはオクタデシルがある。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ12−、Ｃ1〜Ｃ8−およびＣ1〜Ｃ4アルキルもまた、直鎖状または分岐状であり、そしてたとえば、炭素原子の相当する数までの上記と同じ意味を有する。
【００２６】
１回か、または数回の不連続の−Ｏ−によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキルは、たとえば、１〜９回、たとえば１〜７回、１〜５回、１〜３回または１もしくは２回、−Ｏ−によって中断されており、これらのＯ原子の間には、常に少なくとも１個のメチレン基によって中断されている。アルキル基は、直鎖状または分岐状であってよい。そのようにして得られる構造単位は、たとえば、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ3、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3、−〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ〕y−ＣＨ3（ここで、ｙ＝１〜８）、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7ＣＨ2ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3または−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3である。
【００２７】
フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキルは、代表的にはベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル、フェニルブチルまたはα，α−ジメチルベンジルであり、好ましくはベンジルである。
【００２８】
Ｃ2〜Ｃ18アルケニル基は、モノ−またはポリ不飽和で、直鎖状または分岐状であってよく、そしてたとえば、アリル、メタリル、１，１−ジメチルアリル、プロペニル、ブテニル、ペンタジエニル、ヘキセニルまたはオクテニルであり、好ましくはアリルである。Ｃ2〜Ｃ18アルケニルとして定義されるＲ2は、代表的にはＣ2〜Ｃ8−、Ｃ2〜Ｃ6−、好ましくはＣ2〜Ｃ4アルケニルである。
【００２９】
Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルは、たとえば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシルであり、好ましくは、シクロペンチルおよびシクロヘキシル、さらに好ましくはシクロヘキシルである。Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキルは、追加的に、たとえばシクロプロピルである。
【００３０】
Ｃ1〜Ｃ8アルコキシは、直鎖状または分岐状の基であり、そして代表的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、２，４，４−トリメチルペンチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシまたはオクチルオキシであり、好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｓ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｔ−ブチルオキシ、最も好ましくはメトキシである。
【００３１】
ハロゲンは、フルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードであり、好ましくは、クロロおよびブロモ、最も好ましくはクロロである。
【００３２】
Ｏ−、Ｓ−またはＮ−含有の５員または６員複素環の例は、フリル、チエニル、ピロリル、オキシニル、ジオキシニルまたはピリジルである。列挙された複素環基は、１〜５個の、たとえば、１個または２個の、直鎖状または分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキル、ハロゲンおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されていてもよい。このような化合物の例は、ジメチルピリジル、ジメチルピロリルまたはメチルフリルである。
【００３３】
置換フェニル、ナフチルまたはビフェニルは、１〜５個、たとえば１、２、３または４個の、好ましくは１個または２個の、たとえば、直鎖状もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキル、直鎖状もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルコキシまたはハロゲンにより置換されている。フェニル、ナフチルおよびビフェニルの好ましい置換基は、Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、好ましくはメチルおよびＣ1〜Ｃ4アルコキシ、さらに好ましくはメトキシおよびクロロである。特に好ましい置換基は、たとえば、２，４，６−トリメチルフェニル、２，６−ジクロロフェニル、２，６−ジメチルフェニルまたは２，６−ジメトキシフェニルである。
【００３４】
Ｒ2は、たとえばフェニルであり、好ましくは２，４，６−トリメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニルまたは２，６−ジメトキシフェニル、最も好ましくは２，４，６−トリメチルフェニルである。Ｒ1およびＲ3は、好ましくは非置換フェニルまたはＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェニルであり、最も好ましくはフェニルである。
【００３５】
Ｃ1〜Ｃ18アルキレンとして定義されるＲ1は、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、ｓ−ブチレン、イソブチレン、ｔ−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘプタデシレンまたはオクタデシレンのような、直鎖状または分岐状のアルキレンである。Ｒ1は、好ましくはＣ1〜Ｃ12アルキレン、たとえば、エチレン、デシレン、
【００３６】
【化１８】
で示される基である。
【００３８】
Ｒ1が、１個または数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキレンであるとき、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−、−〔ＣＨ2ＣＨ2Ｏ〕y−（ここで、ｙ＝１〜９）、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7ＣＨ2ＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−のような構造単位が得られる。アルキレンが数個のＯ原子によって中断されているとき、これらのＯ原子は、常に少なくとも１個のメチレン基によって相互に分離されている。
【００３９】
フェニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキルは、たとえば、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジルまたはα，α−ジメチルベンジルであり、好ましくはベンジルである。フェニル−Ｃ1〜Ｃ2アルキルが、特に好ましい。
【００４０】
Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニルは、代表的にはトリル、キシリル、メシチル、エチルフェニル、ジエチルフェニルであり、好ましくはトリルまたはメシチルである。
【００４１】
Ｃ1〜Ｃ4アルコキシフェニルは、１〜４個のアルコキシラジカルにより置換されているフェニルであり、たとえば、２，６−ジメトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、プロポキシフェニルまたはブトキシフェニルである。
【００４２】
フェニレンは、１，４−、１，２−または１，３−フェニレンであり、好ましくは１，４−フェニレンである。
【００４３】
フェニレンが置換されているとき、これは、フェニル環でモノ〜テトラ置換、たとえばモノ−、ジ−またはトリ置換され、好ましくはモノ−またはジ置換されている。キシリレンは、下記式：
【００４４】
【化１９】
で示されるｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレンであり、そしてたとえば、フェニル環でモノ〜テトラ置換され、たとえばモノ−、ジ−またはトリ置換され、好ましくはモノ−またはジ置換されている。
【００４６】
本説明および特許請求の範囲において、「および／または」とは、定義される選択肢（置換基）の１個が存在することだけでなく、定義される選択肢（置換基）の数個の異なるものが一緒に存在する、すなわち、異なる選択肢（置換基）の混合物が存在することをも意味する。本記述および特許請求の範囲において、「少なくとも１個」とは、「１個」または「１個を越える」、たとえば、１個または２個または３個、好ましくは１個または２個として定義される。
【００４７】
モノ−およびビスアシルホスフィン類の、本発明の新規な製造方法において、有機ハロゲン化リン（II）は、最初にアルカリ金属またはリチウムと組み合わせたマグネシウム、もしくはこれらの金属の混合物と反応させることにより、金属化ホスフィン（IIa）が、種々の中間工程：
【００４８】
【化２０】
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、ｍおよびｎは、上記と同義であり、Ｍｅは、アルカリ金属またはマグネシウム、あるいはこれらの混合物である〕によって生成する。
【００５０】
適切な金属は、たとえば、リチウム、ナトリウムまたはカリウムである。また、本発明の方法では、これらの金属の混合物を使用することも可能である。リチウムおよび／またはカリウムおよび／またはナトリウムと組み合わせたマグネシウムもまた適している。リチウム、ナトリウムまたはカリウムを使用するとき、ビスアシルホスフィン類の製造には４〜６原子当量のアルカリ金属を、そしてモノアシルホスフィン類の製造には２〜３原子当量のアルカリ金属を使用するのが有効である。マグネシウムと１種または数種のアルカリ金属との混合物を使用して反応を行うとき、ｚ原子当量のマグネシウムを使用し、そして４〜６または２もしくは３から、ｚ／２原子当量を差し引いた量のアルカリ金属を加える。「ｚ」は、０．５〜３．５の値である。リチウムと組み合わせたマグネシウムまたはナトリウムを使用して反応を実施するとき、反応溶液には、最初にマグネシウムまたはナトリウムだけを仕込み、リチウムを後から加える。マグネシウムを使用するとき、得られる塩化マグネシウムは、リチウムを加える前に濾過により除去するのが有効である。本発明の方法において、リチウム、ナトリウムまたはカリウムの使用が好ましい。
【００５１】
本発明の反応は、有効には溶媒中で行われる。使用される溶媒は、特に常圧および室温で液体のエーテル類であってよい。これらの例は、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ジオキサンまたはテトラヒドロフランである。好ましくはテトラヒドロフランが使用される。反応温度は、好ましくは−２０〜＋１２０℃、たとえば８０〜１２０℃の範囲である。
【００５２】
必要であれば、反応は、触媒を添加して行われる。適切な触媒は、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、テルフェニル、クアテルフェニル、トリフェニレン、trans−１，２−ジフェニルエテン、ピレン、ペリレン、アセナフタレン、デカシクレン、キノリン、Ｎ−エチルカルバゾール、ジベンゾチオフェンまたはジベンゾフランのような、ヘテロ原子を含むか含まない芳香族炭化水素である。反応（１）は、好ましくは、触媒、好ましくはナフタレンおよびビフェニルの存在下で実施される。
【００５３】
得られる金属化ホスフィン（IIa）は、単離を伴わずに、新規な方法においてさらに処理される。
【００５４】
上述のように得られる金属化ホスフィン（IIa）を、次の反応工程：
【００５５】
【化２１】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍｅ、ｍおよびｎは、上記と同義である。Ｙは、ブロモまたはクロロ、好ましくはクロロである〕において、酸ハロゲン化物（III）と反応させて、モノ−またはビスアシルホスフィン（Ｉ）が得られる。使用される溶媒は、たとえば、第１の工程のために上記で使用されるものと同じであってよい。しかしまた、第１の工程において使用された溶媒を蒸留により除去して、残留物を別の溶媒中にとり、ついでこれをさらに処理することも可能である。前工程におけるものと同じ溶媒中で、最も好ましくはテトラヒドロフラン中で処理することが好ましい。酸ハロゲン化物との反応のための反応温度は、−２０〜＋８０℃の範囲が効果的である。
【００５７】
本発明の新規な方法において、有機ハロゲン化リン（II）の反応（１）は、好ましくは８０〜１２０℃の温度範囲で、アルカリ金属と組み合わせたマグネシウムにより行われる。本発明の新規な方法において、有機ハロゲン化リン（II）とアルカリ金属との反応（１）は、たとえば、−２０〜＋１２０℃の温度範囲で行われる。本発明の新規な方法において、金属化ホスフィンと酸塩化物（III）との反応（２）は、好ましくは−２０〜＋８０℃の温度範囲で行われる。
【００５８】
式（Ｉ）のモノ−またはビスアシルホスフィンは、当業者には既知の通常の方法、たとえば、濾過、蒸発または蒸留により単離することができる。同様に、通常の精製方法、たとえば、結晶化、蒸留またはクロマトグラフィーを使用することができる。しかしホスフィン類をまた、単離することなく反応させて、対応するモノ−もしくはビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類を得ることもできる。
【００５９】
使用される置換基に応じて、本発明の新規な方法により、異性体混合物が形成されることがある。
【００６０】
また、本発明の方法を使用して、モノ−およびビスアシルホスフィン類を一緒に、１反応工程で製造することもできる。
【００６１】
本発明の新規な方法により、さらに、脂肪族および芳香族モノアシルホスフィン類の混合物または脂肪族および芳香族ビスアシルホスフィン類の混合物を製造することもできる。この場合には、Ｒ1が脂肪族基である式（II）の化合物と、Ｒ1が芳香族基である式（II）の化合物の、混合物が使用される。
【００６２】
必要であれば、すべての混合物は、当該分野において通常使用される方法により分離してもよく、またはそのままさらに使用してもよい。
【００６３】
本発明はまた、モノ−およびビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−およびビスアシルホスフィンスルフィド類を製造する方法に関する。この方法は、最初に上述のように行って、モノ−またはビスアシルホスフィン（Ｉ）を製造する。粗反応生成物（Ｉ）は、次に精製することなくさらに処理することができ、そして粗生成物の溶液を使用して、ホスフィン（Ｉ）の単離を伴わずに追加の反応工程を行ってよい。必要であれば、たとえば、モノ−またはビスアシルホスフィンを含む溶液を濃縮し、残留物を新しい溶媒中にとることにより、溶媒を交換してもよい。また当然ながら、上述の式（Ｉ）の化合物の未分離混合物をさらに反応させて、対応する酸化物またはスルフィドにすることも可能である。
【００６４】
それぞれの酸化物（IVa）を製造するとき、ホスフィン（Ｉ）の酸化は、当該分野において従来から使用されている酸化性物質を使用して行われる。
【００６５】
【化２２】
適切な酸化性物質は、特に過酸化水素および有機過酸化物、たとえば過酢酸もしくはｔ−ブチルヒドロペルオキシド、空気または純酸素である。酸化は、有効には溶液中で行われる。適切な溶媒は、ベンゼン、トルエン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼンもしくはメシチレンのような芳香族炭化水素、またはアルカン類およびアルカン混合物、たとえば、石油エーテル、ヘキサンもしくはシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素である。酸化の間、反応温度は、好ましくは０〜１２０℃、好ましくは２０〜８０℃の範囲に維持する。反応生成物（IVa）は、当業者には既知の従来法により、単離および精製することができる。
【００６７】
それぞれのスルフィド（IVb）は、硫黄との反応によって製造される。
【００６８】
【化２３】
モノ−またはビスアシルホスフィン類（Ｉ）は、この場合、実質的に、あるいは適宜、適切な不活性有機溶媒中で、等モル〜２倍モル量の元素硫黄と反応させる。適切な溶媒は、たとえば、酸化反応に関して記載されたものである。しかしまた、たとえば、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジフェニルエーテルのような脂肪族または芳香族エーテルを、２０〜２５０℃、好ましくは６０〜１２０℃の温度範囲で使用することも可能である。生じるモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド、またはその溶液は、濾過により、残存する元素硫黄をまったく含まないことが効果的である。溶媒を除去した後、モノ−またはビスアシルホスフィンスルフィドは、蒸留または再結晶により、純粋な形態で単離することができる。
【００７０】
上述のように、式（Ｉ）の化合物の混合物を、酸化またはスルフィドへの反応のために使用することも可能である。対応して得られる酸化物またはスルフィドの混合物は、当該分野において通常使用される方法により分離できるか、または混合物として使用してもよい。
【００７１】
上記反応のすべては、効果的には、不活性ガス雰囲気により、たとえば窒素またはアルゴンガス下で、空気を排除して行われる。それぞれの反応混合物を撹拌することもまた効果的である。
【００７２】
出発物質として使用される酸ハロゲン化物（III）は、既知の物質であり、そのいくつかは市販されているか、または既知の化合物と同様にして製造することができる。
【００７３】
ハロゲン化リン（II）の製造もまた、多数の刊行物に記載されており、そこに提供される記述と同様に実施することができる。J. Chem. Soc. (1935), 462およびJ. Chem. Soc. (1944), 276において、W. Daviesは、たとえば、三塩化アルミニウムの存在下におけるアリーレンと三塩化リンとの反応による、アリールリンクロリドの製造を開示している。F. Nief, Tetrahedron 47 (1991) 33, 667またはTh. Knapp, Tetrahedron 40 (1984) 4, 76によれば、ハロゲン化アリールと、マグネシウムおよび三塩化リンとのグリニャール反応が、もう一つの可能性である。S. Metzger, J. Org. Chem. 29 (1964), 627によれば、アルキルリンクロリドが、同じ方法で入手可能である。Helv. Chim. Act. 36 (1953), 1314において、Th. Weilは、ハロゲン化アリールまたはハロゲン化アルキルとマグネシウムとの反応、これに続く塩化亜鉛との反応および次の三塩化リンとの反応を記述している。対応するアリールリンクロリドに至る、ハロゲン化アリールと、ブチルリチウムおよび三塩化リンとの反応は、G. Whitesidesにより、ＪＡＣＳ 96 (1974), 5398に開示されている。Th. Knapp, Tetrahedron 40 (1984) 4, 765によれば、ハロゲン化アリールマグネシウムとビス（ジメチルアミノ）リンクロリドとの反応、これに続く塩酸との反応によっても、所望の出発物質が生成する。A. Burg, US 2,934,564によれば、対応するアルキルリンクロリドの製造のために、同じ方法を使用してもよい。
【００７４】
本発明の新規な方法の特徴は、通常使用されるホスフィン出発物質（Ｒ2ＰＨ、ＲＰＨ2）を使用することなく、アシルホスフィン類、アシルホスフィンオキシド類またはアシルホスフィンスルフィド類を製造できることである。また、個々の処理工程は、それぞれの中間体を単離および特にそれらを精製することなく、次々と直接実施することができることもまた、重要である。
【００７５】
モノ−もしくはビスアシルホスフィンオキシド類またはモノ−もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類の上述の製造方法において、対応するホスフィン類の製造方法で記載されたような混合物は、形成されていてもよいか、または特定して製造してもよい。このような混合物は、当該分野において既知の方法により分離することができ、または混合物の形態でさらに使用してもよい。
【００７６】
上述の方法において、Ｒ1は、ｎ＝１のとき、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはビフェニル（フェニルおよびビフェニル基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1は、ｎ＝２のとき、Ｃ6〜Ｃ10アルキレン、または下記式：
【００７７】
【化２４】
で示される基であり；
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはビフェニル（フェニルおよびビフェニル基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｑは、単結合または−Ｏ−であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、水素である。
【００７９】
上記方法において注目される化合物は、Ｒ2が、２，６−または２，４，６−位でＣ1〜Ｃ4アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ4アルコキシにより置換されているフェニルである、式（Ｉ）の化合物である。
【００８０】
上記方法において特に好ましく使用される式（Ｉ）の化合物は、ｎが１である化合物である。
【００８１】
新規な方法の式（II）中のＹは、好ましくはクロロである。
【００８２】
上記方法における式（Ｉ）の他の好ましい化合物は、ｍが数２として定義される化合物、すなわち、ビスアシルホスフィンまたはビスアシルホスフィンオキシド類もしくはビスアシルホスフィンスルフィド類である。
【００８３】
好ましい方法は、式（Ｉ）において、ｎが１であり、ｍが１または２であり、Ｒ1が、非置換またはＣ1〜Ｃ4アルキルもしくはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されているフェニルであるか、あるいはＲ1が、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ2が、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシまたはＣ1〜Ｃ4アルキルにより置換されているフェニルであり；そしてＲ3が、非置換か、またはＣ1〜Ｃ4アルキルで置換されているフェニルである方法である。
【００８４】
本発明はまた、本発明の新規な方法により得られる化合物および化合物の混合物に関する。
【００８５】
本発明の新規な方法により入手可能なホスフィン類は、対応するホスフィンオキシド類およびホスフィンスルフィド類の製造のための重要な遊離体である。ホスフィンオキシド類およびホスフィンスルフィド類は、光重合反応における開始剤として当該分野において使用される。
【００８６】
以下の実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。残りの説明および特許請求の範囲と同様に、他に記載がなければ、部または百分率は重量による。
【００８７】
実施例１ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気により水分を排除して、リチウム７ｇ（１．０mol；２５％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ８０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン３６．５０ｇ（９８％；０．２０mol）の溶液を、２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。氷浴中で撹拌および冷却をしながら、ＴＨＦ ２５０ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド８０．４ｇ（０．４４mol；１０％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、次にこの混合物を、さらに１５分間室温で撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を完全に濃縮して（生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが５３．７８ppmであった）、残留物をトルエン２００ml中にとり、４０℃に加熱した。激しく撹拌し、時おり氷浴で冷却しながら、３０％過酸化水素２３ｇ（０．２０mol）を３０分かけて滴下し、次にこの混合物を撹拌しながら室温に冷却した。溶液に水４０mlを添加して、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ３０mlで２回、次に水それぞれ３０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過および溶媒の完全な留去の後、黄色の油状物８５ｇを得たが、これは約０．１mbarで１時間乾燥した後に固体になった。この粗生成物を、温かい石油エーテル／酢酸エチル（９：１）１５０ml中にスラリー状に分散させ、濾過して石油エーテル（４０／６０）３０mlで洗浄することにより精製して、標題生成物７１．５ｇ（収率８５．４０％）を、融点（ｍ．ｐ．）が１３１〜１３２℃で、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが７．４３ppmの、黄色固体の形態で得た。母液から、溶媒を完全に濃縮することにより黄色油状物をさらに１４ｇ得たが、この油状物を次にフラッシュクロマトグラフィーにより精製して、標題生成物をさらに４．３ｇ得た。このようにして、総収量は、７６．０ｇ（収率９０．８％）であった。
【００８８】
実施例２ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド８２．２５ｇで置き換えたほかは、実施例１の手順を繰り返した。得られたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが５２．１７ppmであり、融点が１２０〜１２５℃であった。標題生成物２０．１ｇ（収率６４％）を、融点が１５５℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが６．２４ppmの、黄色粉末の形態で得た。
【００８９】
実施例３ ビス（２，６−ジクロロベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジクロロベンゾイルクロリド８５．８ｇで置き換えたほかは、実施例１の手順を繰り返した。得られたホスフィンは、融点が１１７〜１１９℃であった。標題生成物３５．０ｇ（収率７４％）を、帯黄褐色粉末の形態で得た。アセトニトリルから再結晶して、融点が１９４℃の黄色固体を得た。
【００９０】
実施例４ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンスルフィドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム７ｇ（１．０mol；２５％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ８０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン３６．５０ｇ（９８％；０．２０mol）の溶液を２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ ２５０ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド８０．４ｇ（０．４４mol；１０％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、次にこの混合物をさらに１５分間室温で撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により、有機相を完全に濃縮して、残留物をトルエン２００mlにとり、４０℃に加熱した。溶液に硫黄３．７ｇを添加して、この混合物を６０℃で６時間撹拌した。溶媒を除去することにより、黄色油状物３９．０ｇ（収率８９．９％）を得たが、これをアセトニトリルから再結晶して、標題生成物を、融点が１２３℃の黄色固体の形態で得た。
【００９１】
実施例５ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）フェニルホスフィンスルフィドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド８２．２５ｇで置き換えたほかは、実施例４の手順を繰り返した。加えた硫黄の量は４．９１ｇであった。溶媒の除去および酢酸エチル１００mlからの再結晶により、標題生成物２１．０ｇ（収率６６．０％）を、融点が１５５℃の黄色固体の形態で得た。
【００９２】
実施例６ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−（２，４−ジペントキシフェニル）ホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム６．２ｇ（０．８９mol；１２％過剰）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン１．０ｇ（０．００８mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ５０ml中の２，４−ジペントキシフェニル−Ｐ，Ｐ−ジクロロフェニルホスフィン７４．０ｇ（９５％；０．２０mol）の溶液を、２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１．５時間かけて滴下した。生じた混合物を、５０℃で６時間撹拌した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、次にＴＨＦ ２００ml中の塩化２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド７６．７ｇ（０．４２mol；５％過剰）の溶液を、室温で１．５時間かけて滴下し、ついでこの混合物をさらに室温で１５分間撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を完全に濃縮して（生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲシフトが４２．７ppmであった）、残留物をトルエン３００mlにとり、４０℃に加熱した。激しく撹拌し、時おり氷浴で冷却しながら、３０％過酸化水素２３ｇ（０．２０mol）を３０分かけて滴下し、次に反応が完結するまで、この混合物を５０℃でさらに２．５時間撹拌した。ついで撹拌しながら、反応混合物を室温まで放冷した。黄色の反応混合物をけいそう土で濾過した。次に溶液に水４０mlを添加して、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ５０mlで２回、次に水それぞれ５０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過およびロータリーエバポレーターでの溶媒の完全な留去により、黄色油状物１２０ｇを得た。この粗生成物を加熱しながらヘキサン２００mlに溶解し、次に最初２０℃まで放冷し、ついで０℃まで冷却すると、標題生成物が黄色固体の形態で晶出した。生成物を冷却しつつ濾過して、冷ヘキサンそれぞれ２０mlで２回洗浄し、生じた固体を真空乾燥オーブンで４０℃および１５５mmHgで１２時間乾燥することにより、融点が９１℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが１４．４８ppmの固体７０．０ｇ（収率５９．３％）を得た。母液から、溶媒を完全に濃縮し、ついでカラムクロマトグラフィーを通して精製することによって、標題生成物をさらに１６ｇ得た。
【００９３】
実施例７ ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリドを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリド７２．０ｇで置き換えるほかは、実施例６の手順を繰り返して、黄色の樹脂状物９４．０ｇ（収率７３．４％）を得た。この粗生成物を、カラムクロマトグラフィーを通して精製して、融点が６８℃の樹脂状物５６．８ｇを得た。
【００９４】
実施例８ ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）エチルホスフィンオキシドの製造
アルゴン雰囲気下で水分を排除して、リチウム２．６７ｇ（０．３８mol）を室温でテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１５０mlに懸濁させ、この懸濁液にナフタレン０．３８ｇ（０．００３mol）を添加した。次にこの混合物を室温で１０分間撹拌すると、暗褐色〜黒色の懸濁液を生じた。激しく撹拌しながら、ＴＨＦ ２０ml中のＰ，Ｐ−ジクロロエチルホスフィン１０．０ｇ（０．０７６mol）の溶液を２０〜２５℃（随時、氷浴で冷却）で１時間かけて滴下した。生じた混合物を、室温で１８時間撹拌した。水分を排除し、アルゴン保護ガスを使用して、黒色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および氷浴で冷却しながら、ＴＨＦ １００ml中の２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド２７．８７ｇ（０．１５mol）の溶液を、１．５時間かけて室温で加え、次にこの混合物をさらに室温で１５分間撹拌した。有機相を減圧で完全に濃縮して、残留物をトルエン１００mlにとり、５０〜６０℃で３０分かけて、３０％過酸化水素８．７ｇを滴下した。反応を完結させるために、この混合物を６０℃でさらに１時間撹拌した。ついで反応混合物を室温まで放冷し、相を分離した。有機相を１０％炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ５０mlで２回、次に水それぞれ５０mlで２回洗浄した。硫酸マグネシウム上での乾燥、濾過およびロータリーエバポレーターでの溶媒の完全な留去により、黄色油状物２８．０ｇ（９７．６％）を得たが、これを酢酸エチルから再結晶して、融点が１４２℃の標題生成物を得た。
【００９５】
実施例９〜１２：
実施例９〜１２の化合物を、対応する遊離体を使用して、実施例８に記載される方法と同様に製造した。化合物とその物性（31Ｐ−ＮＭＲシフト〔ppm〕および／または融点〔℃〕）を、下記の表１にまとめた。
【００９６】
【表１】
実施例１３： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジトリルホスフィンオキシド（ジ−オルト、ジ−パラおよびオルト−パラ−生成物からなる異性体混合物）の製造
アルゴン下で水分を排除して、細断ナトリウム４．６ｇ（０．２０mol）を室温でテトラヒドロフラン１００mlに入れた。ゆっくり撹拌しながら、ジトリルホスフィンクロリド（ジ−オルト、ジ−パラおよびオルト−パラの異性体混合物）２４．９ｇ（０．１０mol）を、２０〜２５℃で滴下した。１２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド１９．０ｇ（０．１０５mol；５％過剰）を、室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を水に注ぎ入れて、トルエンで抽出した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過してロータリーエバポレーター（ロータリーエバポレーター（Rotavap））での蒸発により濃縮した。生じたホスフィンは、31Ｐ−ＮＭＲスペクトルのシフトが２３．２４ppmであった。残留物をトルエン１００mlにとり、過酸化水素（３０％）１１．５ｇ（０．１０mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、標題化合物３３．８ｇ（理論値の９０％）を、黄色粘性油状物の形態で得た。31Ｐ−ＮＭＲシフトは１４．５４ppmであった。
【００９８】
実施例１４： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドの製造
アルゴン下で水分を排除して、リチウム２．７６ｇ（０．４０mol）を室温でＴＨＦ １００mlに懸濁して、この懸濁液にナフタレン０．１０ｇ（０．０００７８mol）を添加した。次にこの混合物を、室温で１０分間撹拌した。随時冷却しながら激しく撹拌して、この暗褐色の懸濁液にＰ−クロロジフェニルホスフィン４５．２ｇ（０．０mol）を１０〜２５℃で滴下した。４時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド３８．０ｇ（０．２mol）を１０〜２０℃で１時間かけて滴下し、次にこの混合物をさらに３０分間撹拌した。ロータリーエバポレーターでの蒸発により有機相を濃縮して、残留物をトルエン１００mlにとり、５０〜６０℃の温度で激しく撹拌しながら、過酸化水素（３０％）２３．０ｇ（０．２０mol）を添加した。３０分間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物を石油エーテル／酢酸エチルから晶出させて、真空乾燥オーブンで４０℃で乾燥し、標題化合物５５．０ｇ（理論値の７９％）を、融点が８９〜９０℃の黄色粉末の形態で得た。
【００９９】
実施例１５： ２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドの製造
２，４，６−トリメチルベンゾイルを、２，６−ジメトキシベンゾイルクロリドで置き換えたほかは、実施例１４に記載された方法と同様にして、２，６−ジメトキシベンゾイル（ジフェニル）ホスフィンオキシドを製造した。このホスフィンの31Ｐ−ＮＭＲシフトは、２０．１７ppmであった。これによって、融点が１２０〜１２１℃で、31Ｐ−ＮＭＲシフトが１０．１９ppmの２，６−ジメトキシベンゾイル（ジフェニル）ホスフィンオキシド２５ｇを得た。これは、理論値の６８％の収率に相当する。
【０１００】
実施例１６： ２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドとビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドとの混合物の製造
アルゴン下で水分を排除して、リチウム２．１ｇ（０．３０mol）およびナフタレン０．１ｇを室温でＴＨＦ １００mlに入れた。撹拌しながら、ジクロロフェニルホスフィン２．７ｇ（０．０１５mol）、ついでクロロジフェニルホスフィン９．９ｇ（０．０４５mol）を、２０〜２５℃で滴下した。１２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド１３．７ｇ（０．０７５mol）を室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をトルエン１００mlにとり、３０％過酸化水素１７ｇ（０．１５mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、３：１の比の標題化合物１０．３ｇ（理論値の４７％）を、黄色粘性油状物の形態で得た。
【０１０１】
実施例１７： ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−１，１−ジメチルエチルホスフィンオキシドとビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドとの混合物の製造
アルゴン保護ガス雰囲気により水分を排除して、リチウム３．５ｇ（０．５０４mol）およびナフタレン０．１ｇを、室温でＴＨＦ １００mlに入れた。撹拌しながら、ジクロロフェニルホスフィン１１．３ｇ（０．０６３mol）、ついでジクロロ−ｔ−ブチルホスフィン１０ｇ（０．０６３mol）を、２０〜２５℃で滴下した。７２時間撹拌した後、水分を排除し、アルゴンを保護ガスとして使用して、赤色の溶液をガラスフリット（多孔度Ｇ２）を通して濾過しつつスルホン化フラスコ中に入れた。撹拌および冷却しながら、２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド２３．０ｇ（０．１２６mol）を室温で３０分かけて滴下した。さらに２時間撹拌した後、帯褐赤色の反応懸濁液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をトルエン１００mlにとり、３０％過酸化水素２８．６ｇ（０．２５２mol）を添加した。５０〜６０℃の温度で２時間撹拌した後、反応が完結した。反応乳濁液を水に注ぎ入れて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥して濾過した。次に濾液を、ロータリーエバポレーターでの蒸発により濃縮した。残留物をシリカゲルで精製して、高真空下で乾燥し、６５：３５の比の標題化合物７．６ｇ（理論値の１５％）を黄色粘性油状物の形態で得た。
Claims (9)
- 式（Ｉ）：
ｎは、１または２であり、
ｍは、２であり；
Ｒ1は、ｎ＝１のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｒ1は、ｎ＝２のとき、Ｃ1〜Ｃ18アルキレン、１個または数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキレンであるか；あるいはＲ1は、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシフェニルにより置換されているＣ1〜Ｃ6アルキレンであるか；あるいはＲ1は、フェニレンまたはキシリレン（これらの基は、非置換であるか、あるいは１〜３個のＣ1〜Ｃ4アルキルおよび／またはＣ1〜Ｃ4アルコキシにより置換されている）であるか；あるいはＲ1は、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ2−、
Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜４個のＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはハロゲンにより置換されている）であり；
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、１個もしくは数個の不連続のＯ原子によって中断されたＣ2〜Ｃ18アルキル；フェニル置換Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環（フェニル、ナフチル、ビフェニル、Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキルまたは５員もしくは６員のＯ−、Ｓ−もしくはＮ−含有複素環基は、非置換であるか、あるいは１〜５個のハロゲン、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ1〜Ｃ8アルキルチオおよび／またはＣ1〜Ｃ8アルコキシにより置換されている）であり；
Ｑは、単結合、ＣＲ6Ｒ7、−Ｏ−または−Ｓ−であり；
Ｒ4およびＲ5は、それぞれ独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキルまたはＣ1〜Ｃ4アルコキシであり；
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ1〜Ｃ4アルキルである〕
で示されるアシルホスフィン類の製造方法であって、
（１）式（II）：
Ｒ1、Ｒ3、ｎおよびｍは、上記と同義であり、そして
Ｙは、ＢｒまたはＣｌである〕
で示される有機ハロゲン化リンと、
アルカリ金属との、適宜、触媒の存在下での反応；ならびに
（２）これに続く式（III）：
- 式（IV）：
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ｎおよびｍは、請求項１と同義であり；そして
Ｚは、ＯまたはＳである〕
で示されるアシルホスフィンオキシド類およびアシルホスフィンスルフィド類の製造方法であって、
（１）式（II）：
（２）これに続く式（III）：
（３）反応（２）により得られる式（Ｉ）：
- 反応（１）が、リチウム、ナトリウムまたはカリウムを使用して実施される、請求項１または請求項２記載の方法。
- ４〜６原子当量のアルカリ金属が、式（Ｉ）の化合物の製造に使用される、請求項３記載の方法。
- 式（III）の化合物中のＹが、クロロである、請求項１または請求項２記載の方法。
- ナフタレンまたはビフェニルから選ばれる触媒の存在下で反応（１）を行う、請求項１または請求項２記載の方法。
- −２０〜＋１２０℃の温度範囲で、有機ハロゲン化リン（II）とアルカリ金属との反応（１）を行う、請求項１または請求項２記載の方法。
- 金属化ホスフィンと酸塩化物（III）との反応（２）を、−２０〜＋８０℃で行う、請求項１または請求項２記載の方法。
- 反応工程（１）および（２）を、同じ溶媒中で行う、請求項１または請求項２記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH2376/98 | 1998-11-30 | ||
| CH237698 | 1998-11-30 | ||
| CH2434/98 | 1998-12-08 | ||
| CH243498 | 1998-12-08 | ||
| PCT/EP1999/008968 WO2000032612A1 (en) | 1998-11-30 | 1999-11-20 | Process for preparing acylphosphines and derivatives |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002531460A JP2002531460A (ja) | 2002-09-24 |
| JP2002531460A5 JP2002531460A5 (ja) | 2005-12-22 |
| JP4265871B2 true JP4265871B2 (ja) | 2009-05-20 |
Family
ID=25690294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000585253A Expired - Lifetime JP4265871B2 (ja) | 1998-11-30 | 1999-11-20 | アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US6888031B1 (ja) |
| EP (1) | EP1135399B2 (ja) |
| JP (1) | JP4265871B2 (ja) |
| KR (1) | KR100653117B1 (ja) |
| CN (1) | CN1211388C (ja) |
| AT (1) | ATE221893T1 (ja) |
| AU (1) | AU760237B2 (ja) |
| CA (1) | CA2349637C (ja) |
| CZ (1) | CZ302512B6 (ja) |
| DE (1) | DE69902485T3 (ja) |
| ES (1) | ES2180347T5 (ja) |
| SK (1) | SK286152B6 (ja) |
| TW (1) | TW492972B (ja) |
| WO (1) | WO2000032612A1 (ja) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69902485T3 (de) * | 1998-11-30 | 2007-03-15 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Verfahren zur herstellung von acylphosphinen und derivaten |
| GB2360283B (en) * | 2000-02-08 | 2002-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides |
| GB2365430B (en) * | 2000-06-08 | 2002-08-28 | Ciba Sc Holding Ag | Acylphosphine photoinitiators and intermediates |
| EP1423757B1 (en) * | 2001-08-21 | 2009-04-29 | Ciba Holding Inc. | Bathochromic mono- and bis-acylphosphine oxides and sulfides and their use as photoinitiators |
| DE10206117A1 (de) | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Basf Ag | Acyl- und Bisacylphosphinderivate |
| DE10244684A1 (de) | 2002-09-24 | 2004-04-01 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxiden |
| US7230137B2 (en) * | 2002-12-04 | 2007-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Process for the synthesis of cycloorganylphosphanes and di(alkyli metal/alkaline earth metal) oligophosphanediides |
| DE10315671A1 (de) * | 2003-04-04 | 2004-10-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxid-Feststoffen |
| AU2004262586A1 (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-17 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for preparing acylphosphanes and derivatives thereof |
| TW200523265A (en) * | 2003-07-31 | 2005-07-16 | Basf Ag | A process for the preparation of acylphosphines |
| US7687657B2 (en) | 2004-11-23 | 2010-03-30 | Ciba Speciality Chemicals Corporation | Process for preparing acylphosphanes and derivatives thereof |
| JP5234912B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2013-07-10 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | アシルホスファン、並びにこれらの酸化物及び硫化物の製造方法 |
| DE102005005946A1 (de) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung tertiärer Phosphine |
| KR101648996B1 (ko) | 2008-11-03 | 2016-08-17 | 바스프 에스이 | 광개시제 혼합물 |
| JP5951479B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2016-07-13 | イーティーエイチ・チューリッヒ | ポリマーナノ粒子 |
| CN102875598B (zh) * | 2011-07-11 | 2016-09-07 | 深圳市有为化学技术有限公司 | (二苯膦氧基)(均三甲苯基)甲酮和(苯膦氧基)双(均三甲苯基甲酮)的制备方法 |
| CN102875597B (zh) * | 2011-07-11 | 2017-05-03 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 芳香酮膦氧杂化型化合物 |
| CN102675365A (zh) * | 2012-05-16 | 2012-09-19 | 湖北固润科技股份有限公司 | 一种紫外光引发剂xbpo合成方法 |
| GB201213163D0 (en) | 2012-07-24 | 2012-09-05 | Lambson Ltd | Photopolymerisation processes and novel compounds therefor |
| ES2720760T3 (es) | 2012-10-01 | 2019-07-24 | Eth Zuerich | Un procedimiento para la preparación de acilofosfanos |
| WO2014140356A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Freefly Systems Inc. | Method for enabling manual adjustment of a pointing direction of an actively stabilized camera |
| CN104592298B (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-06 | 湖北固润科技股份有限公司 | 一种酰基膦高效光引发剂及其制备方法 |
| CN105541913B (zh) * | 2015-12-03 | 2017-08-25 | 天津久日新材料股份有限公司 | 一种2,4,6‑三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦的制备方法 |
| CN105732710A (zh) * | 2016-03-16 | 2016-07-06 | 三峡大学 | 一种光引发剂联苯基四(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法及其应用 |
| CN105732709A (zh) * | 2016-03-16 | 2016-07-06 | 三峡大学 | 一种光引发剂2,4,6-三甲基苯甲酰二环己基氧膦，制备方法及其应用 |
| CN107304220B (zh) * | 2016-04-22 | 2020-03-31 | 江苏英力科技发展有限公司 | 一种“一锅法”合成2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦的方法 |
| EP3296301A1 (en) * | 2016-09-19 | 2018-03-21 | ETH Zürich | A versatile process for the preparation of acylphosphines |
| JP6916484B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-08-11 | 国立大学法人千葉大学 | アシルホスフィンの製造方法 |
| EP3409680B1 (en) | 2017-05-30 | 2021-01-06 | IGM Group B.V. | Synthesis of bis(acyl)phosphines by activation of unreactive metal phosphides |
| EP3539924A1 (en) * | 2018-03-14 | 2019-09-18 | ETH Zurich | Novel vinyl phosphines and photo-initiators obtainable therefrom |
| CN110734461A (zh) * | 2018-07-20 | 2020-01-31 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 化合物2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦的制备 |
| EP3892625A4 (en) * | 2018-12-07 | 2021-11-24 | Anqing Lighting Optoelectronics Technology Co., Ltd | ACYLPHOSPHINE OXIDE COMPOUND AND RELATED PREPARATION PROCESS |
| CN111138491B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-08-05 | 天津久日新材料股份有限公司 | 一种制备光引发剂tpo同时副产氯苄的方法 |
| CN111087425B (zh) | 2020-01-10 | 2022-04-19 | 天津大学 | 一种大粒度苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦晶型及其结晶方法 |
| CN112279940B (zh) * | 2020-04-17 | 2023-06-27 | 山东科技大学 | 一种酰基膦光引发剂及其制备方法 |
| CN112159429B (zh) * | 2020-10-29 | 2022-06-21 | 天津久日新材料股份有限公司 | 一种双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦的制备方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0007086B1 (de) | 1978-07-14 | 1982-02-10 | BASF Aktiengesellschaft | Lichthärtbare Form-, Tränk- und Überzugsmassen sowie daraus hergestellte Formkörper |
| DE2909994A1 (de) | 1979-03-14 | 1980-10-02 | Basf Ag | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre herstellung und verwendung |
| DE3020092A1 (de) | 1980-05-27 | 1981-12-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Acylphosphinverbindungen und ihre verwendung |
| DE3034697A1 (de) | 1980-09-15 | 1982-05-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung |
| DE3443221A1 (de) | 1984-11-27 | 1986-06-05 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung |
| US5218009A (en) * | 1989-08-04 | 1993-06-08 | Ciba-Geigy Corporation | Mono- and di-acylphosphine oxides |
| RU2091385C1 (ru) | 1991-09-23 | 1997-09-27 | Циба-Гейги АГ | Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий |
| ZA941879B (en) | 1993-03-18 | 1994-09-19 | Ciba Geigy | Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators |
| TW381106B (en) * | 1994-09-02 | 2000-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides |
| WO1996007662A1 (en) * | 1994-09-08 | 1996-03-14 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Novel acylphosphine oxides |
| TW323274B (ja) * | 1994-10-13 | 1997-12-21 | Ciba Sc Holding Ag | |
| DE69902485T3 (de) * | 1998-11-30 | 2007-03-15 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Verfahren zur herstellung von acylphosphinen und derivaten |
| GB2360283B (en) * | 2000-02-08 | 2002-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides |
-
1999
- 1999-11-20 DE DE69902485T patent/DE69902485T3/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 WO PCT/EP1999/008968 patent/WO2000032612A1/en active IP Right Grant
- 1999-11-20 AT AT99973034T patent/ATE221893T1/de active
- 1999-11-20 EP EP99973034A patent/EP1135399B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 JP JP2000585253A patent/JP4265871B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 US US09/856,769 patent/US6888031B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 KR KR1020017006727A patent/KR100653117B1/ko active IP Right Grant
- 1999-11-20 AU AU13845/00A patent/AU760237B2/en not_active Expired
- 1999-11-20 ES ES99973034T patent/ES2180347T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 SK SK727-2001A patent/SK286152B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-11-20 CZ CZ20011875A patent/CZ302512B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-11-20 CA CA002349637A patent/CA2349637C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-20 CN CNB998137138A patent/CN1211388C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-29 TW TW088120769A patent/TW492972B/zh not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-05-17 US US10/847,095 patent/US7094931B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-02-06 US US11/348,042 patent/US7214830B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7094931B2 (en) | 2006-08-22 |
| CZ20011875A3 (cs) | 2001-09-12 |
| ES2180347T3 (es) | 2003-02-01 |
| TW492972B (en) | 2002-07-01 |
| KR20010093124A (ko) | 2001-10-27 |
| DE69902485T3 (de) | 2007-03-15 |
| JP2002531460A (ja) | 2002-09-24 |
| DE69902485T2 (de) | 2003-05-08 |
| ATE221893T1 (de) | 2002-08-15 |
| EP1135399B1 (en) | 2002-08-07 |
| CA2349637C (en) | 2008-12-23 |
| SK286152B6 (sk) | 2008-04-07 |
| CN1211388C (zh) | 2005-07-20 |
| SK7272001A3 (en) | 2001-12-03 |
| US6888031B1 (en) | 2005-05-03 |
| EP1135399A1 (en) | 2001-09-26 |
| CN1328564A (zh) | 2001-12-26 |
| US20060128959A1 (en) | 2006-06-15 |
| CA2349637A1 (en) | 2000-06-08 |
| DE69902485D1 (de) | 2002-09-12 |
| US20040248855A1 (en) | 2004-12-09 |
| ES2180347T5 (es) | 2007-04-01 |
| AU1384500A (en) | 2000-06-19 |
| KR100653117B1 (ko) | 2006-12-21 |
| WO2000032612A1 (en) | 2000-06-08 |
| CZ302512B6 (cs) | 2011-06-29 |
| AU760237B2 (en) | 2003-05-08 |
| US7214830B2 (en) | 2007-05-08 |
| EP1135399B2 (en) | 2006-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4265871B2 (ja) | アシルホスフィン類、アシルオキシド類およびアシルスルフィド類の製造方法 | |
| US7439401B2 (en) | Process for preparing acylphosphanes and derivatives thereof | |
| JP5148283B2 (ja) | アシルホスファン及びその誘導体の製造方法 | |
| Pietrusiewicz et al. | Optically active phosphine oxides. 8: Synthesis of nonsymmetrical 1, 2-diphosphinylethenes and related systems | |
| WO1998042716A1 (en) | Preparation of tertiary phosphines via nickel-catalyzed cross coupling | |
| Toyota et al. | Preparation and 31P NMR study of some low‐coordinated organophosphorus compounds bearing the 2, 4‐di‐t‐butyl‐6‐isopropylphenyl group | |
| MXPA01005323A (en) | Process for preparing acylphosphines and derivatives |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041215 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041215 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071101 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080910 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080918 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081010 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090210 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090212 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4265871 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140227 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |