JP4201440B2 - 活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 - Google Patents
活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4201440B2 JP4201440B2 JP25615599A JP25615599A JP4201440B2 JP 4201440 B2 JP4201440 B2 JP 4201440B2 JP 25615599 A JP25615599 A JP 25615599A JP 25615599 A JP25615599 A JP 25615599A JP 4201440 B2 JP4201440 B2 JP 4201440B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- dimethyl
- sulfonium
- curable composition
- active energy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な活性エネルギー線硬化型組成物およびその被膜形成方法に関し、詳しくは、光増感剤、光カチオン重合開始剤、及び光カチオン重合性化合物を配合してなる活性エネルギー線硬化型組成物及び該組成物を基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させる被膜形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により硬化する活性エネルギー線硬化型組成物は、例えば、塗料、インキ、接着剤等の用途に幅広く利用されている。
活性エネルギー線の照射によりエポキシ等のカチオン重合を開始する化合物として、芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等で代表されるオニウム塩類、フォスフォニウム塩および金属アレーン錯体などがある。
【0003】
活性エネルギー線硬化型組成物は秒単位で硬化でき、加熱を必要としないので、熱硬化型塗料やラッカータイプではなし得なかった高速硬化乾燥を可能とし、これに適した用途に幅広く利用されている。また、通常、加熱を必要としないため、省エネルギータイプの被膜乾燥方法である。このためには、より少ないエネルギーで、速く、仕上りの良好な硬化被膜を得ることは極めて大事なことである。このためには、活性エネルギー線を有効に活用するための光増感剤の利用は極めて重要なことである。今まで数多くの光増感剤が示されており、例えば特開平3−237106、特開平10−1507、USP4,571,377、USP5,085,972、イメージング用有機材料(ぶんしん出版、1993年7月8日)P.32−P.143、P.170などがあげられる。
【0004】
しかしながら、上記した公知の組成物では高速(短時間)での硬化性や架橋性が十分でなく、また顔料を含有するエナメルタイプにおいては硬化性が不十分であるといった問題点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、硬化性、表面硬度、付着性、耐溶剤性に優れた被膜を形成する活性エネルギー線硬化型組成物を開発することを目的としてなされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記の問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の光増感剤を光カチオン重合組成物に配合してなる組成物が、極めて反応性が良好で、硬度、付着性の良い被膜が形成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
即ち、本発明は、
1、下記成分
〔A〕下記一般式(1)で表される光増感剤
【化2】
(式中、R1およびR2はC1〜C8のアルキル基、R3はそれぞれ同一もしくは異なって水素原子またはC1〜C4のアルキル基を示す)
〔B〕ヨードニウム塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩およびホスホニウム塩から選ばれる少なくとも1種の光カチオン重合開始剤および
〔C〕光カチオン重合性化合物
を必須成分として含有する組成物であって、
上記した〔A〕、〔B〕および〔C〕成分の配合割合が、
〔C〕100重量部当り〔A〕0.01〜10重量部、〔B〕0.01〜20重量部の範囲であることを特徴とする活性エネルギー線硬化型組成物、
2、上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする上記1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物、
3、上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする上記1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物、
4、上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする上記1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物、
5、上記硬化型組成物において、紫外線吸収剤〔D〕を配合してなることを特徴とする上記1乃至4のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物、
6、基材表面に、上記1乃至5項のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物を塗布量が硬化膜厚で1〜100μmになるように塗布し、次いで活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする被膜形成方法
に係わる。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明組成物で使用する光増感剤〔A〕は下記一般式(1)で表される光増感剤
【化3】
(式中、R1およびR2はC1〜C8のアルキル基、R3はそれぞれ同一もしくは異なって水素原子またはC1〜C4のアルキル基を示す)
である。
【0009】
一般式(1)で表されるR1およびR2のC1〜C8のアルキル基としては、直鎖であっても分岐していても構わない。該アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル等の基があげられる。また、R3のC1〜C4のアルキル基としては、直鎖であっても分岐していても構わない。該アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル等の基があげられる。
【0010】
光増感剤〔A〕としては、例えば、9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、9,10−ジブトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、9,10−ジヘキサノキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−エチル−9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−エチル−9,10−ジブトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−メチル−9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−メチル−9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−メチル−9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−メチル−9,10−ジブトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−プロピル−9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン、2−プロピル−9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンなどがあげられる。このものは1種もしくは2種以上組み合わせて使用することができる。
【0011】
本発明で使用する光カチオン重合開始剤[B]としては、ヨードニウムカチオン、スルホニウムカチオン、スルホキソニウムカチオン、ホスホニウムカチオンがアニオンと対イオンを形成してなるオニウム塩が使用される。このものは1種もしくは2種以上組み合わせて使用することができる。
【0012】
ヨードニウムカチオンとしては、例えば、下記一般式(2)および(3)
【化4】
【0013】
スルホニウムカチオンまたはスルホキソニウムカチオンとしては、例えば、下記一般式(4)〜(7)
【化5】
【0014】
ホスホニウムカチオンとしては、例えば、下記一般式(8)
【化6】
があげられる。
【0015】
上記した一般式(2)〜(8)においてR4〜R7は下記の意味を表す。
R4、R6およびR7は同じ一般式において同一もしくは異なっていても構わない。
【0016】
R4はフッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基もしくは、下記R7(フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC6〜C18の単環、縮合多環アリール基のいずれか)を示す。
【0017】
該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−デシルシクロヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノメチル基、ニトロメチル基、アジドメチル基などがあげられる。
【0018】
R5は、ベンジル基、置換されたベンジル基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、置換されたアリル基、アルコキシル基、置換されたアルコキシル基、アリルアルコキシル基、アリールオキシ基、置換されたアリールオキシ基から選ばれる基を示す。
【0019】
置換されたベンジル基としては、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたベンジル基があげられ、さらに、ベンジル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基によって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。
【0020】
これら置換されたベンジル基の具体例としては、例えば、o−フルオロベンジル基、m−フルオロベンジル基、p−フルオロベンジル基、o−クロロベンジル基、m−クロロベンジル基、p−クロロベンジル基、o−ブロモベンジル基、m−ブロモベンジル基、p−ブロモベンジル基、o−シアノベンジル基、m−シアノベンジル基、p−シアノベンジル基、o−ニトロベンジル基、m−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、2,4−ジフルオロフェニルメチル基、2,6−ジクロロフェニルメチル基、2,4,6−トリブロモフェニルメチル基、ペンタフルオロフェニルメチル基、p−(トリフルオロメチル)ベンジル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルメチル基、o−ヒドロキシベンジル基、m−ヒドロキシベンジル基、p−ヒドロキシベンジル基、o−メルカプトベンジル基、m−メルカプトベンジル基、p−メルカプトベンジル基、o−メチルスルフィニルベンジル基、m−メチルスルフィニルベンジル基、p−メチルスルフィニルベンジル基、o−メチルスルホニルベンジル基、m−メチルスルホニルベンジル基、p−メチルスルホニルベンジル基、o−アセチルベンジル基、m−アセチルベンジル基、p−アセチルベンジル基、o−ベンゾイルベンジル基、m−ベンゾイルベンジル基、p−ベンゾイルベンジル基、o−メチルベンジル基、m−メチルベンジル基、p−メチルベンジル基、p−エチルベンジル基、p−プロピルベンジル基、p−イソプロピルベンジル基、p−t−ブチルベンジル基、p−オクタデシルベンジル基、p−シクロヘキシルベンジル基、o−メトキシベンジル基、m−メトキシベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−エトキシベンジル基、p−プロポキシベンジル基、p−イソプロポキシベンジル基、p−t−ブトキシベンジル基、p−オクタデシルベンジル基、p−シクロヘキサンオキシベンジル基、o−メトキシカルボニルベンジル基、m−メトキシカルボニルベンジル基、p−メトキシカルボニルベンジル基、p−エトキシカルボニルベンジル基、p−プロポキシカルボニルベンジル基、p−イソプロポキシカルボニルベンジル基、p−t−ブトキシカルボニルベンジル基、p−オクタデシルオキシカルボニルベンジル基、p−シクロヘキサンオキシカルボニルベンジル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、9−アンスリルメチル基、1−ピレニルメチル基、5−ナフタセニルメチル基、6−ペンタセニルメチル基などがあげられる。
【0021】
置換されたフェナシル基としては、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、卜リフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、C2〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたフェナシル基があげられ、さらに、フェナシル基中のベンゼン環が不飽和炭化水素基によって、C10〜C22の縮合多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。
【0022】
これら置換されたフェナシル基の具体例としては、例えば、o−フルオロフェナシル基、m−フルオロフェナシル基、p−フルオロフェナシル基、o−クロロフェナシル基、m−クロロフェナシル基、p−クロロフェナシル基、o−ブロモフェナシル基、m−ブロモフェナシル基、p−ブロモフェナシル基、o−シアノフェナシル基、m−シアノフェナシル基、p−シアノフェナシル基、o−ニトロフェナシル基、m−ニトロフェナシル基、p−ニトロフェナシル基、2,4−ジフルオロフェニルカルボニルメチル基、2,6−ジクロロフェニルカルボニルメチル基、2,4,6−トリブロモフェニルカルボニルメチル基、ペンタフルオロフェニルカルボニルメチル基、p−(トリフルオロメチル)フェナシル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルカルボニルメチル基、o−ヒドロキシフェナシル基、m−ヒドロキシフェナシル基、p−ヒドロキシフェナシル基、o−メルカプトフェナシル基、m−メルカプトフェナシル基、p−メルカプトフェナシル基、o−メチルスルフィニルフェナシル基、m−メチルスルフィニルフェナシル基、p−メチルスルフィニルフェナシル基、o−メチルスルホニルフェナシル基、m−メチルスルホニルフェナシル基、p−メチルスルホニルフェナシル基、o−アセチルフェナシル基、m−アセチルフェナシル基、p−アセチルフェナシル基、o−ベンゾイルフェナシル基、m−ベンゾイルフェナシル基、p−ベンゾイルフェナシル基、o−メチルフェナシル基、m−メチルフェナシル基、p−メチルフェナシル基、p−エチルフェナシル基、p−プロピルフェナシル基、p−イソプロピルフェナシル基、p−t−ブチルフェナシル基、p−オクタデシルフェナシル基、p−シクロヘキシルフェナシル基、o−メトキシフェナシル基、m−メトキシフェナシル基、p−メトキシフェナシル基、p−エトキシフェナシル基、p−プロポキシフェナシル基、p−イソプロポキシフェナシル基、p−t−ブトキシフェナシル基、p−オクタデシルオキシフェナシル基、p−シクロヘキサンオキシフェナシル基、o−メトキシカルボニルフェナシル基、m−メトキシカルボニルフェナシル基、p−メトキシカルボニルフェナシル基、p−エトキシカルボニルフェナシル基、p−プロポキシカルボニルフェナシル基、p−イソプロポキシカルボニルフェナシル基、p−t−ブトキシカルボニルフェナシル基、p−オクタデシルオキシカルボニルフェナシル基、p−シクロヘキサンオキシカルボニルフェナシル基、1−ナフトイルメチル基、2−ナフトイルメチル基、9−アンスロイルメチル基、1−ピレニルカルボニルメチル基、5−ナフタセニルカルボニルメチル基、6−ペンタセニルカルボニルメチル基などがあげられる。
【0023】
置換されたアリル基としては、フッ素、ニトロ基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、C2〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基、フェニル基から選ばれる基で置換されたアリル基があげられる。
【0024】
これら置換されたアリル基の具体例としては、例えば、2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジニトロ−2−プロペニル基、3,3−ビス(トリフルオロメチル)−2−プロペニル基、3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、3−ヘキシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−オクタデシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−イソプロピル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−t−ブチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−シクロヘキシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−アセチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−ベンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−メチル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−ヘキシル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−オクタデシル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−イソプロピル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−t−ブチル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−シクロヘキシル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−アセチル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−ベンゾイル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(ヘキシルオキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(オクタデシルオキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(t−ブトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(シクロヘキシルオキシカルボニル)−2−プロペニル基などがあげられる。
【0025】
アルコキシル基としては、C1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オクタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などがあげられる。
【0026】
置換されたアルコキシル基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、水酸基から選ばれる基で置換されたC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、フルオロメトキシ基、2−クロロエトキシ基、3−ブロモプロポキシ基、4−シアノブトキシ基、8−ニトロオクチルオキシ基、18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ基、2−ヒドロキシイソプロポキシ基、トリクロロメトキシ基などがあげられる。
【0027】
アリールオキシ基としては、C6〜C18の単環、縮合多環アリールオキシ基であり、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、o−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、p−トリルオキシ基、2,3−キシリルオキシ基、3,5−キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、p−クメニルオキシ基、p−デシルフェノキシ基、p−シクロヘキシルフェノキシ基、4−フェニルフェノキシ基などがあげられる。
【0028】
置換されたアリールオキシ基としては、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基から選ばれる基で置換されたC6〜C18の単環、縮合多環アリールオキシ基であり、o−フルオロフェノキシ基、m−クロロフェノキシ基、p−ブロモフェノキシ基、p−ヒドロキシフェノキシ基、m−カルボキシフェノキシ基、o−メルカプトフェノキシ基、p−シアノフェノキシ基、m−ニトロフェノキシ基、m−アジドフェノキシ基、2−クロロ−1−ナフチルオキシ基、10−シアノ−9−アンスリルオキシ基、11−ニトロ−5−ナフタセニルオキシ基などがあげられる。
【0029】
これらR5において、好ましいものとしては、フッ素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、C1〜C4の直鎖状、分岐鎖状アシル基、C2〜C5の直鎖状、分岐鎖状アルコキシカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、p−トシル基といった電子吸引性基で置換されたベンジル基、フェナシル基、アリル基があげられる。そのような具体例としては、例えば、o−シアノベンジル基、p−シアノベンジル基、o−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、ペンタフルオロフェニルメチル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルメチル基、o−アセチルベンジル基、p−アセチルベンジル基、o−メトキシカルボニルベンジル基、p−メトキシカルボニルベンジル基、o−t−ブトキシカルボニルベンジル基、p−t−ブトキシカルボニルベンジル基、o−ベンゾイルベンジル基、p−ベンゾイルベンジル基、o−メチルスルフィニルベンジル基、p−メチルスルフィニルベンジル基、o−メチルスルホニルベンジル基、p−メチルスルホニルベンジル基、o−(p−トシル)ベンジル基、o−シアノフェナシル基、p−シアノフェナシル基、o−ニトロフェナシル基、p−ニトロフェナシル基、ペンタフルオロベンゾイルメチル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイルメチル基、o−アセチルフェナシル基、p−アセチルフェナシル基、o−メトキシカルボニルフェナシル基、p−メトキシカルボニルフェナシル基、o−t−ブトキシカルボニルフェナシル基、p−t−ブトキシカルボニルフェナシル基、o−ベンゾイルフェナシル基、p−ベンゾイルフェナシル基、o−メチルスルフィニルフェナシル基、p−メチルスルフィニルフェナシル基、o−メチルスルホニルフェナシル基、p−メチルスルホニルフェナシル基、o−(p−トシル)フェナシル基、p−(p−トシル)フェナシル基、3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、1−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル基、3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル基、シアノメトキシ基、アセチルメトキシ基、ベンゾイルメトキシ基、p−シアノフェノキシ基、ペンタフルオロフェニルメトキシ基があげられる。
【0030】
R6は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基もしくは、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状アルコキシ基、分岐鎖状アルコキシ基、環状アルコキシ基のいずれかを示す。
【0031】
該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基はR4に記載と同様の意味を表す。
【0032】
該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC1〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オクタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリブロモメトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シアノメトキシ基、ニトロメトキシ基、アジドメトキシ基などがあげられる。
【0033】
R7は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いC6〜C18の単環、縮合多環アリール基を示す。具体的には、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、9−フルオレニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−キシリル基、メシチル基、p−クメニル基、p−ドデシルフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、4−ビフェニル基、o−フルオロフェニル基、m−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、m−カルボキシフェニル基、o−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基、m−ニトロフェニル基、m−アジドフェニル基などがあげられる。
また、Zは、酸素もしくは硫黄原子を示す。
【0034】
スルホニウムカチオンとして、例えば、下記のものがあげられる。
ベンジルスルホニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(ベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−フルオロベンジル)スルホニウム、ジメチル(m−クロロベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−シアノベンジル)スルホニウム、ジメチル(m−ニトロベンジル)スルホニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニルメチル)スルホニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェニルメチル)スルホニウム、ジメチル(p−(トリフルオロメチル)ベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−ヒドロキシベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メルカプトベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルフィニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルホニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−アセチルベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−ベンゾイルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロピルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−オクタデシルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−シクロヘキシルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−メトキシベンジル)スルホニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロポキシカルボニルベンジル)スルホニウム、ジメチル(2−ナフチルメチル)スルホニウム、ジメチル(9−アンスリルメチル)スルホニウム、ジエチル(ベンジル)スルホニウム、メチルエチル(ベンジル)スルホニウム、メチルフェニル(ベンジル)スルホニウム、ジフェニル(ベンジル)スルホニウム、ジイソプロピル(ベンジル)スルホニウムなどがあげられる。
【0035】
フェナシルスルホニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(フェナシル)スルホニウム、ジメチル(o−フルオロフェナシル)スルホニウム、ジメチル(m−クロロフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−シアノフェナシル)スルホニウム、ジメチル(m−ニトロフェナシル)スルホニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニルメチル)スルホニウム、ジメチル(p−(トリフルオロメチル)フェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−メルカプトフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルフルフィニルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルホニルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(o−アセチルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(o−ベンゾイルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロピルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−オクタデシルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−シクロヘキシルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−メトキシフェナシル)スルホニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロポキシカルボニルフェナシル)スルホニウム、ジメチル(2−ナフトイルメチル)スルホニウム、ジメチル(9−アンスロイルメチル)スルホニウム、ジエチル(フェナシル)スルホニウム、メチルエチル(フェナシル)スルホニウム、メチルフェニル(フェナシル)スルホニウム、ジフェニル(フェナシル)スルホニウム、ジイソプロピル(フェナシル)スルホニウム、テトラメチレン(フェナシル)スルホニウム、ペンタメチレン(フェナシル)スルホニウム、ヘキサメチレン(フェナシル)スルホニウム、エチレンジオキシ(フェナシル)スルホニウム、ジエチレンジオキシ(フェナシル)スルホニウム、エチレンジチオ(フェナシル)スルホニウムなどがあげられる。
【0036】
アリルスルホニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(アリル)スルホニウム、ジメチル(2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(2−アセチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(2−ベンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジメチル(3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル)スルホニウムなどがあげられる。
【0037】
アルコキシスルホニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(メトキシ)スルホニウム、ジメチル(エトキシ)スルホニウム、ジメチル(プロポキシ)スルホニウム、ジメチル(ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホニウム、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(t−ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(スクロペンチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウム、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウム、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウム、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(18−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウムなどがあげられる。
【0038】
アリールオキシスルホニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(フェノキシ)スルホニウム、ジメチル(1−ナフチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ナフチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(9−アンスリルオキシ)スルホニウム、ジメチル(9−フェナントリルオキシ)スルホニウム、ジメチル(p−トリルオキシ)スルホニウム、ジメチル(2,3−キシリルオキシ)スルホニウム、ジメチル(o−フルオロフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(m−クロロフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(m−カルボキシルフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(o−メルカプトフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(p−シアノフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(m−ニトロフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(m−アジドフェノキシ)スルホニウム、ジメチル(2−クロロ−1−ナフチルオキシスルホニウム、ジメチル(11−ニトロ−5−ナフタセニル)スルホニウムなどがあげられる。
【0039】
スルホキソニウムカチオンとしては、例えば、次のものがあげられる。
ベンジルスルホキソニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(ベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ブロモベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p−シアノベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(m−ニトロベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェニルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ヒドロキシベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o−アセチルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o−ベンゾイルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p−イソプロピルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メトキシベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルベンジル)スルホキソニウム、ジメチル(2−ナフチルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(9−アンスリルメチル)スルホキソニウム、ジエチル(ベンジル)スルホキソニウム、メチルエチル(ベンジル)スルホキソニウム、メチルフェニル(ベンジル)スルホキソニウム、ジフェニル(ベンジル)スルホキソニウム、ジイソプロピル(ベンジル)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0040】
フェナシルスルホキソニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(フェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ブロモフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p−シアノフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(m−ニトロフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メルカプトフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(o−ベンゾイルフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メチルフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メトキシフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルフェナシル)スルホキソニウム、ジメチル(2−ナフチルメチル)スルホキソニウム、ジメチル(9−アンスリルメチル)スルホキソニウム、ジエチル(フェナシル)スルホキソニウム、メチルエチル(フェナシル)スルホキソニウム、メチルフェニル(フェナシル)スルホキソニウム、ジフェニル(フェナシル)スルホキソニウム、ジイソプロピル(フェナシル)スルホキソニウム、テトラメチレン(フェナシル)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0041】
アリルスルホキソニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(アリル)スルホキソニウム、ジメチル(3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホキソニウム、ジメチル(2−ベンゾイル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホキソニウム、ジメチル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホキソニウム、ジメチル(3,3−ビス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0042】
アルコキシスルホキソニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(エトキシ)スルホキソニウム、ジメチル(プロポキシ)スルホキソニウム、ジメチル(オクチルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(イソプロポキシ)スルホキソニウム、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0043】
アリールオキシスルホキソニウムカチオンとして、例えば、ジメチル(フェノキシ)スルホキソニウム、ジメチル(2−ナフチルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(9−アンスリルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(p−トリルオキシ)スルホキソニウム、ジメチル(m−クロロフェノキシ)スルホキソニウム、ジメチル(m−カルボキシフェノキシ)スルホキソニウム、ジメチル(p−シアノフェノキシ)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0044】
トリアリールスルホニウムカチオンとして、例えば、トリフェニルスルホニウム、トリス(p−トリル)スルホニウム、トリス(フェニル)スルホニウム、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウム、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウム、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウムなどがあげられる。
【0045】
トリアリールスルホキソニウムカチオンとして、例えば、トリフェニルスルホキソニウム、トリス(p−トリル)スルホキソニウム、トリス(フェニル)スルホキソニウム、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホキソニウム、トリス(p−シアノフェニル)スルホキソニウム、トリス(p−クロロフェニル)スルホキソニウムなどがあげられる。
【0046】
ホスホニウムカチオンの例としては、例えば、下記のものがあげられる。
ベンジルホスホニウムカチオンとして、例えば、トリメチルベンジルホスホニウム、トリエチルベンジルホスホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニル(p−フルオロベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(o−クロロベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ブロモベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(p−シアノベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ニトロベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(o−ヒドロキシベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(o−アセチルベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ベンゾイルベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(p−メチルベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(p−イソプロポキシベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(o−メトキシカルボニルベンジル)ホスホニウム、トリフェニル(1−ナフチルメチル)ホスホニウム、トリフェニル(9−アンスリルメチル)ホスホニウムなどがあげられる。
【0047】
フェナシルホスホニウムカチオンとして、例えば、トリメチルフェナシルホスホニウム、トリエチルフェナシルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウム、トリフェニル(p−フルオロフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(o−クロロフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ブロモフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(p−シアノフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ニトロフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(o−ヒドロキシフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(o−アセチルフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ベンゾイルフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(p−メチルフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(p−イソプロポキシフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(o−メトキシカルボニルフェナシル)ホスホニウム、トリフェニル(1−ナフチロイルメチル)ホスホニウム、トリフェニル(9−アンスロイルメチル)ホスホニウムなどがあげられる。
【0048】
アリルホスホニウムカチオンとして、例えば、トリフェニルアリルホスホニウム、トリフェニル(3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ホスホニウム、トリフェニル(2−ヘキシル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ホスホニウム、トリフェニル(2−アセチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ホスホニウム、トリフェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ホスホニウムなどがあげられる。
【0049】
アルコキシホスホニウムカチオンとして、例えば、トリフェニルメトキシホスホニウム、トリフェニルブトキシホスホニウム、、トリフェニルオクタデシルオキシホスホニウム、トリフェニルイソプロポキシホスホニウム、トリフェニル(2−クロロエトキシ)ホスホニウム、トリフェニル(4−シアノブトキシ)ホスホニウムなどがあげられる。
【0050】
アリールオキシホスホニウムカチオンとして、例えば、トリフェニルフェノキシホスホニウム、トリフェニル(1−ナフチルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(2−ナフチルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(9−アンスリルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(p−トリルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(2,3−キシリルオキシ)ホスホニウム、トリフェニル(p−ヒドロキシフェノキシ)ホスホニウム、トリフェニル(m−カルボキシフェノキシ)ホスホニウムなどがあげられる。
【0051】
ヨードニウムカチオンとしては、例えば、下記のものがあげられる。
フリルもしくはチエニルヨードニウムカチオンとしては、例えば、ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨードニウム、ビス(4,5−ジメチル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−クロロ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−シアノ−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−ニトロ−2−チエニル)ヨ−ドニウム、ビス(5−アセチル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−カルボキシ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−メトキシカルボニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−フェニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−(p−メトキシフェニル)−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−ビニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−エチニル−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−シクロヘキシル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−ヒドロキシ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−フェノキシ−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−メルカプト−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−ブチルチオ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−フェニルチオ−2−チエニル)ヨードニウムなどがあげられる。
【0052】
ジアリールヨードニウムカチオンとして、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス(p−トリル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウムなどがあげられる。
【0053】
カチオンの対イオンとなるアニオンとしては、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオンなど如きハロゲンアニオン、酢酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、硫酸アニオン、硫酸水素アニオン、メタン硫酸アニオン、トリフルオロメタン硫酸アニオン、パークロレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ヘキサクロロアンチモネートアニオン、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンなどがあげられる。
【0054】
本発明で使用する光カチオン重合性化合物[C]は、光カチオン重合開始剤〔B〕、光増感剤〔A〕のもとで光を照射して架橋または重合反応によって高分子量化する化合物である。具体的には、例えば、エポキシ化合物、スチレン類、ビニル化合物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、ビシクロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、環状エーテル類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリジン類、シクロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタム類、アルコキシシラン化合物類およびアリールジアルデヒド類などがあげられる。
【0055】
エポキシ化合物としては、従来、公知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物などがあげられる。
芳香族エポキシ化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物や、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフェノールA、テトラブロモビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテルなどがあげられる。
【0056】
脂環式エポキシ化合物としては、例えば、4−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、2,2−ビス〔4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロヘキシル〕ヘキサフルオロプロパン、BHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂(軟化点71℃)などがあげられる。
【0057】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルなどがあげられる。
【0058】
スチレン類としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレンなどがあげられる。ビニル化合物としては、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドンなどがあげられる。
【0059】
ビニルエーテル類としては、例えば、n−(またはiso−、t−)ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、2,2−ビス(4−シクロヘキサノール)プロパンジビニルエーテル、2,2−ビス(4−シクロヘキサノール)トリフルオロプロパンジビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリルビニルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エチニルビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビニルエーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、4−ビニルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、テトラブロモビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、フェノキシエチレンビニルエーテル、p−ブロモフェノキシエチレンビニルエーテルなどのアリールビニルエーテル類、1,4−ベンゼンジメタノールジビニルエーテル、N−m−クロロフェニルジエタノールアミンジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチレングリコール)ジビニルエーテルなどのアラルキルジビニルエーテル類、ウレタンポリビニルエーテル(例えば、ALLIED−SIGNAL社製、VECtomer2010)などをあげることができる。
【0060】
スピロオルソエステル類としては、例えば、1,4,6−トリオキサスピロ(4,4)ノナン、2−メチル−1,4,6−トリオキサスピロ(4,4)ノナン、1,4,6−トリオキサスピロ(4,5)デカンなどが、ビシクロオルソエステル類としては、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ(2,2,2)オクタン、1−エチル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ(2,2,2)オクタンなどが、スピロオルソカーボネート類としては、1,5,7,11−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカンなどのような環状エーテル類があげられる。
【0061】
環状エーテル類としては、例えば、オキセタン、フェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒドロフラン類、テトラヒドロビラン、3−プロピルテトラヒドロビランなどのテトラヒドロビラン類およびトリメチレンオキサイド、s−トリオキサンなどがあげられる。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラクトンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキサゾリン、2−フェニルオキサゾリン、2−デシルオキサゾリンなどがあげられる。
【0062】
アジリジン類としては、例えば、アジリジン、N−エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン類としては、例えば、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類としては、例えば、1,3−ジオキソラン、1,3−ジオキサン、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン、2−フェニル−1,3−ジオキサン、2,2−ジオクチル−1,3−ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸などがあげられる。また、ラクタム類としては、例えば、β−プロピオラクタム、γ−ブチロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられる。また、アリールジアルデヒド類としては、例えば、1,2−ベンゼンジカルボキシアルデヒド、1,2−ナフタレンジアルデヒドなどがあげられる。これらのものは単独でもまた2種類以上混合しても一向にかまわないものである。
【0063】
本発明の硬化性組成物の配合割合は、光カチオン重合性化合物〔C〕100重量部に対して、光増感剤〔A〕が0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部の範囲、光カチオン重合開始剤〔B〕が0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部の範囲が望ましい。
【0064】
光増感剤〔A〕が光カチオン重合性化合物〔C〕100重量部に対して0.01重量部未満になると硬化性が低下し、一方10重量部を超えると値段が高くなったり耐水性等の塗膜性能が低下したりするので好ましくない。
【0065】
また、光カチオン重合開始剤〔B〕が光カチオン重合性化合物100重量部に対して0.01重量部未満になると硬化性が低下し、一方20重量部を超えると値段が高くなったり耐水性等の塗膜性能が低下したりするので好ましくない。
【0066】
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を配合することができる。該紫外線吸収剤とは、400nm以下の紫外線を吸収する物質である。このものとしては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系が特に好ましい。具体的には、チヌビン144、チヌビン292、チヌビン327、チヌビン770、チヌビン900(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製品)、サイアソーブUV531(American Cyanamid Corp.社製品)などがあげられる。また、その他セリウム塩系、二酸化チタン系のものも使用できる。
【0067】
本発明の硬化性組成物は必要に応じて、上記以外の樹脂、充填剤、着色剤、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、光安定剤、酸化防止剤、ゲル粒子、微粒子粉などを配合しても一向に差し支えない。
【0068】
本発明の硬化性組成物は、金属、缶、プラスチック、紙、木質材、無機質材、PETなどのフィルムおよびこれらの組合せなどの基材に塗料、インキとして適用することができる。
【0069】
本発明の塗膜形成方法は、上記した基材の表面に、上記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布量が硬化膜厚で1〜100μmになるように塗布し、次いで活性エネルギー線を照射して硬化させることができる。
【0070】
本発明でいう活性エネルギー線とは、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、白熱電球、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマー、レーザー、電子線、γ線などが使用できる。
【0071】
【実施例】
実施例を掲げてさらに詳細に述べる。なお、合成例、実施例、比較例中の「部」及び「%」は重量基準である。
【0072】
合成例1
9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンの合成:
氷浴上で窒素気流下、300mlの4つ口フラスコ中に、1,4,4a、9aーテトラヒドロアントラキノン20部、ジメチル硫酸27部、及びメタノール50部を添加し混合した。
得られた混合液に30℃以下で30%苛性ソーダ水溶液30部を60分間かけて徐々に添加し、添加終了後、更に室温で60分間反応させた。
反応終了後、析出した結晶を吸引濾過し、単離した結晶をメタノール及び水で十分に洗浄した後、乾燥させ9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(収量19.1部、融点155℃)を得た。本化合物はIR、NMR、MASSスペクトルにより構造確認を行なった。
【0073】
合成例2
9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンの合成:
ジメチル硫酸の代わりに、ジエチル硫酸32.3部を使用した以外は合成例1と同様にして、9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(収量17.9部、融点120℃)を得た。
【0074】
合成例3
9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセンの合成:
ジメチル硫酸の代わりに、ジプロピル硫酸38.6部を使用した以外は上記合成例1と同様にして、9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(収量15.5部)を得た。
【0075】
実施例1
合成例1で得られた9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(光増感剤)2部、DAICAT−11(ダイセル化学工業社製品、商品名、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェイト塩、光カチオン重合開始剤)4部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート100部を添加混合して活性エネルギー線硬化型組成物(I)を得た。
この組成物(I)をブリキ板の上に塗装し、分光照射を行なった。分光照射器は日本分光工業社製CRM−FAを使用し、200nm〜700nmの光を照射してこの組成物の硬化範囲を調べた。この結果、分光感度は、205nm〜460nmまで得られた。
別に、上記組成物(I)をガラス板に塗装し、メタルハライドランプで200mJ/cm2の光を照射した。得られた塗膜のゲル分率は85%で、鉛筆硬度は3〜4Hであった。
【0076】
比較例1
実施例1において、9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンを添加していない以外は、実施例1と同様にして比較例1の組成物を得た。このものは、215nm〜400nmの範囲の分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率は78%で、鉛筆硬度は2Hであった。
【0077】
実施例2
エポキシ含有アクリル共重合体(スチレン/メチルメタクリレート/グリシジルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリルアクリレート=16/19/50/15、数平均分子量4,000、分子量1,000当り3.5のエポキシ基含有)18部、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート20部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート42部、リモネンジオキサイド20部、合成例2で得られた9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(光増感剤)1部、UVI−6990(ユニオンカーバイド社製品、商品名、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェイト塩、光カチオン重合開始剤)5部、二酸化チタン30部を添加、混合分散して白エナメル塗料(II)を得た。
この塗料(II)をアルミニウム板にバーコータにより厚さ10μmとなるように塗装して分光照射を行なった。
分光感度は、230nm〜440nmまで得られた。
別に、この白エナメル塗料(II)をテインフリースチール(TFS)の上にポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムをラミネートした基材の上に厚さ8μmとなるようにロールコーターで塗装を行ない、メタルハライドランプで300mJ/cm2の露光量の光の照射を行ない、塗膜の硬化を行なった。
得られた塗膜の鉛筆硬度は2Hであり、ゲル分率は84%で良好であった。
【0078】
比較例2
実施例2において、9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンを添加していない以外は、実施例2と同様にして比較例2の組成物を得た。このものは、250nm〜370nmの分光感度であった。
得られた塗膜のゲル分率は43%で、鉛筆硬度は6B以下で劣っていた。
【0079】
実施例3
合成例1で得られた9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン(光増感剤)1.5部、P,P′−ビス((トリフェニルフォスホニル)メチル)ベンゾフェノンヘキサフルオロアンチモネート4部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート60部、TONE Polyol 0301(ユニオンカーバイド社製品、商品名、ε−カプロラクトントリオール、OH価100KOHmg/g)10部、アクリル共重合体(スチレン/メチルメタクリレート/n−ブチルアクリレート/2−エチルヘキシルメタクリレート/3−メタクリロオキシメチル−3−エチルオキセタン=20/10/15/15/40、数平均分子量4,500、分子量1,000当り、オキセタン環2.3個含有)10部、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン10部、二酸化チタン25部を添加、混合分散して、白エナメル(III)を得た。
この白エナメル(III)をアルミニウム板に厚さ6μmとなるように塗装し、200nm〜700nmの波長の光を分光照射して硬化性を調べた。
この結果、210nm〜450nmまでの範囲で塗膜は硬化反応が起こった。
この白エナメルをポリカーボネート板に厚さ18μmとなるように塗装し、メタルハライドランプにより500mJ/cm2照射した。得られた塗膜の鉛筆硬度は4Hであり、ゲル分率は90%で良好であった。
【0080】
比較例3
実施例3において、9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンを添加していない以外は、実施例3と同様にして比較例3の組成物を得た。このものは、220nm〜360nmの分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率は56%で、鉛筆硬度は3Bで劣っていた。
【0081】
実施例4
合成例3で得られた9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセン2部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート80部、ジエチレングリコールジビニルエーテル20部、PI−2855(日本曹達社製品、商品名、スルホニウム塩系光カチオン重合開始剤)5部、二酸化チタン40部を添加、混合分散して白エナメル(IV)を得た。
この白エナメル(IV)をブリキ板に塗装して、200nm〜700nmの波長の光を分光照射した。
別に、アルミニウム板にこの白エナメルをロールコーターで厚さ10μmとなるように塗装し、ガリウムメタルハライドランプで400mJ/cm2照射して塗膜を硬化させた。鉛筆硬度は4Hであり、ゲル分率は92%であった。
【0082】
比較例4
実施例4において、合成例3で得られた9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセンを添加していない以外は、実施例4と同様にして比較例4の組成物を得た。このものは、230nm〜340nmの分光感度であった。
得られた塗膜のゲル分率は32%で、鉛筆硬度は6B以下で劣っていた。
【0083】
実施例5
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート50部、キシリレンジオキセタン20部、アクリル共重合体(3−メタクリロオキシメチル−3−エチルオキセタン/3−アクリロキシメチル−3−エチルオキセタン/3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート/スチレン/メチルメタクリレート=10/20/30/20/20、数平均分子量4,000、Tg:70℃)13部、リモネンジオキサイド17部、合成例2で得られた9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセン2部、PI−2074(ローヌプーラン社製、商品名、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(トルイルクミル)ヨードニウム塩、光カチオン重合開始剤)3部、二酸化チタン50部、サイアソーブUV531(アメリカンサイアナシド社製品、商品名、紫外線吸収剤)1部を添加混合して白エナメル(V)を得た。
この白エナメル(V)をブリキ板に塗装し、200nm〜700nmまで分光照射を行なった。320nm〜450nmまでの波長で塗膜の硬化が得られた。
別に、この白エナメル(V)をABS樹脂に厚さ20μmとなるように塗装し、ガリウムメタルハライドランプにより600mJ/cm2照射した。
得られた塗膜の鉛筆硬度は2Hであり、ゲル分率は94%であった。
【0084】
比較例5
実施例5において、合成例2で得られた9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンを添加していない以外は、実施例5と同様にして比較例5の組成物を得た。このものは、360nm〜400nmの分光感度であった。この塗膜を実施例5と同じ光照射を行なったが、硬化せず劣っていた。
【0085】
【発明の効果】
本発明の組成物は活性エネルギー線硬化型組成物として特定の光増感剤を含有することから硬化性、表面硬度、基材に対する付着性、耐溶剤性等に優れた被膜を形成することができる。
Claims (6)
- 上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジメトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
- 上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジエトキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
- 上記硬化型組成物において、光増感剤〔A〕が9,10−ジプロポキシ−1,4−ジヒドロアントラセンであることを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
- 上記硬化型組成物において、紫外線吸収剤〔D〕を配合してなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物。
- 基材表面に、上記請求項1乃至5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物を塗布量が硬化膜厚で1〜100μmになるように塗布し、次いで活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする被膜形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25615599A JP4201440B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25615599A JP4201440B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001081116A JP2001081116A (ja) | 2001-03-27 |
JP4201440B2 true JP4201440B2 (ja) | 2008-12-24 |
Family
ID=17288682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25615599A Expired - Fee Related JP4201440B2 (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4201440B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4992167B2 (ja) * | 2001-06-22 | 2012-08-08 | 川崎化成工業株式会社 | アントラセンジエーテルの製造方法 |
JP4720318B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2011-07-13 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
JP4692874B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2011-06-01 | 川崎化成工業株式会社 | 1,2,3,4−テトラヒドロアントラセン−9,10−ジエーテル及びその製造法 |
JPWO2007126066A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2009-09-10 | 川崎化成工業株式会社 | 光重合開始剤及び光硬化性組成物 |
JP4961856B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2012-06-27 | 川崎化成工業株式会社 | 1,4−ジヒドロ−9,10−アントラセンジイル(メタ)アクリレート化合物およびその製造方法 |
JP4952084B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2012-06-13 | 川崎化成工業株式会社 | 1,4−ジヒドロ−アントラセン誘導体およびその製造方法 |
JP5559033B2 (ja) * | 2007-04-13 | 2014-07-23 | スリーディー システムズ インコーポレーテッド | 二元光開始剤、光硬化型組成物、三次元物品製造へのこれらの使用、および製造方法 |
JP5039442B2 (ja) * | 2007-06-15 | 2012-10-03 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 |
JP5157800B2 (ja) * | 2008-10-03 | 2013-03-06 | 川崎化成工業株式会社 | 新規な1,4−ジヒドロアントラセン−9,10−ジエーテル化合物 |
JP5339048B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2013-11-13 | 川崎化成工業株式会社 | 光カチオン重合性を有する光重合増感剤 |
WO2014109212A1 (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-17 | 株式会社ダイセル | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
KR102352992B1 (ko) * | 2014-03-18 | 2022-01-19 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 조성물, 경화막, 표시 소자 및 착색제 분산액 |
JP2016114926A (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂組成物、それで構成される硬化部材、及びそれを備えた画像表示装置 |
JP6686336B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2020-04-22 | 川崎化成工業株式会社 | 光重合性組成物 |
-
1999
- 1999-09-09 JP JP25615599A patent/JP4201440B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001081116A (ja) | 2001-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4201440B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物およびその組成物を使用してなる被膜形成方法 | |
JP3797348B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化組成物 | |
JP5156620B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物 | |
JP6228289B1 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子封止用組成物 | |
JP4753601B2 (ja) | 感光性組成物 | |
US20090286000A1 (en) | Jet ink and ink jet printing process | |
US7709548B2 (en) | Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product | |
JP4003264B2 (ja) | オキセタニル基を有する化合物およびその製造方法ならびに該化合物からなる活性エネルギー線硬化型組成物 | |
JPH10147608A (ja) | 光触媒組成物 | |
JP2003252979A (ja) | カチオン重合性組成物 | |
JP3770274B2 (ja) | エポキシ化合物 | |
JP2000204284A (ja) | 活性エネルギ―線硬化型組成物およびその被膜形成方法 | |
JPWO2006022153A1 (ja) | カチオン重合性組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びカチオン重合性組成物の製造方法 | |
JP2019001995A (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、有機el発光装置の製造方法及び有機el発光装置 | |
JP5699835B2 (ja) | 硬化性組成物並びにこれを用いたコーティング用組成物、及びこれらの硬化物 | |
EP1856217B1 (en) | Energy-curable coating compositions | |
EP1856214B1 (en) | Energy-curable coating compositions | |
KR100748149B1 (ko) | 광양이온 중합성 수지 조성물 및 광디스크 표면 보호용재료 | |
JP4569095B2 (ja) | カチオン重合性組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、カチオン重合性組成物の製造方法及び活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの製造方法 | |
JP7489612B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、発光装置の製造方法及び発光装置 | |
WO2022030276A1 (ja) | 光カチオン硬化性組成物および歯科用硬化性組成物 | |
JP2005194357A (ja) | カチオン重合性組成物、放射線硬化型インクジェット用インクおよびカチオン重合性組成物の安定化方法 | |
JP2005343847A (ja) | 感エネルギー線酸発生組成物 | |
JP2021116356A (ja) | 光カチオン硬化性組成物 | |
JP2006089722A (ja) | カチオン重合性組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びカチオン重合性組成物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060628 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080922 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080930 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081007 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111017 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121017 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141017 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |